京东方华灿光电(苏州)申请真空系统及化学气相沉积设备专利,能够...

金融界2024年10月26日消息,国家知识产权局信息显示,京东方华灿光电(苏州)有限公司申请一项名为“真空系统及化学气相沉积设备”的专利,公开号CN118814132A,申请日期为2024年6月。专利摘要显示,本公开提供了一种真空系统及化学气相沉积设备,属于半导体制备设备领域。该真空系统,应用于化学气相沉积设备,真空系统包括缓冲...

辽宁材料实验室高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统采购项目竞争性...

辽宁材料实验室高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统采购项目采购项目的潜在供应商应在线上获取采购文件,并于2024年11月08日09时30分(北京时间)前提交响应文件。一、项目基本情况项目编号:JH24-210000-57959项目名称:辽宁材料实验室高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统采购项目采购方式:竞争性磋商包组编号:001预算金额(...

美格真空申请沉积炉及其沉积方法专利,提升生产效率

金融界2024年10月17日消息,国家知识产权局信息显示,深圳市美格真空科技有限公司申请一项名为“沉积炉及其沉积方法”的专利,公开号CN118773550A,申请日期为2024年9月。专利摘要显示,本发明公开了一种沉积炉及其沉积方法,沉积炉包括壳体、隔板、反应仓以及沉积仓。壳体限定出容腔。隔板设于容腔内并将容腔分隔为第...

热门赛道 | PVD(物理气相沉积),半导体关键前道工艺

苏州佑伦真空设备科技有限公司成立于2016年12月,是一家专注半导体薄膜沉积装备的开发和应用的企业,产品主要包括蒸发镀膜机量产机型、真空烧结炉、大容量蒸发镀膜机、小型试验机、溅射机、精密加工业务、耗材业务等,广泛应用于功率器件、LED、光通信、传感器、半导体、滤波器等领域,为高端薄膜沉积领域、PVD薄膜沉积领域、气...

PVD(物理气相沉积),半导体关键前道工艺丨热门赛道

PVD(物理气相沉积)是一种用于在物体表面沉积薄膜的技术,通过将材料蒸发并在真空环境中沉积到基材表面来实现涂层。PVD技术广泛应用于电子、光学、医疗器械和工具制造等领域。常见的PVD工艺包括蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜等。PVD技术的主要优势包括高硬度、耐磨性、抗腐蚀性,并且在涂层的颜色、厚度和均匀性方面具有很好...

中国计量科学研究院大晶圆高真空物理气相沉积系统采购项目公开...

中国计量科学研究院大晶圆高真空物理气相沉积系统采购项目招标项目的潜在投标人应在oitccas获取招标文件,并于2024年09月26日13点30分(北京时间)前递交投标文件(www.e993.com)2024年11月1日。一、项目基本情况项目编号:OITC-G240270141项目名称:中国计量科学研究院大晶圆高真空物理气相沉积系统采购项目...

捷佳伟创:子公司成功交付一步法复合集流体真空卷绕镀膜设备

据捷佳伟创消息,近日,公司全资子公司深圳市捷佳芯创科技有限责任公司(简称“捷佳芯创”)顺利地向核心客户交付了一步法复合集流体真空卷绕镀膜设备。本次完美交付标志着公司在真空设备领域的研发实力迈上一个新台阶。该交付设备是捷佳芯创针对新能源复合集流体的规模生产而研发,是实现一步法双面蒸镀沉积金属膜层的卷绕...

汇成真空:真空镀膜技术是在高度洁净环境下对材料表面直接沉积膜层...

汇成真空：真空镀膜技术是在高度洁净环境下对材料表面直接沉积膜层的技术金融界6月11日消息，有投资者在互动平台向汇成真空提问：贵公司的真空覆膜技术到底是啥？公司回答表示：真空镀膜技术是一项在高度洁净环境（真空）下，通过物理或化学手段对材料表面直接沉积膜层的技术，详情已在招股书中披露。本文源自：金融界...

Swiss Cluster ALD原位多层复合原子层沉积系统-瑞士真空-新品

ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---3:产品型号介绍:可选具有功能优势的配件:创新点:无需昂贵真空互联部件即可实现ALD+PVD原位多层复合原子层薄膜沉积,且不同工艺在同一真空腔自动切换,样品也保持原位。这样可以轻松创造复合新材料新工艺SwissClusterALD原位多层复合原子层沉积系统...

...为核心,化学气相沉积(CVD)等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系

公司回答表示,尊敬的投资者您好,公司已经形成了以原子层沉积(ALD)技术为核心,化学气相沉积(CVD)等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系,专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与销售,向下游客户提供先进薄膜设备、配套产品及服务。公司产品目前覆盖半导体、光伏和其他新兴应用领域,具体内容请您参阅公司定期报告,感...