科技突破:中国成功研发氟化氩光刻机,西方优势不再

长期以来，由于光刻机涉及化学、物理学、分子学等多个学科的复杂理论，研发难度极大，我国在这一领域一直处于追赶状态。放眼全球，荷兰ASML公司凭借多年的技术积累，成为光刻机行业的"老大哥"，几乎包揽了全球的订单。作为芯片消费大国，我国长期依赖进口光刻机。然而，随着中美博弈日益激烈，荷兰作为美国的"小弟"，如今...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

其中,ASML在最先进的EUV光刻机领域独占鳌头。这种高度集中的市场格局,使得任何一个国家都难以独立完成光刻机的研发和生产。事实上,最尖端的光刻机需要多个国家通力合作才能完成。面对这种局面,中国在2020年提出了“科技自立自强”的战略目标。这一目标旨在通过自主创新来突破关键技术领域的瓶颈,其中就包括光刻机技术。

中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!

在半导体产业中,光刻机被誉为"皇冠上的明珠",其技术难度之高、制造过程之复杂,使得它成为衡量一个国家科技实力的重要标志。朱士尧教授作为中国科技界的权威人士,对中国目前在光刻机研发方面面临的挑战有着深刻的认识。光刻机的复杂性首先体现在其零部件的数量和精密度上。一台先进的光刻机需要十万多个零件,而...

中国光刻机晚事:研发比ASML早20年,却落后这么久呢?

但不管怎么样,研发光刻机,我们没有退路,再难也得研发出来,否则就会一直被人卡住脖子,先进工艺的芯片就会受限,这是我们不能接受的。

EUV光刻机,大结局?

2023年前,ASML最先进的EUV光刻机是TWINSCANNEX:3400C和TWINSCANNEX:3400D,售价约为1.7亿欧元。其NA只有0.33,对应的分辨率为13nm,可以生产金属间距在38nm~33nm之间的芯片。ASML公司型号为TWINSCANNEX:3400D的EUV光刻机2023年12月,ASML研发的高NAEUV光刻机送达英特尔公司位于美国俄勒冈州的D1X工厂进行安装,...

ASML光刻机是怎样一步步走上绝路的

我们要解释光刻机的难度,同样需要理解它怎样处理各种印刷的精度和材料及温度特性等问题(www.e993.com)2024年11月2日。二、光刻机从Aligner到Stepper(步进光刻机),是一次微机电的升级,从一次曝光一整片晶圆到光头在晶圆上一步一步(Stepandrepeat)移动曝光一个小方块,那时还用的是简单的汞灯。Stepper升级到Scanner(扫描光刻机),因为激光光源...

美国都造不出光刻机,中国有希望吗?中科大副院长:永远都不可能

就拿精度来说,最先进的光刻机能达到1.3纳米的精度,相当于头发丝直径的九十分之一!这种精度,已经接近了物理极限。不仅如此制造一台光刻机需要的零部件多达10万种,而且很多核心部件都需要自主研发。这就好比是在玩一个超级复杂的乐高,每个积木都得自己设计、自己制造,还得保证能完美拼接。

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

虽然光刻机也只是芯片制造的一个环节,但它本身所需供应组件众多,供应链管理难度高。光刻机上游涉及的内部零件种类众多,且越高端的光刻机组成越复杂,如EUV光刻机内部零件多达80000件以上,其核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等,其中光源、晶圆曝光台、物镜和对准系统...

投入25.4亿美元!俄罗斯计划开发本土光刻机等芯片制造工具

该计划已经启动了41个研发项目,并计划在未来几年内再启动43个新项目,共计110个研发项目。这些项目将覆盖从180nm到28nm的微电子、微波电子、光子学和电力电子等多个技术领域,为俄罗斯微电子产业的发展奠定坚实基础。值得一提的是,俄罗斯在光刻机研发方面已经取得了初步成果。据报道,俄罗斯首台国产曝光机(即光刻机...

万业企业: 离子注入机系统复杂度高,研发难度仅次于光刻机,而且...

离子注入机系统复杂度高,研发难度仅次于光刻机,而且工艺验证十分困难。凯世通团队基于在离子注入机领域的技术积累,通过上下游产业链的紧密合作,共进行了几百项的技术升级,包括硬件与软件各个方面,使设备性能得到大幅提升,满足了客户严苛的技术要求。目前凯世通凭借专业的产品实力、高效的服务优势,持续赢得客户的认可和重复...