东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

(3)KrF和ArF/ArFi光刻机使用准分子激光器作为光源,利用激发态的分子不稳定性发光,从而得到更短的248nm与193nm的光波长。其工作原理为氪气与氩气等惰性气体在电场和高压环境下与氟气,氯气等卤素气体发生反应生成不稳定的准分子。而激发态的准分子又不断的分解,释放出了深紫外的光子,通过这种释放光子的过程,可以得...

华盛锂电2023年年度董事会经营评述

但该工艺应用的氟气具有剧毒易爆等缺陷,须设置回收氟尾气系统,且氟气活性高,反应选择性低。公司通过自主开发,于2006年在国内率先开发出一条不同于国际主流氟气直接氟化工艺路线的卤素置换工艺路线,即以碳酸乙烯酯为原料,经过氯化得到氯代碳酸乙烯酯,再通过氟化钾转化制备氟代碳酸乙烯酯,进一步精制得到工业级氟代碳...

喷雾氟化钾,结晶氟化钾,氟化氢铵,氟化锶等产品用途

含氟中间体的制造，主要采用氟气、氟化氢、氟化钾为氟化剂进行氟化反应；但由于氟气与氟化氢毒性大、腐蚀性强，对环境的污染大，目前含氟中间体的氟化方法大多采用活性氟化钾氟化。据统计，2010年消耗活性氟化钾约4.5万吨。2、用作金属冶炼、焊接助剂　　氟化钾在金属冶炼上的应用，主要作为金属冶炼造渣熔剂（造渣...

高三化学总复习 第一章 物质的量|摩尔|溶液|溶解度|溶质|离子...

4.右图表示物质A在四种溶液W、X、Y、Z中的溶解度曲线,据此,用重结晶法提纯A时,最宜采用的溶剂是:()A.WB.XC.YD.Z知识点:考查物质曲线度曲线能力点:培养学生正确识图,判断溶解度曲线的能力。5.在一定体积的容器中,加入1.5mol氙气和7.5mol氟气,于400℃和2633KPa压强下加热数小时,然后迅速...

高中化学离子共存/离子检验/离子方程式总结

14、氟气通入水中:2F2+2H2O=4HF+O2↑2F2+2H2O═4HF+O2↑15、氯气通入冷的氢氧化钠溶液中:Cl2+2NaOH=NaClO+NaCl+H2OCl2+2OH-═Cl-+ClO-+H2O16、FeBr2溶液中通入过量Cl2:2FeBr2+3Cl2=2FeCl3+2Br22Fe2++4Br-+3Cl2═2Fe3++2Br2+6Cl-...

《核出口管制清单》已实施 质谱等仪器及部件受管制

从UO3到UF6的转化可以直接通过氟化实现(www.e993.com)2024年11月19日。该过程需要一个氟气源或三氟化氯源。7.1.3为将UO3转化为UO2而专门设计或制造的系统注释从UO3到UO2的转化,可以用裂解的氨气或氢气还原UO3来实现。7.1.4为将UO2转化为UF4而专门设计或制造的系统注释...

摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望

4、用腐蚀液溶解掉无光致抗蚀剂保护的二氧化硅层;5、去除已感光的光致抗蚀剂层。光刻技术的原理光刻技术的不断发展从三个方面为集成电路技术的进步提供了保证:其一是大面积均匀曝光,在同一块硅片上同时做出大量器件和芯片,保证了批量化的生产水平;其二是图形线宽不断缩小,使用权集成度不断提高,生产成本持续...

摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望_手机新浪网

4、用腐蚀液溶解掉无光致抗蚀剂保护的二氧化硅层;5、去除已感光的光致抗蚀剂层。光刻技术的原理光刻技术的不断发展从三个方面为集成电路技术的进步提供了保证:其一是大面积均匀曝光,在同一块硅片上同时做出大量器件和芯片,保证了批量化的生产水平;其二是图形线宽不断缩小,使用权集成度不断提高,生产成本持续...