对话纳米压印技术发明人周郁:用变革性的新技术突破光刻瓶颈!

周院士：大概在1994年，当时光刻的最小尺寸只能做到0.3μm（微米），普通电子束光刻也只能做到约100nm（纳米）左右。无论是光刻、电子束光刻还是X射线光刻，都跟光的波长有关，受限于光学曝光中的衍射和散射现象，受限于光学成像设备，受限于光刻胶的曝光，存在诸多技术瓶颈。当时传统的光刻技术在制造微小结构时已...

ASML将携全景光刻解决方案参加第七届进博会

●量测设备:eScan1100是ASML第一代实现在线缺陷检测(物理缺陷和电性缺陷)的多束电子束检测系统,具有25条光束,可将晶圆量测吞吐量提高至单束量测系统的10倍以上。●计算光刻业务:计算光刻主要应用于芯片的开发与制造环节,通过优化成像光源与掩模板设计,实现更精确的图形成像和更好的芯片生产良率。在展台上,...

中国光刻胶,离日本还有多大差距?

按形成的图像来分，有正性和负性两大类。按曝光光源和辐射源的不同就分得更细了，可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻完成后的晶圆片每类都有前面说的正负性之分，品种规格很多，非常复杂，对应的配方和生产技术也简单不了，但总体上都包括三种成分：感光树脂、增感剂...

在嘉兴,600多位专家谈光刻未来

光刻设备、工艺、检测与计量、掩模与材料……两天的研讨会上，来自国内外光刻技术领域的专家学者将依次登台，分享各自在各个前沿课题上取得的新突破，展示学术成果，公布技术开发成果和产品。ASML高级电子束和工艺专家HongXiao，分享了掩埋图案和掩埋缺陷的扫描电子显微镜（SEM）信号增强。通过在扫描电子显微镜（SEM）中...

冠石科技:近日宁波冠石引入的首台电子束掩膜版光刻机,是光掩膜版...

同花顺(300033)金融研究中心07月26日讯,有投资者向冠石科技(605588)提问,近日网上有消息称公司全资子公司冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机。请问该消息是否属实,对公司实现光掩膜版量产有何意义?公司回答表示,尊敬的投资者,您好!目前,公司半导体光掩膜版项目涉及的关键设备全部为进口设备,设备交付时间18-...

电子束光刻设备全球市场总体规模研究分析2024-2030

据QYResearch调研团队最新报告“全球电子束光刻设备市场报告2024-2030”显示,预计2030年全球电子束光刻设备市场规模将达到3.4亿美元,未来几年年复合增长率CAGR为6.5%(www.e993.com)2024年11月29日。图00001.电子束光刻设备,全球市场总体规模如上图表/数据,摘自QYResearch最新报告“全球电子束光刻设备市场研究报告2024-2030”....

冠石科技:2024年7月宁波冠石引入了首台电子束掩膜版光刻机

是否已经起运或到货交付?公司回答表示,尊敬的投资者,您好!公司半导体光掩膜版项目涉及的关键设备全部为进口设备,设备交付时间18-48个月不等。2024年7月宁波冠石引入了首台电子束掩膜版光刻机。感谢您对公司的关注!点击进入互动平台查看更多回复信息

冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机

近日,宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉,该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。宁波冠石半导体公司是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业,企业主要从事45-28nm半导体光掩模版的规模化生产。光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或...

聚焦先进光刻热潮,激发国际交流活力--第八届国际先进光刻技术研讨...

据介绍,罗老师采用钛和锆金属结合的异金属纳米团簇策略来研究它们的溶解性,评估各种显影剂的适用性和其在电子束和极紫外光刻中的性能以及研究其在图案转移中的抗蚀刻性。证明R-4在电子束光刻下低剂量时可获得25纳米的分辨率,在极紫外光刻下可获得50纳米的分辨率,灵敏度高达19.7毫焦/平方厘米。本研究...

泽攸科技自主研制的电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

近日,据知情人士透露,国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室,在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展。他们成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。