硫酸镍的提炼过程是怎样的?这种提炼方法有哪些技术要求?
常用的净化方法包括溶剂萃取和离子交换。溶剂萃取是通过选择性溶剂将硫酸镍从溶液中分离出来,而离子交换则是利用离子交换树脂吸附杂质离子,从而达到净化的目的。净化后的硫酸镍溶液需要进行结晶处理。结晶是将溶液中的硫酸镍转化为固体颗粒的过程。这一步骤通常在低温下进行,以促进硫酸镍晶体的形成。结晶后的硫酸镍晶体...
某电镀废水污水处理站:5种类型废水分流预处理,要求达到回用
-针对络合铜污染物,首先进行破络处理,常用的方法包括硫化法、铁碳微电解和化学氧化法。-破络后,可以通过化学沉淀法进一步去除铜离子。3.含铬废水处理:-将六价铬离子还原为三价铬离子,通常通过化学法调整pH值至2-3。-使用亚硫酸钠进行还原反应,然后投加氢氧化钠使铬离子沉淀。4.含氰废水处理:-...
电镀薄膜材料未来发展方向
提高写磁头材料的电阻率或使用具有高电阻率(磁性或非磁性)夹层的多层材料是抵消涡流影响的潜在方法之一。通过上述对磁记录技术发展趋势的研究,我们可以得出结论,先进的写磁头材料应具备以下特性:高饱和磁化率,以便能够在高矫顽力介质上写磁;低矫顽力,以防止剩磁状态;最佳的各向异性场,以实现高磁导率;接近零的磁致伸缩...
中国电镀行业调查分析及发展趋势预测报告(2024-2030年)
中国电镀行业调查分析及发展趋势预测报告(2024-2030年),电镀是金属表面处理技术,近年来随着材料科学和电化学技术的进步,电镀工艺和电镀材料得到了显著改进。现代电镀技术不仅限于传统的镀铬、镀镍和镀锌,还扩展到了装饰性电镀、功能性电镀和复合材料电镀,如硬质涂层
电子行业深度报告:先进封装助力产业升级,材料端多品类受益
具体工艺如下:首先,采用溅射或其他物理气相沉积的方式在圆片表面沉积一层钛或钛钨作为阻挡层,再沉积一层铜或其他金属作为后面电镀所需的种子层。在沉积金属前,圆片先进入溅射机台的预清洁腔体,用氩气等离子去除焊盘金属表面的氧化层。其次,在圆片表面旋涂一定厚度的光刻胶,并运用光刻曝光工艺,以改变其在显影...
盛美上海2024年半年度董事会经营评述
公司的多阳极局部电镀技术采用新型的电流控制方法,实现不同阳极之间毫秒级别的快速切换,可在超薄籽晶层上完成无空穴填充,同时通过对不同阳极的电流调整,在无空穴填充后实现更好的沉积铜膜均匀性,可满足各种工艺的镀铜需求(www.e993.com)2024年10月27日。B.三维堆叠电镀设备应用于填充3d硅通孔TSV和2.5D转接板的三维电镀设备UltraECP3d。基于盛...
常用的铝材表面的处理工艺有什么?
3)表面发黄属低电位走势不正,改变装挂方式。加适量的走位剂。4)表面起毛齿:电镀液太脏,加强过滤,作适当的槽液处理。4、品质要求1)外观无发黄,针孔,毛刺,起泡,碰伤,刮伤等不良现象。2)膜厚15um以上,盐雾实验48小时,达美军标9级以上,电位差130-150mv区间。
铝材表面处理工艺大全介绍,非常详细!|镀层|金属|抛光|阳极|热处理...
3)表面发黄属低电位走势不正,改变装挂方式。加适量的走位剂。4)表面起毛齿:电镀液太脏,加强过滤,作适当的槽液处理。4、品质要求1)外观无发黄,针孔,毛刺,起泡,碰伤,刮伤等不良现象。2)膜厚15um以上,盐雾实验48小时,达美军标9级以上,电位差130-150mv区间。
4J50铁镍精密合金非标定制
4J50铁镍精密合金非标定制涉及多个技术要点,包括合金成分调整、热处理工艺优化以及加工方法选择等。在实际操作中,掌握以下几个核心环节非常重要:成分调整:根据应用需求精确控制镍含量,确保材料在特定温度范围内的稳定性能。热处理工艺:采用不同的退火和淬火工艺,以改善材料的物理性能和结构稳定性。表面处理:通过电镀...
电镀含镍废水处理方法【依斯倍】
目前,含氰废水的处理大多采用碱性氯化法。要注意含氰废水与其他废水的严格分流,防止混入镍、铁等金属离子,否则电镀废水很难处理。3.重金属废水-氢氧化物综合沉淀工艺。综合重金属废水由含铜、镍、锌等非络合物的重金属废水和酸碱预处理废水组成。这种电镀废水处理方法比较简单,可以在碱性条件下产生氢氧化物沉淀。