重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

可以说，28纳米光刻机的顺利交付，不仅仅是一次技术上的“跨越”，更是一次产业链的全面提升。它代表着中国在“芯片制造”自主化道路上迈出了坚实的一步。正如业内专家所说：“28纳米工艺虽然不如最前沿的3纳米技术，但它在当前全球市场中依然占据着举足轻重的地位。”这让我们有理由相信，中国的芯片产业正在逐步减...

终于破冰!氟化氩光刻机有多牛?8纳米工艺可以量产了?

氟化氩光刻机采用193纳米波长的光源，通过特殊的光学系统和精密的机械结构，实现了对芯片表面微小结构的精确刻蚀。其分辨率小于或等于65纳米，足以满足当前及未来一段时间内，对于7纳米及以上制程节点芯片的生产需求。这一技术的突破，不仅极大地提升了中国芯片制造的能力，更为中国在全球半导体产业链中争取到了更多的话语...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

01中国自主研发的氟化氩光刻机顺利问世,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平。02该成果打破了荷兰阿斯麦公司的技术垄断,对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略构成有力回击。03由于此突破,荷兰政府开始担忧失去我国市场的潜在危机,光刻机市场的变局从依赖到自主掌控。04此外,我国在光刻机领域的突破对...

中国台湾宣称要限制2nm芯片技术出口,日本如何还能分一杯羹?

这款0.33NAEUV光刻机，具体型号为NXE:3800E。该光刻机的功能主要是用于先进制程的芯片生产，能够生产2纳米及更小尺寸的芯片。Rapidus计划于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将包括EUV光刻机在内的200余台设备。按照Rapidus计划，2027年，公司开始量产2纳米芯片，并有可能进一步生产1.4纳米芯片。除Rapid...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

尽管中国的65纳米光刻机尚未达到ASML最先进的7纳米机型的水准,但这一突破标志着中国已经具备了制造芯片关键设备的能力。未来,随着国产光刻机技术的迭代更新,西方国家的技术垄断地位将受到更大的挑战。中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

这种光刻机的价格高达2亿美元,而且交付周期长达18个月(www.e993.com)2024年11月27日。它的稀缺性和重要性使得它成为了国际科技竞争的焦点。然而,在这场技术角逐中,中国并非毫无作为。上海微电子装备公司已经取得了可喜的进展,成功研制出了能够制造28纳米芯片的光刻机。虽然这与最先进的3纳米工艺还有一定差距,但中国正在积极研发更先进的光刻...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

9月9日,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞...

ASML CEO:中国不可能造出7nm及以下先进光刻机!

近日,ASML(阿斯麦)公司的首席执行官克里斯托夫-福凯在接受媒体采访时表示,尽管中国芯片制造业在产能上持续增长,但在高端半导体技术方面,尤其是7纳米及以下级别的先进光刻机,中国厂商仍面临巨大挑战,目前看来几乎不可能实现自主生产。福凯首先强调了全球对中国制造“传统芯片”的需求,并指出这些芯片对于填补全球尤其是欧洲...

中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!

在这些努力的推动下,中国光刻机制造已经取得了显著进展。2023年,中国成功研制出了28nm光刻机,这是一个重要的里程碑。虽然与世界最先进的5nm甚至3nm光刻机相比还有差距,但这个成果证明了中国在这一领域的实力和潜力。精度问题是光刻机研发中的一个关键挑战,但专家们认为,克服这个问题只是时间问题。

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

根据官方公开的信息可知,中国上海微电子公司已经量产了90纳米分辨率的SSX600系列光刻机,28纳米分辨率光刻机大概率也会在2024年取得突破。而28纳米级芯片,正是目前制造业需求量最大的,毕竟5纳米、3纳米级芯片目前还存在成本高、良品率较低等问题,不适合在全社会铺开,家电、汽车、雷达、飞机使用28纳米级芯片已经完全...