捷佳伟创:近期公司首台钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备PVD...
近期公司首台钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备PVD2400V(2.4米幅宽)已顺利出货,此外公司自建的钙钛矿中试线已正式投产运营。谢谢!
真空镀膜项目进入组装阶段
PVD是一种先进镀膜技术,通过物理沉积方法,在真空环境中将材料蒸发或溅射到基底表面,形成薄膜,具有高硬度、高耐磨、抗腐蚀等特点,广泛应用于半导体、传感器、航天航空、平板显示、光通信等多个领域。“传统电镀需要添加多种化学物质,对原材料的消耗量较大,同时还会产生大量残留物,严重污染环境甚至危害身体健康。”哈勃智...
汇成真空上半年业绩高增长,产业链整合优势凸显
值得一提的是,依托于雄厚的研发体系与技术创新实力,汇成真空已成为国家级专精特新“小巨人”企业,并能够对真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜和真空离子镀膜三种主流技术进行一种或多种技术的组合,同时针对不同行业客户应用需求,按照行业特征和生产需求提供定制化、专业化的真空镀膜设备综合解决方案,并对产品生产工艺调...
2024成都国际靶材产品及镀膜工业展览会
中国真空镀膜设备行业主要涵盖了PVD镀膜设备、CVD铍膜设备、磁控溅射设备和其他真空铍膜设备这四大类。具体来说,PVD镀膜设备占据了整体真空镀膜设备市场的最大份额,达到了55.32%。这一比例显著高于其他类型的设备,突显了PVD镀膜设备在市场中的主导地位。紧随其后的是CVD铍膜设备,占据了整体市场的36.67%。这一比例...
江苏徐州工业园区-PVD真空磁控溅射镀膜项目可行性研究报告
江苏义能智光学有限公司拟投资10000万元于江苏徐州工业园区电电产业园A区建设江苏义能智光学有限公司PVD真空磁控溅射镀膜项目,该项目占地总面积约10000m2,不新增用地,本项目建成后,年产电容式触摸屏500万片、电子元器件5000万件、5G产品配件300万件。2、项目概况...
5G手机也“好色”,PVD真空镀膜设备厂商大全
5G时候手机后盖去金属化,然而不管是玻璃、陶瓷、塑胶材质的手机外观结构件,CMF设计师们都会考虑酷炫纹理、金属质感、亮银色、陶瓷光泽、渐变色等效果,而这些良好的装饰效果都离不开PVD真空镀膜(www.e993.com)2024年10月27日。金属中框也需要和后盖保持同样炫丽的外观,今年最新款iPhoneXS金色及太空灰色系列不锈钢中框就是采用的PVD色彩工艺。
光伏行业深度报告:成结、镀膜、金属化,探究电池技术进步的本质
通过真空镀膜的形式,在电池片表面形成一层钝化膜,起到降低少子复合、提供场钝化效应、降低反射率的作用,对于电池效率的提高起到关键作用,也是光伏电池提效的主要出发点。4)金属化用于形成光伏电池的前电极和背电极,通常使用丝网印刷的方式。金属化的工艺路线与钝化工艺密切相关,同时对降低少子复合、降低电阻损失...
半导体设备行业深度报告:国产突破正加速,迎来中长期投资机会
晶圆制造环节一:光刻环节的光刻机、电子束曝光、涂胶显影、去胶设备的空间增量为1276亿/63亿/314亿/49亿元;刻蚀设备中介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀、化合物半导体刻蚀、电子束刻蚀对应增量为535亿/513亿/45亿/11亿/11亿;镀膜设备中的PVD、ALD、CVD/LPCVD、PECVD、VPE对应的空间为287亿/...
高真空磁控溅射镀膜技术【地震资讯】
高真空磁控溅射镀膜是属于物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种,一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料;适应用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜;且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射技术目前得以广泛的应用,是由该技术有别于其它镀膜方法特点...
深耕PVD镀膜材料二十载,阿石创:技术延伸,PET铜箔业务有望崛起
在PVD技术下,用于制备薄膜材料的物质,统称为PVD镀膜材料。经过多年发展,PVD技术已成为目前主流镀膜方法,主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。真空蒸发镀膜工艺的优势在于速度快,适用于小尺寸基板的镀膜。真空蒸发镀膜是指在真空条件下,利用膜材加热装置(称为蒸发源)的热能,通过加热蒸发某种物质使其沉积在基板...