中微半导体:通过台积电5纳米工艺的验证,拿下4道制程
据第一财经报道,目前中微半导体的刻蚀机已经顺利通过台积电5纳米工艺的验证,并且拿到4道制程,创造了中国半导体设备的又一个里程碑。芯片制程不断地演进,对设备的加工精度要求也随之提升。据第一财经报道,尹志尧介绍道,等离子体刻蚀和化学薄膜是最关键的设备。建一个5纳米的生产线比原来传统的生产线贵5.5倍,每一个...
盛美半导体设备(上海)股份有限公司第二届董事会第十四次会议决议...
公司的主要产品包括前道半导体工艺设备,包括清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备(包括氧化、扩散、真空回火、LPCVD、ALD)、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备;后道先进封装工艺设备以及硅材料衬底制造工艺设备,通过多年的技术研发,公司在上述产品领域均掌握了相关核心技术,并在持...
盛美半导体设备(上海)股份有限公司 关于向特定对象发行A股股票...
公司的主要产品包括前道半导体工艺设备,包括清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备(包括氧化、扩散、真空回火、LPCVD、ALD)、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备;后道先进封装工艺设备以及硅材料衬底制造工艺设备,通过多年的技术研发,公司在上述产品领域均掌握了相关核心技术,并在持...
芯源微:首台化学清洗机顺利发机,力争在前道化学清洗赛道实现跨越...
公司回答表示:2024年8月30日,公司首台化学清洗机顺利发机,机台所用高温SPM清洗工艺被业界公认为28nm/14nm制程性能要求最高的工艺之一,公司在官网及微信公众号等平台同步推送了该新闻。公司将借助前道物理清洗设备的成功经验,力争在前道化学清洗赛道实现跨越式发展,未来与前道涂胶显影设备一道形成两大主打优势产品,为...
麦克奥迪:公司产品主要用于半导体前道的缺陷检查及后道封装、工艺...
晶圆传送检测装置,丰富了公司在工业光学的产品线。这些产品是否主要应用于半导体晶圆从前道工程到后道工程的全方位检查,特别适合大产量晶圆检测,现在有哪些半导体公司在使用公司产品?公司回答表示:产品主要用于半导体前道的缺陷检查,半导体后道封装、工艺、测试等。本文源自:金融界AI电报作者:公告君...
源达研究报告:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至
前道晶圆加工的主要工序包括光刻、刻蚀和薄膜沉积等,其特点是对晶圆加工精度要求极高,通常在几十至几百纳米;并且部分工序需要多次进行,对设备产能效率要求高(www.e993.com)2024年10月23日。上述原因也导致用于前道晶圆加工的半导体设备价格高昂,一条产能1万片/月的12英寸晶圆产线设备投资额在数十亿元。二、光刻机是半导体设备明珠...
“道即是美”传统工艺振兴主题展论坛成功举办 坭兴陶首次亮相中华...
作为主题展的重要一环,于9月7日下午在中华世纪坛举办的“道即是美”传统工艺振兴主题展论坛,是一次传统智慧与现代生活的深度对话。ARTPOWER100&DESIGNPOWER100出品人舒剑主持本次论坛由中国重要设计评价与推广机构DESIGNPOWER100与中华世纪坛艺术馆联合主办,钦州市坭兴陶行业协会、当代·蔓阅书院、明花...
东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...
(2)作为大陆稀缺的光刻机整机厂商,上海微电子在整个光刻领域具有完善全面的布局。公司光刻产品覆盖了IC前道制造光刻、后道封装光刻、衬底光刻等多个领域,能够满足IC前道制造90nm、110nm以及280nm的光刻工艺需求,现阶段该设备已经可以适用于8寸或12寸产品的大规模生产。
珂玛科技:公司先进陶瓷主要应用于晶圆制造前道工艺设备,目前已...
同花顺金融研究中心08月21日讯,有投资者向珂玛科技提问,请问公司有光刻机概念吗公司回答表示,尊敬的投资者您好!公司先进陶瓷主要应用于晶圆制造前道工艺设备,目前已进入刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻和氧化扩散设备。感谢您的关注!
卓海科技登陆新三板:国内规模最大的半导体前道量检测修复设备供应...
卓海科技是一家专注于半导体前道量检测设备领域的企业。前道量检测设备是指,以光、电子束等介质作为主要工具,针对光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等工艺设备的加工成果,进行关键指标的量测或潜在缺陷的检测,其使用场景覆盖芯片前道生产的几乎全部工序。目前卓海科技的产品及服务得到了半导体行业知名客户的广泛认可,终端...