...制造有限公司取得穹顶温控系统等专利,优化改善金属刻蚀机台中...
金融界2024年9月27日消息,国家知识产权局信息显示,上海先进半导体制造有限公司取得一项名为“穹顶温控系统、空气扩散器及金属刻蚀机台”的专利,授权公告号CN221766693U,申请日期为2024年1月。专利摘要显示,本公开实施例提供了一种穹顶温控系统、空气扩散器及金属刻蚀机台。该穹顶温控系统包括:箱体、进风装置、加热...
2024年中国刻蚀机市场现状及重点企业预测分析
中商情报网讯:刻蚀机是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器,主要用于制造微细结构,通过将化学反应物和物理能量相结合,去除材料表面的一部分,从而创建所需的微细结构。市场规模刻蚀机主要用来制造半导体器件、光伏电池及其他微机械等。近年来,全球刻蚀机市场规模呈增长趋势。中商产业研究院发布的《2024-2029...
从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘
刻蚀是指使用化学或物理方法有选择地在硅片表面去除不需要的材料的过程,根据工艺的不同,刻蚀机可以分为干法刻蚀和湿法刻蚀,目前,干法刻蚀已占据大部分市场。干法刻蚀中根据离子能量不同,可以主要分为ICP刻蚀设备(硅刻蚀、金属刻蚀)、CCP刻蚀设备(电介质刻蚀),二者市场份额几乎相当。从全球市场来看,Lam、TEL和AMAT几乎...
中国刻蚀机巨头反击:自主可控,起诉美国国防部
中国刻蚀机巨头反击:自主可控,起诉美国国防部中国蚀刻机巨人回击:为争取独立性而奋斗,并将美国国防部告上法庭大家都知道,这些年来,美国一直在限制中国的芯片工业,所以很多中国的半导体企业,都被列入了美国的实体清单,这对他们的业务,也有很大的冲击。这是由于名单上的企业在外部购买特定的装备方面有一定的...
国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”
东兴证券称,上海微电子是我国第一家也是目前唯一的光刻机巨头,出货量占国内市场份额超过80%,产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域,其已具备90nm及以下的芯片制造能力。光刻机零部件方面,同飞股份曾在2023年中报表示,其液体恒温设备在半导体制造设备领域,主要应用于光刻机、刻蚀机、研磨抛光机等关键设备的温度控制。
工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!
东海证券称,根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核心设备,国产化率不足3%,核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大(www.e993.com)2024年10月2日。光刻机零部件方面,同飞股份曾在2023年中报表示,其液体恒温设备在半导...
光刻机概念股大涨 同飞股份“20CM”涨停
资料显示,同飞股份是国内领先的工业温控综合解决方案服务商,下游应用场景主要为数控机床与激光设备、半导体制造设备、电力电子装置、储能系统、氢能装备、数据中心等领域。公司液体恒温设备在半导体制造设备领域主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制。
签约!韩国吉佳蓝中国总部落户无锡,将建刻蚀设备研发制造基地
吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业,主要产品包括半导体刻蚀机、LED元件刻蚀机、纳米压印光刻设备等,其中LED刻蚀设备出货量多年来在全球市场排名前列。此次吉佳蓝与无锡高新区、无锡产业集团签约合作在锡落户中国总部项目,将建设刻蚀设备装配生产线和设备产品验证线,同时计划引入纳米压印光刻设备生产。
国产光刻机取得重大进展 氟化氩光刻机套刻≤8nm
除了光刻机,工信部在印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,还有多类集成电路生产装备,包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特种金属膜层刻蚀机、化学气相沉积装备、物理气相沉积装备、化学机械抛光机、激光退火装备、光学线宽量测...
...刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备领域(附调研问答)
问:公司产品是否可用于光刻机上或者服务光刻机维保?答:公司先进陶瓷材料零部件主要用于半导体制造前道工序,截至目前已覆盖刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备领域。陶瓷材料零部件既是设备的一部分,也是耗材。目前公司来自于光刻设备领域的营业收入较少,利润占比相对较低。