直击股东大会|上海新阳:希望今年光刻胶收入达到千万元水平

随着半导体制程提升,ArF浸没式(湿法)光刻胶市场有望持续高景气扩容,而ArF湿法光刻胶制备难度高,高端光刻胶国产化替代势在必行。目前上海新阳部分ArF浸没式光刻胶产品客户端测试验证顺利,部分型号产品已取得良好的测试结果及工艺窗口,技术指标与对标产品比较接近。“光刻胶的验证需要配合客户不断调整配方,因此验证周期...

重大突破!国产光刻胶通过量产验证

其中，KrF光刻胶主要用于248nm的光刻工艺，适用于对应工艺制程在250nm到150nm之间的集成电路制造。不过，随着工艺的不断进步，KrF光刻胶也开始被用于更先进的工艺节点，例如28nm制程的芯片制造中。为了降低成本，KrF光刻胶甚至可以用于28nm以下节点的某些部分。至于ArF光刻胶则主要用于更先进的193nm光刻工艺，可以用于9...

中国光刻胶企业暴露了,被老美抓个正着?日本也开始对华出手了

三、国产光刻胶的破局之路面对外部压力,中国光刻胶产业的破局之路在于自主创新与国际合作并行。加大研发投入,突破关键技术:应加大对光刻胶等半导体材料的科研支持力度,鼓励企业、高校和科研机构协同创新,突破光刻胶的关键制备技术,提升国产光刻胶的性能和稳定性,逐步替代进口。建立完整的产业链生态:光刻胶产业的...

联合化学:偶氮类有机颜料主营业务,生产光刻胶等材料的能力待确认

投资者提问:吡啶偶氮类化合物在光刻胶、光导纤维等光敏材料的制备中具有重要的应用价值,公司有生产此类物质的能力吗?董秘回答(联合化学SZ301209):尊敬的投资者您好,公司的主营业务为偶氮类有机颜料、挤水基墨的研发、生产与销售。主要产品为黄色、红色、橙色偶氮有机颜料及挤水基墨。请以公司公告披露的信息为...

世名科技:实控人全额参与定增 光刻胶色浆项目出炉

2、公司:自2018年起,公司开始组建专业研发团队攻关LCD显示彩色光刻胶专用纳米颜料分散液,6年来已有深厚积累且相关专利已经公布,目前已有500吨年产能,本次定增扩产标志着该产品即将步入量产阶段。3、公司做光刻胶颜料分散液有何优势?制备技术及工艺与公司工艺类似,其核心均为超细化加工技术,在原材料品质控制、...

惠州达诚申请低含量NMF光刻胶剥离液和制备方法专利,光刻胶清除...

金融界2024年9月26日消息,国家知识产权局信息显示,惠州达诚微电子材料有限公司申请一项名为“低含量NMF光刻胶剥离液和制备方法”的专利,公开号CN118689048A,申请日期为2024年7月(www.e993.com)2024年11月22日。专利摘要显示,本发明公开了低含量NMF光刻胶剥离液和制备方法,包括25??34重量份N??甲基甲酰胺、62??71重量份二乙二醇甲醚、2....

扬帆新材:双光子光刻胶技术目前仍停留在实验室研究阶段,离产品...

金融界9月13日消息，有投资者在互动平台向扬帆新材提问：董秘你好:公司申请的“一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法专利最近进展情况如何？公司回答表示：我们开发的该项目目前只可在飞秒加工增材制造的基础上实现二次减材加工曝光雕刻，该技术仍停留在实验室研究阶段，离产品工业化还需要较长的过程，存在诸多...

扬帆新材:我们开发的该项目目前只可在飞秒加工增材制造的基础上...

同花顺(300033)金融研究中心09月13日讯,有投资者向扬帆新材(300637)提问,董秘你好:公司申请的“一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法专利最近进展情况如何?公司回答表示,尊敬的投资者,您好!我们开发的该项目目前只可在飞秒加工增材制造的基础上实现二次减材加工曝光雕刻,该技术仍停留在实验室研究阶段,离...

之江实验室/浙大匡翠方教授团队AFM:高灵敏阳离子型双光子光刻胶

图6TP-EO光刻胶制备的拓扑液体二极管。总结开发了一种用于高通量、高分辨率TPL纳米制造的高灵敏度阳离子型光刻胶,实现了100mm/s的刻写速度和<200nm的特征线宽。通过使用NA-PYZ双分子光敏体系,实现比SU-8环氧光刻胶高约600倍的双光子光敏性,优于大多数阳离子型光刻胶。

扬帆新材:飞秒激光直写技术应用仍处实验室阶段,不涉及光刻胶领域

贵司之前申请了专利,一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法。请问贵司业务不涉及任何光刻胶领域吗?董秘回答(扬帆新材SZ300637):尊敬的投资者,您好!目前您所指的技术仅应用在飞秒激光直写技术上,且仍停留在实验室研究阶段,仅少量提供于科研机构或研究所用于相关研究中,离产品工业化还需要较长的过程,存在诸...