拓荆科技半导体先进工艺装备研发与产业化项目结构封顶

上海地产闵虹集团消息显示,该项目建筑面积约10万㎡,用于开发先进的ALD薄膜工艺技术及高产能设备平台,并实现以临港为中心客户群所需半导体设备的产业化。拓荆科技(上海)有限公司(以下简称“拓荆科技”)成立于2020年12月,是拓荆科技股份有限公司在临港设立的全资子公司。拓荆科技主要从事高端集成电路薄膜装备的研发、...

专家谈:ALD、PVD工艺设备在钙钛矿叠层电池技术中的应用与进展...

ALD在高效电池应用中的优势原子层级厚度控制;高密度超薄薄膜,无针孔;100%保型性;低温工艺;低TMA耗量;新薄膜材料;纳米叠层、原位掺杂;IdealforInterfaceEngineeringALD+钙钛矿叠层应用钙钛矿叠层电池稳定性钙钛矿叠层电池–微导解决方案*上海有色(SMM)原创资讯,转载请保留原文链接:httpsnews.smm...

全球与中国原子层沉积(ALD)设备行业发展规模及前景趋势预测报

(1)中国原子层沉积(ALD)设备行业兼并与重组事件汇总(2)中国原子层沉积(ALD)设备行业兼并与重组类型及动因(3)中国原子层沉积(ALD)设备行业兼并与重组案例分析(4)中国原子层沉积(ALD)设备行业兼并与重组趋势预判第6章:中国原子层沉积(ALD)设备产业链全景梳理6.1原子层沉积(ALD)设备产业链结构梳理6.2原子...

默克通过开发原子层沉积(ALD)前驱体对应柔性OLED薄膜封装工艺

ALD是一种通过将一层一层材料精确堆叠来制作薄膜的方法，可以实现极高的精度，这有助于降低杂质污染的程度，同时减小薄膜的厚度。默克韩国OLED研究所长金俊浩表示：“ALD被认为是无机薄膜沉积领域的最佳解决方案之一，它在厚度控制、成分控制和均匀性方面展现出卓越的性能。”“在相对简单的工艺条件和较低的功率下，我...

韩国半导体厂商研发 ALD 新技术,降低 EUV 工艺步骤需求

IT之家7月16日消息,韩媒TheElec报道,韩国半导体公司周星工程(JusungEngineering)最新研发出原子层沉积(ALD)技术,可以在生产先进工艺芯片中降低极紫外光刻(EUV)工艺步骤需求。IT之家注:极紫外光刻(EUV)又称作超紫外线平版印刷术,是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前用于7纳米以下的先进制程,于...

北方华创:溅射PVD和ALD产品持续增长,多项核心工艺装备营收稳步提升

贵司的强项是溅射PVD和ALD,请问产品一直有实现营收的持续增长吗?感谢董秘回答(北方华创(384.500,-3.92,-1.01%)SZ002371):公司主要产品包括刻蚀、PVD、CVD、ALD、炉管、清洗、快速退火等核心工艺装备,近年来各类产品营收均实现了不同程度的增长(www.e993.com)2024年11月1日。感谢关注!

消息称苹果正测试 ALD 工艺,为下一代 iPhone Pro 镜头添加抗反射...

而具体到相机镜头方面，ALD工艺主要用来喷涂抗反射涂层，这有助于减少摄影伪影。例如当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕，而ALD可以减少这些图像失真现象。IT之家附上截图如下：此外，ALD应用材料可以防止环境对相机镜头系统造成损害，同时又不会影响传感器有效捕捉光线的能力。博文...

北方华创:目前公司半导体设备主要面向刻蚀、PVD、CVD、ALD、炉管...

同花顺(300033)金融研究中心11月23日讯,有投资者向北方华创(002371)提问,请问公司未来技术研发的方向到底是什么,有没有打算向半导体设备的其他领域拓展?公司回答表示,您好,目前公司半导体设备主要面向刻蚀、PVD、CVD、ALD、炉管、清洗、外延等工艺进行技术迭代升级和工艺应用拓展。感谢关注!

高温单片SPM&超临界CO2+炉管ALD,先进薄膜PECVD,KrFTrack驱动新成长

公司研发的立式炉管设备可用于12英寸晶圆生产线,主要实现不同类型的薄膜在晶圆表面的沉积工艺,针对不同的应用和工艺需求进行设计制造,首先集中在LPCVD设备,再向氧化炉和扩散炉发展,最后逐步进入到ALD设备应用。23年报告期内,公司以UltraFn立式炉设备平台为基础结合之前推出的热原子层沉积炉管技术(UltraFnA),进一步研发...

拓荆科技上半年扣非净利大降近七成 但工艺验证、新签订单已呈现...

单季度表现方面，公司二季度实现营业收入7.95亿元，同比增长32.22%，环比增长68.53%；归母净利润1.19亿元，同比增长67.43%。对于业绩情况，拓荆科技表示，报告期内，超高深宽比沟槽填充CVD设备、PE-ALDSiN工艺设备、HDPCVDFSG、HDPCVDSTI工艺设备等新产品及新工艺经下游用户验证导入，实现了产业化应用，...