中国芯片制造技术突破,65纳米光刻机登场,国产化进程加速

当前，我们的光刻机是干式光刻机，未来的目标是研发浸润式光刻机，这种光刻机将芯片分辨率进一步提升，甚至可能达到36.5纳米。荷兰的ASML公司便是凭借从干式光刻机到浸润式光刻机的升级，取得了显著成功。如果我们也能成功研发出浸润式光刻机，那么我国的芯片制造水平将大幅提升。除了光刻机技术的突破，我们在光刻...

传台积电、三星接连断供7纳米芯片,国产光刻机要加速了

功夫不负有心人，在各方力量的努力下，我们顺利实现了28纳米光刻机的自研突破，虽然它和全球顶尖的3纳米光刻技术相比还存在不小的差距，但已经开启了中国半导体产业历史上的新篇章。从市场应用前景来看，28纳米光刻机已经能够满足许多主流芯片的需求，特别是在汽车、物联网等领域，这一技术已经非常实用且有着巨大的...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

01中国自主研发的氟化氩光刻机顺利问世,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平。02该成果打破了荷兰阿斯麦公司的技术垄断,对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略构成有力回击。03由于此突破,荷兰政府开始担忧失去我国市场的潜在危机,光刻机市场的变局从依赖到自主掌控。04此外,我国在光刻机领域的突破对...

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

更让人兴奋的是，2024年9月的时候，工信部发布消息说，中国研制出了两台新光刻机呢。氟化氩光刻机里比较先进的那种，照明波长是193nm，分辨率最多是65nm，套刻最多是8nm。看这台光刻机的技术参数就能知道，我国的光刻机技术有重大突破了，它8纳米的套刻精度在全球都算比较高的。这款新的国产光刻机一问世，...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

尽管中国的65纳米光刻机尚未达到ASML最先进的7纳米机型的水准,但这一突破标志着中国已经具备了制造芯片关键设备的能力。未来,随着国产光刻机技术的迭代更新,西方国家的技术垄断地位将受到更大的挑战。中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

专家解读65纳米光刻机的分辨率近期,互联网上关于“65纳米光刻机”的讨论颇为热烈,但诸多言论缺乏权威依据,导致不少人对这一技术概念的理解愈发模糊(www.e993.com)2024年11月24日。有人仅凭“8纳米套刻精度”来阐释65纳米光刻机的分辨能力,这种简化处理加深了混淆。幸运的是,随着科普工作的推进,大众逐渐达成一项共识:提及的65纳米分辨率、搭...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

民众热切期盼国产光刻机技术取得突破,这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域,国产光刻机究竟走到哪一步了?“在西方技术层层封锁下,国产8纳米光刻机横空出世!”“工信部官宣14nm国产光刻机,距离ASML的EUV光刻机还有多远?”...

中国首台国产光刻机交付,突破西方的技术垄断后,美国能接受吗

美国为了打压中国芯片领域的发展,使用了多种手段,在几年前就限芯,还施加压力给荷兰阿斯麦,不让其把先进的光刻机设备提供给中国,现在中国首台国产“SMEE”光刻机交付,是上海微电子研发建造的,在突破了西方的技术垄断之后,一个奇怪的现象发生了。美国一直都对中国芯片领域的发展速度感到不安,认为中国的发展速度,会...

厉害了!俄罗斯首台光刻机制造完成,可生产350纳米工艺的芯片

5月25日,据塔斯社报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试!消息显示,该设备可生产350纳米工艺的芯片!消息强调,350纳米芯片可用于汽车、能源和电信等多个行业,而且俄罗斯接下来的目标是在2026年制造出130纳米工艺的光刻机!目前,我国可以生产7纳米芯片,但仍有很多人指出远远落后于欧美国家。其实,...

港媒:国产光刻机公布重大技术突破,但半导体自给之路仍任重道远

近日,香港知名国际媒体《南华早报》刊载文章称,根据中国工业和信息化部(MIIT)的消息,中国近期推出了两种国产的半导体光刻机械,这些设备在深超紫外(DUV)光刻技术上取得了重大的技术突破,并且拥有自主知识产权。这两种机械尚未有过公开的市场表现,但据可靠消息称,其中一种能够在193纳米(nm)波长下工作,分辨率低于65nm,重...