半导体工艺实操100答!
2019年7月29日 - 网易
a)CVD反应的速率不可能超过反应气体传输到硅片上的速率b)无论温度如何,若传输到硅片表面加速反应的反应气体的量都不足。在此情况下,CVD工艺通常是受质量传输所限制的表面反应控制限制:a)在更低的反应温度和压力下,驱动表面反应的能量更小,表面反应速度会降低b)反应物到达表面的速度将超过表面化学反应的...
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电力生产二十五项反措海量题库(选择题篇)
2018年12月3日 - 网易
36、机组启动时,高压外缸上、下缸温差不超过(A),高压内缸上、下缸温差不超过(A)。A、50℃,35℃B、35℃,50℃C、50℃,50℃37、机组运行中,主蒸汽温度必须高于汽缸最高金属温度(C),但不超过额定蒸汽温度,蒸汽过热度不低于(C)。A、50℃,35℃B、35℃,50℃C、50℃,50℃38、机组...
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电力生产二十五项反措试题库(多选题)
2018年11月17日 - 网易
A、机组起动过程中,在中速暖机之前,轴承振动超过0.03mm;通过临界转速时,轴承振动超过0.10mm或相对轴振动超过0.260mm,B、机组运行,当相对轴振动大于0.260mm;当轴承振动突然增加0.05mm,C、高压外缸上、下缸温差超过50℃,高压内缸上、下缸温差超过35℃;D、机组正常运行时,主、再热蒸汽温度在10min内突然下降50℃...
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