中国光刻胶,离日本还有多大差距?
按曝光光源和辐射源的不同就分得更细了,可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻完成后的晶圆片每类都有前面说的正负性之分,品种规格很多,非常复杂,对应的配方和生产技术也简单不了,但总体上都包括三种成分:感光树脂、增感剂和溶剂。光刻胶的使用范围相当广,显示面板、...
俄罗斯巨额投资,发力芯片制造设备
预计到2026年底,俄罗斯将实现的重要里程碑之一是开发用于350nm和130nm工艺技术的光刻设备(这是一个巨大的差异,因为350nm和130nm节点之间有几个节点)和用于150nm生产节点的电子束光刻设备。此外,俄罗斯计划在几年内开发化学气相沉积外延设备。此外,到2026年底,俄罗斯工业和贸易部希望国内半导体行业能够生产硅锭并将其...
聚焦先进光刻热潮,激发国际交流活力--第八届国际先进光刻技术研讨...
据介绍,罗老师采用钛和锆金属结合的异金属纳米团簇策略来研究它们的溶解性,评估各种显影剂的适用性和其在电子束和极紫外光刻中的性能以及研究其在图案转移中的抗蚀刻性。证明R-4在电子束光刻下低剂量时可获得25纳米的分辨率,在极紫外光刻下可获得50纳米的分辨率,灵敏度高达19.7毫焦/平方厘米。本研究...
可改进EUV光刻工艺 传三星正测试GCB设备 或成先进制程降本利器
据韩媒TheElec爆料,三星正在测试由东京电子(TEL)提供的气体团簇光束(GCB)设备,以期改进其极紫外(EUV)光刻工艺。东京电子方面证实,公司正在与客户正一同评估该设备性能,以决定是否将其用于晶圆代工厂。公开资料显示,东京电子是半导体制造设备的主要供应商,主营半导体的蚀刻、沉积和清洁环节,其客户包括先进逻辑及存储芯片...
龙图光罩:募投项目正常推进中,相关设备已陆续进厂
金融界9月6日消息,有投资者在互动平台向龙图光罩提问:截止9月3日,珠海龙图公司订购的4台激光光刻机2台电子束光刻机进厂了吗?公司回答表示:公司募投项目处于正常推进过程中,相关设备已陆续进厂,公司将借助本次发行所募集的资金,进一步加快募投项目建设进度,争取早日达产达效,项目的具体进度请关注公司后续定期...
冠石科技:上半年营收增长57.59% 掩膜版光刻机设备成功交付
值得注意的是,7月中旬,该项目首台电子束掩膜版光刻机顺利交付,其他核心设备也按约定时间陆续交付并按计划节点开展安装调试(www.e993.com)2024年10月26日。据了解,公司本次交付的电子束掩膜版光刻机设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备,这意味着该项目进展迈出了关键一步。公司表示,后续将继续按照已有的建设工作计划,...
突破!可改进EUV光刻
可改进EUV光刻据韩媒TheElec爆料,三星正在测试由东京电子(TEL)提供的气体团簇光束(GCB)设备,以期改进其极紫外(EUV)光刻工艺。东京电子方面证实,公司正在与客户正一同评估该设备性能,以决定是否将其用于晶圆代工厂。公开资料显示,东京电子是半导体制造设备的主要供应商,主营半导体的蚀刻、沉积和清洁环节,其客户包括...
冠石科技上半年产销双增长 首台电子束掩膜版光刻机进场
上证报中国证券网讯8月29日晚间,冠石科技发布半年报,报告显示公司实现了产量和销量的双增长,上半年实现营业收入约6.57亿元,同比增长57.59%,显示出强劲的市场拓展能力和增长动力。值得注意的是,报告期内,首台电子束掩膜版光刻机顺利交付,该设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。
冠石科技:引入首台电子束掩膜版光刻机,是40纳米技术节点量产及28...
公司回答表示:目前,公司半导体光掩膜版项目涉及的关键设备全部为进口设备,设备交付时间18-48个月不等,首批设备预计交期为2024年3季度。近日宁波冠石引入的首台电子束掩膜版光刻机,是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。本文源自:金融界AI电报作者:公告君...
冠石科技:光掩膜版设备已到位,首批交付预计2024年3季度,电子束...
尊敬的投资者,您好!目前,公司半导体光掩膜版项目涉及的关键设备全部为进口设备,设备交付时间18-48个月不等,首批设备预计交期为2024年3季度。近日宁波冠石引入的首台电子束掩膜版光刻机,是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。感谢您的关注!