美媒:能让阿斯麦瘫痪台积电光刻机,结果阿斯麦一天蒸发600亿

台积电是全球最大的芯片代工厂，掌握着全球90%以上的先进芯片产能。其EUV光刻机主要用于制造5纳米及以下制程的高端芯片，而这些芯片广泛应用于手机、服务器、自动驾驶等领域。美国非常担心台海局势的升级可能影响到台积电的正常运作。美国政府希望通过阿斯麦的技术手段，确保在台海局势恶化的情况下，能够远程瘫痪台积电的设备...

台积电年底迎神器,高NA EUV光刻机即将到位,芯片江湖要变天?

最后啊，我想说的是：这台积电接收首批高NAEUV光刻机啊，不仅是台积电自己的大事，也是整个芯片界的大事。它标志着芯片制造技术的又一次飞跃，也预示着芯片江湖即将迎来一场新的变革。咱们啊，就拭目以待吧！看看这台积电到底能搞出啥大动静来！

27亿一台!台积电大手笔购买最先进光刻机,目标直指1nm芯片!

而这台光刻机呢，它的精度和性能都达到了前所未有的高度。它能够制造出1纳米级别的芯片，这是目前世界上最先进的芯片工艺之一。想象一下，1纳米是多小啊！咱们平时用的头发丝直径都有好几十纳米呢！这光刻机得有多精密，才能制造出这么细小的芯片啊！四、台积电为啥剑指1nm芯片？再来说说台积电为啥剑指1nm芯片。

台积电用旧光刻机生产1.6纳米,中国成ASML先进光刻机的救命稻草

EUV光刻机难卖,ASML就寄望于刚刚研发成功的2纳米EUV光刻机,2纳米EUV光刻机售价高达3.8亿美元,第一代EUV光刻机售价1.2亿美元,ASML期待着台积电、三星和Intel争抢2纳米EUV光刻机,如此将确保它的业绩增长。然而如今台积电却宣布采用原有的EUV光刻机生产1.6纳米,这就让ASML难受了,台积电为全球最大的芯片代工厂,如...

34亿一台!台积电购买最先进光刻机,剑指1nm芯片!

34亿一台的芯片光刻机超级怪兽要来了!据悉,全球第三台High-NAEUV光刻机即将落地台积电工厂,后者开始为生产1纳米芯片做准备。一旦能达成量产,又要大幅拉大和我们差距了!台积电购买光刻机众所皆知,阿斯麦作为全球光刻机巨头,尤其在EUV光刻机领域,更是独领风骚。

消息称台积电月底将接收首台高数值孔径极紫外光刻机 单价约3.8亿...

从外媒的报道来看,台积电月底从阿斯麦接收的首台高数值孔径极紫外光刻机,是TWINSCANEXE:5000型号(www.e993.com)2024年11月27日。虽然外媒在报道中称台积电月底就将从阿斯麦接收首台高数值孔径的极紫外光刻机,但他们也提到,台积电是计划在1.4nm制程工艺上开始采用这一类的光刻机,他们的1.4nm制程工艺计划在2027年量产。

台积电被放弃,ASML向英特尔运送首台2nm光刻机,工艺之争重来?

0.55NA的光刻机,看起来提升的并不多,但是它对光学镜头、掩膜版、光刻胶有着巨大的性能要求,尤其是光学镜头。蔡司作为光学镜头的龙头企业,在该领域打磨了上百年,是EUV光刻机的独家供应商,也是新一代EUV光刻机的重要支持者。经过产业链的共同努力,2nm光刻机成功实现了量产,未来台积电、三星、英特尔将使用这些设...

台积电获最先进光刻机 3.8亿美金巨资打造

ASML计划在今年内向台积电提供其最尖端的光刻机,每台设备的造价高达3.8亿美元。这一消息透露出半导体制造技术的最新进展。在近期的一场电话会议中,ASML的首席财务官RogerDassen与分析师分享,台积电和英特尔这两大行业巨头,预期将于2023年底之前接收先进的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻系统。

台积电不用新一代EUV光刻机!2030年的1nm再说

台积电不用新一代EUV光刻机!2030年的1nm再说Intel已开始接收ASML提供的新一代高数值孔径(High-NA)极紫外光(EUV)光刻机,预计该技术将在Intel18A工艺节点之后得到应用。这表示它将用于制造小于1.8纳米的芯片,预计时间框架为2026至2027年。Intel首席执行官基辛格透露了其中一个新节点可能相当于1.5纳米工艺水平,...

台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机,用于制造1nm芯片

据DigiTimes报道,来自于晶圆厂工具制造商的消息证实,台积电要等到1nm制程节点才会使用High-NAEUV光刻机,可能是出于对成本的考虑。根据台积电之前公布的路线图,1.4nm级A14工艺的推出时间大概在2027年至2028年之间,而1nm级A10工艺的开发预计会在2030年前完成。