带你重新认识光刻机的巨头——ASML,这是它的创业故事

20世纪末,当时先进的制程工艺从130纳米来到90纳米,晶圆尺寸从8英寸来到12英寸,光刻机的波长也从248纳米进入193纳米。用干式193纳米(波长)光刻机,极限的制程工艺是65纳米。怎么做出40纳米以下制程的芯片,所有半导体专家都在探索。当时给出的方案包括157纳米F2激光、电子束投射、离子投射、EUV(13.5纳米)和X光等。