美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

氟化氩光刻机里比较先进的那种，照明波长是193nm，分辨率最多是65nm，套刻最多是8nm。看这台光刻机的技术参数就能知道，我国的光刻机技术有重大突破了，它8纳米的套刻精度在全球都算比较高的。这款新的国产光刻机一问世，好多外国媒体都惊叹中国先进技术的发展速度真快。还有啊，光刻机的研制牵扯到好多不同的...

重大突破!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

然而，近日我们迎来了一则令人振奋的消息：国内已成功研发出具有自主知识产权的光刻机，这款28纳米光刻机的顺利交付，被众多人士喻为学习骑车时迈出的第一步，标志着我国在自主芯片制造领域迈出了坚实的步伐。尽管这款光刻机与ASML的顶尖设备相比仍存在一定的差距，但它的诞生却意味着我们已掌握了生产的主动权。未来...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来,光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国终于有了自己的7nm光刻机,可以造出自己的7nm芯片,不怕再被卡脖子了。可是,还有人说:别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点,它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平,努努力最多也就能够到28nm,离7nm还远得很。两种声音,两种节奏。不知道,你听完是什么感觉?“造出7nm芯片”,到底是个什...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

当前,中国正在全力推进光刻机技术的研发,虽然道路艰辛,但每一步进展都值得肯定。从28纳米到14纳米,再到更先进的工艺,中国的光刻机技术正在一步步追赶世界先进水平。这个过程可能需要时间,但只要坚持不懈,突破终将到来。

3年前ASML曾断言,中国将自产光刻机,如今三年到了,我国怎样了

华为不久前上市的机型已经用上了EUV技术生产的7纳米芯片,下一代则此基础上又缩减2纳米,即将上市的新机型甚至可能采用3纳米精尖工艺,可见更新迭代之快(www.e993.com)2024年11月11日。众所周知,华为就是由于芯片核心技术遭到美国制裁才短暂沉寂几年的,目前,我国在EUV光刻机领域依旧被卡着脖子。

专家访谈精华:国产光刻机突破65纳米

建议的设备分辨率为65纳米或更高,相比此前最先进的国产设备(上海微电子的90纳米光刻机),实现了重大提升。■该公告虽未提及具体供应商,但包括氧化炉、干法刻蚀机等设备在内的多个国产芯片制造设备已被推荐使用。■当前,中国的芯片制造设备研发依然面临挑战,特别是与阿斯麦(ASML)等国际领先供应商的技术差距,尽管...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

项立刚:下一代光刻机一定由中国先制造,光刻机或将实现弯道超车

也就是我们所说的X射线,这种光刻机使用的波长小于10纳米,甚至可以达到0.01纳米,有望实现更精细的图案转移。这无不在表示,一场“新革命”或将发生。中国光刻机即将实现自给自足?国产芯片“造不如买”早已是过去式了,现如今是“买不如造”。与其购买其他国家的产品,还不如自己造出来更实用、更放心、更安全...

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

俄罗斯造出光刻机,可量产350纳米芯片5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。俄罗斯曾经号称世界第二军事强国,但在半导体领域却落后西方至少25年。百业凋零的俄罗斯,越来越依赖中国。