外媒:EUV光刻机无法“弯道超车”

一方面，要加强基础研究，突破关键核心技术。在光刻机、蚀刻机等关键设备的研发上，集中力量攻克技术难题，提高设备的性能和稳定性。另一方面，要积极拓展国际合作，寻找新的技术合作渠道。尽管美国等西方国家对中国进行技术封锁，但中国可以与其他友好国家和地区开展合作，共同推动芯片产业的发展。同时，中国芯片产业要重视...

令外媒尴尬,中国5nm蚀刻机被台积电采购,或成反制美国利器!

如果缺少了其中任何一种，芯片的生产就无法顺利进行。对于经常关注科技新闻的朋友而言，全球最先进的光刻机仅荷兰的ASML公司能够研发和生产是众所周知的。那么，有哪个国家能生产顶尖的蚀刻机呢？答案是中国！这一点一点也不夸张。据国内权威媒体报道，国内的中微半导体公司已经成功研发出全球首台5nm蚀刻机，目前在国...

振奋人心!官方宣布国产DUV光刻机,终于成了!

网友们对工信部公布新型光刻机的热烈反应令人振奋。有人表示：“荷兰也得全球搜罗零件才能造光刻机，咱们现在蚀刻机、光刻机都齐活了，厉害了我的国！”还有人说：“想当年咱们一穷二白都能造出原子弹，现在基础雄厚，更没啥好怕的，这就是咱们中国人不屈不挠的劲儿！”网友们在社交媒体上的讨论热情高涨，大家...

近100台光刻机!ASML措手不及,做梦都没想到变化这么快

光刻机是决定芯片精度和产能的重要的设备,缺少这个设备的支持,就无法实现芯片精度提升和量产,按照美国的要求,荷兰阿斯麦是不能给中国提供新型机器设备,也不能提供高精度制程光刻机的合作。而美国就要推动自己的英特尔、AMD公司继续蓄力成为全球性巨头公司,从而继续在世界范围用高科技去垄断实现暴利收割。然而中国企业在...

人才引领未来:半导体领域的“黄埔军校”揭秘

国内比较有名的,如:华为海思、中兴微、大疆、紫光展锐、复旦微、上海微、寒武纪、地平线、士兰微、兆易创新、长江存储·,中芯国际……还有近几年新进入的阿里、格力之类。3.微电子行业涉及到上游的材料、下游的封装和应用厂商,以及制造设备(光刻机、蚀刻机)等。

一篇文章看懂“半导体”产业链!

目前国内生产的光刻机很低端,希望尽快更上一层楼(www.e993.com)2024年11月1日。显影就是把晶圆浸泡在显影容易里面,把光刻之后的电路图给显示出来。涂胶显影设备做的企业就更少了,国内好像只有“芯源微”这家公司在研发,他的估值那就更高了,一年的利润同样也才2亿多,市值已经高达131亿。

推动Micro-LED商业化四项核心技术

首先在制造成本上,制造TFT背板需要高精度的设备和工艺,这些设备通常包括但不限于光刻机、化学气相沉积(CVD)系统、物理气相沉积(PVD)系统、蚀刻机以及清洗和检测设备。这些先进的设备需要高昂的购置和维护费用,一定程度上导致初期投资和生产成本较高。其次是技术的实际应用,当TFT背板用于拼接成大型显示屏时,面临的技术...

传三星将于2024年底安装首台ASML High-NA EUV光刻机

“与传统的EUV专用工具相比,使用High-NAEUV专用工具检查半导体掩模可将对比度提高30%以上。”三星电子半导体研究所的MinCheol-ki表示。三星还与光刻胶制造商JSR和蚀刻机制造商东京电子合作,为2027年前实现High-NAEUV光刻系统的商业化应用做准备。三星还与新思科技合作,从传统的电路设计转向光掩模上的曲线图案。

中微发布国产光刻机?假的!别把蚀刻机和光刻机混为一谈

光刻机、薄膜机、刻蚀机在芯片制造中都是缺一不可的,如果简单点来形容,光刻机是在硅片上画图,那刻蚀机就是将不需要的东西去掉。甚至在之前,美国同样将刻蚀机作为管控设备,不允许对中国出口。只不过在中微半导体自主研发的刻蚀机达到全球先进水平后,这个设备才解除了管控。

蚀刻机和光刻机之间的区别,国产5nm蚀刻机取得台积电认证

光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路,其光源和光路的主要组成部分有四个,光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下,蚀刻机的结构组成就要简单很多,主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。从售价来看蚀刻机和光刻机。ASML的EUV光刻机单台售价高达1.2亿美元,而蚀刻机的售价就要低很多了,...