上海新阳取得一种 193nm 干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用专利

金融界2024年11月21日消息,国家知识产权局信息显示,上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备方法和应用”的专利,授权公告号CN116144015B,申请日期为2021年11月。本文源自:金融界作者:情报员...

江西兆驰半导体申请高反射率LED芯片及其制备方法专利,提高了LED...

制备方法包括(1)提供一衬底,在衬底上生长外延层,并进行MSA处理形成刻蚀台阶;(2)在表面依次沉积电流阻挡材料、电流扩展材料,刻蚀形成预设形状的电流阻挡层、电流扩展层;(3)在表面涂覆光刻胶,并通过黄光工艺将光刻胶图形化,随后依次沉积光反射材料和金属电极材料,最后去胶清洗,形成预设形状的光反射层和金属电极层;(...

格力申请功率器件制备方法及功率器件专利,提高功率器件性能和可靠性

专利摘要显示,本申请公开了一种功率器件的制备方法及功率器件,所述方法包括:对晶圆中第一表面上的原始光刻胶层进行第一光刻处理,得到第一光刻胶层;基于第一光刻胶层中的第一图案,对第一光刻胶层和第一区域进行一次干刻处理,在晶圆的所述第一区域处形成第一沟槽;对一次干刻处理后的第一光刻胶层进行第二光刻...

直击股东大会|上海新阳:希望今年光刻胶收入达到千万元水平

杨靖强调,半导体材料业务方面,公司将围绕先进半导体制造用电镀液及添加剂系列,晶圆制造用清洗液、蚀刻液、研磨液系列,高端光刻胶系列等四大品类产品,坚定不移地贯彻执行以技术为主导,坚持面向国内空白、面向产业需求,面向先进制程,坚持自主研发,不断优化产品性能及生产工艺提升,满足客户的需求。杨靖指出,在2023年整体半...

年产5000吨LCD显示光刻胶专用纳米颜料分散液项目可行性研究报告

彩色光刻胶是TFT-LCD液晶显示器制造工艺的重要材料，其使用彩色纳米颜料分散液是制备彩色滤光片的核心上游原材料，是影响光刻胶亮度、对比度和色彩表现性等指标的关键原材料。目前，TFT-LCD显示光刻胶用纳米颜料分散液几乎全部被日、韩企业所垄断，是制约彩色滤光片国产化的主要技术瓶颈之一。本次项目拟用于...

重大突破!国产光刻胶通过量产验证

光刻胶巨头们通常会与上下游企业、研究机构等形成技术联盟，共同研发新技术，制定行业标准(www.e993.com)2024年11月23日。例如，JSR与比利时微电子研究中心（IMEC）合作，建立了EUV光刻胶制备和认证中心，以确保EUV光刻胶的认证和半导体领域应用的质量控制，下游公司甚至会直接参投这些企业，形成牢不可破的利益共同体。2021年日本JSR收购的下一代...

...课题组Angew Chem:可水显影的二氧化碳基深紫外化学放大光刻胶

最优的光刻工艺条件为:80oC前烘3分钟、120oC后烘一分钟。以水作为显影液,在最优条件下PPhCXC化学放大光刻胶表现出了优异的光刻性能(灵敏度1.9mJ/cm2、对比度7.9),可在小于4mJ/cm2的超低曝光剂量下实现亚微米结构(光刻设备极限)以及各类复杂图案的制备(图4)。

功能型光刻胶助力高集成度有机芯片制造

当前,正积极寻求与产业界的深度合作,以加速功能型光刻胶高集成度有机芯片的市场化进程。已完成的高密度柔性屏驱动电路验证及多功能有机集成芯片的制备,标志着高集成度有机芯片时代的新起点正在到来。展望未来,该技术不仅将深刻促进产业升级,满足国家重大需求,还因其与现有半导体制造工艺的高度兼容性,有望为微电子技术...

云谷(固安)科技申请显示面板及其制备方法和显示模组专利,降低了...

云谷(固安)科技申请显示面板及其制备方法和显示模组专利,降低了牺牲层和光刻胶层断裂的风险、避免了多种问题,云谷,基板,阴极,阳极,光刻胶,显示面板,显示模组

扬帆新材:一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法仅应用在飞秒...

同花顺(300033)金融研究中心07月29日讯,有投资者向扬帆新材(300637)提问,贵司之前申请了专利,一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法。请问贵司业务不涉及任何光刻胶领域吗?公司回答表示,尊敬的投资者,您好!目前您所指的技术仅应用在飞秒激光直写技术上,且仍停留在实验室研究阶段,仅少量提供于科研机构或研...