美拟对华芯片贸易实施更严厉管制;ASML卖百台光刻机,尼康同表态...
德成宗明表示,尼康目前正在中国大陆大力推广其新型ArF(氟化氩)光刻机,这些设备于今年早些时候发布,符合出口管制规定。6.“暂停转融券业务”如何利好集成电路?日前,证监会发布将暂停A股市场的转融券业务,自7月11日起实施。中国证券金融股份有限公司和沪深北交易所相继发布关于暂停转融券业务、调整融券交易保证金比例的...
源达:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至
光刻机是半导体设备明珠,上游零部件供应复杂且品类广泛光刻机是半导体制造中最核心的设备,光刻机的性能直接决定晶圆产线的制程节点和产能上限。光刻机的基本结构由激光器、照明光学模组、物镜、晶圆传输模组、晶圆扫描模组和扫描刻线模组等组成。我们认为光刻机的核心器件包括激光器、光学镜头和工作台等:1)激光器...
2024年中国光刻机产业链图谱研究分析(附产业链全景图)
中商情报网讯:光刻机是制造芯片的核心装备。随着新能源汽车、人工智能、物联网等新兴产业的蓬勃发展,对芯片的需求将不断攀升,从而进一步推动光刻机市场的增长。一、产业链中国光刻机产业链上游为材料、设备及组件,材料及设备包括光刻胶、电子特气、涂胶显影设备等,组件包括激光器、掩膜板、掩膜台、遮光器等;中...
外媒:国产半导体设备“转折”出现了
从这个参数可知,这款光刻机波长达到193nm,是一款DUV光刻设备。并且套刻≤8nm,这表明这款光刻机理论上可以生产8nm芯片。而就实际工艺来看,这款光刻机可以生产28nm芯片。虽然这款65nm的氟化氩光刻机的工艺还不能和ASML旧款的1970i型光刻机相提并论,并且这款光刻机和ASML光刻机还有20年的差距。但纵观全球...
官宣!一家国产光刻机工厂落地,可生产100台设备
而且光刻机可不仅仅是一台普通的机器,它集合了光学、机械、电子、控制等多个领域的顶尖技术。要想造出一台真正好用的光刻机,不仅需要有深厚的技术积累,还得有强大的研发能力和资金支持。所以上海图双能够涉足这个领域,并且还能根据市场需求进行定制化改造和调试,这本身就是一件很了不起的事情。这50亿的投资,表...
光刻机光刻机是集成电路制造的核心设备之一
光刻机光刻机是集成电路制造的核心设备之一,技术难度极高(www.e993.com)2024年11月1日。光刻是决定集成电路集成度的核心工序,光刻即将电路图形信息从掩模版上保真传输、转印到半导体材料衬底上,其基本原理是,利用涂敷在衬底表面的光刻胶的光化学反应作用,记录掩模版上的电路图形,从而实现转印的目的。光刻机发展至今,经历了5代产品的迭代,已...
俄罗斯制造出首台国产350nm芯片光刻机,并宣称2028年投产7nm芯片设备
目前在半导体制造行业,DUV(深紫外)光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片,涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片,随着制程向5nm、3nm进化,EUV(极紫外光)设备成为未来光刻技术和先进制程的核心。而用于7nm及以下先进芯片制造工艺的光刻机设备中,ASML公司是唯一的供应商。Gartner数据显示,2020年,ASML在全球光刻机...
近500亿元!EUV光刻机巨头挣翻了
前道工艺设备(晶圆制造)用于晶圆制造环节,设备产品包括光刻机、刻蚀设备、薄膜沉积设备、CMP设备等;后道工艺设备(封装测试)主要用于半导体产品的封装和测试环节,以确保产品的质量和可靠性,代表产品包括划片设备、封装设备、测试设备等,晶圆切割机也包含其中,主要用于将晶圆切割成芯片,以便之后的封装和测试。
光刻机技术进一步突破?概念股全面爆发!这些核心公司有望受益!
华福证券研报指出,光刻工艺是芯片生产流程中最复杂、最关键的步骤,而光刻机是光刻工艺的核心设备,其重要性源于三个方面:第一,光刻机价值量位列IC制造设备的榜首;第二,光刻机凝聚众多顶尖技术,壁垒极高;第三,光刻机定义集成电路尺寸,推动摩尔定律前进。
芯片光刻机龙头ASML四季度收入同比增12.5%,CFO称美国禁令影响中国...
在半导体制造行业,DUV光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片,涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片,随着制程向5nm、3nm进化,EUV(极紫外光)设备成为未来光刻技术和先进制程的核心。而用于7nm及以下先进芯片制造工艺的光刻机设备中,ASML公司是唯一的供应商,目前中国大陆市场无法再销售7nmEUV设备。