国产芯片突破5纳米,美芯巨头直接将订单延续至2026年

不仅仅是5纳米工艺，通富微电在7纳米工艺上的发展也取得了显著成效。虽然7纳米的技术相对5纳米略逊一筹，但依然是全球高性能芯片制造中的重要技术之一。在很多场景中，7纳米芯片依旧具有广泛的应用，尤其是在对计算能力要求较高的领域。因此，通富微电在这一领域的积累无疑为其未来的技术拓展奠定了坚实的基础。AMD...

国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

然而，现在我们终于研发出了自己的5纳米光刻机。这项技术虽然艰辛，但却为国内半导体产业带来了巨大的希望。通过浸润式DUV光刻技术的应用，中国的光刻机性能得到了质的飞跃。这不仅提升了生产效率，更打破了长期以来对外部技术的依赖，确保了我们在全球竞争中的生存空间。研发这种设备的过程可谓如履薄冰。无数科研人员...

全球芯片巨头台积电面临新挑战:产业未来何去何从?

在先进制程技术上,3纳米的芯片制造几乎完全被其垄断,而在7纳米及以下的技术领域,该公司更是达到了90%的市场占有率。如此强大的市场竞争力,自然引起了国际竞争者的高度关注,围绕台积电的争夺战已悄然开启。台积电创始人张忠谋近日表示,台积电已成为全球布局的“兵家必争之地”,面对各国政府和企业的竞争,全球化的浪潮已...

深度解读:美国“芯片法案”,对中国芯片产业究竟意味着什么?

据英国广播公司(BBC)报道,在过去一段时间中,所有美国设备制造商都收到美国商务部的信函,通知他们不要向中国供应用于14纳米或以下芯片制造的设备。美国芯片设备厂商泛林半导体主席兼CEO蒂姆·阿切尔在7月27日的财报会上表示,美国对华技术出口管制范围将进一步扩大至生产14纳米以下芯片的代工厂。芯谋研究首席分析师顾文军...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机，西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到，中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来，光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”，其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

报告称到2032年中国将生产28%的10纳米以下芯片 但先进制程预计...

例如,对于10至22纳米的芯片,到2032年,中国的生产能力份额将增加两倍,从6%增加到19%(www.e993.com)2024年11月9日。报告称,对于28纳米以上的芯片,预计中国的份额增幅最大,将从2022年的33%增至2032年的37%。同时,美国对中国半导体出口的管制,尤其是对尖端芯片和芯片制造工具的管制,也是中国将远远落后于美国的部分原...

芯片制造难不难:1、3nm只是文字科技,3nm原来是23纳米

虽然中国目前尚未掌握最先进的EUV光刻机技术,但依靠现有的DUV(深紫外光刻)光刻机,已经能够满足中低端芯片的市场需求。DUV光刻机的成熟应用,使得28nm及以上节点的芯片制造得以顺利进行。通过多重曝光技术可以造出等效工艺7nm的芯片。通过以上介绍,我们了解到所谓的3nm、1nm工艺节点并不代表实际的物理尺寸,而是反映了晶...

【新华社】我国科学家开发出可规模制造的光子芯片材料

光子芯片是未来信息产业的重要基础,业界一直在寻找可规模制造光子芯片的优势材料。中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣领衔的团队在该领域取得突破性进展,他们开发出钽酸锂异质集成晶圆,并成功用其制作高性能光子芯片。该成果5月8日发表于国际学术期刊《自然》。

科技企业高管说:我国芯片技术能解决7纳米已很了不起,3/5纳米不容易!

台积电尚且无法实现以DUV光刻机生产5纳米,这里的专家却不断吹嘘可以DUV光刻机生产5纳米,甚至突破到3纳米,事实上,对于国产半导体厂商来说,未来很长时间想要生产7nm及其以下的芯片依然是困难的。目前,中国的芯片虽然设计、封测能达到3nm水平,但最关键的生产能力还在10nm~28nm成熟制程之间发力。不过,对于绝大多数...

苹果A14是几纳米芯片 相当于天玑多少?

A12Z使用较旧的七纳米工艺制造。另一方面,A14是第一个使用5纳米制造工艺制造的商用芯片。这主要是因为该芯片比A12Z更新了两代,并且它允许芯片更密集地封装118亿个晶体管。相比之下,2019年的A13拥有85亿个晶体管。对于单核任务,A14的性能比A12Z高30%左右。A14更高的1.8GHz核心频率和3.01GHz升压能...