一个零件6000万!国产光刻机核心部件终被攻破!外媒:第二个ASML

其次，国产光刻机制造商需要建立更完善的产业链，以实现零部件的兼容性和互换性，进而提升光刻机的性能和稳定性。同时，国内还应加强对光刻机相关材料的研究和开发，以提高光刻机的制造水平和技术含量。最后，政府应加大对光刻机研发的支持力度，促进光刻机产业的发展和壮大。结语随着中国在光刻机核心零件上的突...

国产光刻机离浸润式DUV技术仅一步之遥,期待新突破

但这个局也许就快要破了。国产光刻机近年来取得了令人瞩目的进步，我们离打破对国外依赖的那一天，似乎不再遥远。特别是在深紫外光（DUV）技术上，国产光刻机距离浸润式DUV只差一步之遥。而这一步，至关重要。要理解国产光刻机的崛起，先要搞清楚光刻机的发展脉络。光刻机说白了，就是利用光把电路图刻在晶...

央视官宣!国产量子芯片量产,性能飙升1000倍,光刻机不再是难题

说起光刻机，那可是芯片制造中的“大杀器”。它的精度和效率，直接影响着芯片的质量和产量。然而，长期以来，光刻机的核心技术一直被国外巨头所垄断，中国想要获取这项技术，可谓是困难重重。但国产量子芯片的量产，似乎给这个难题找到了一个新的解决思路。既然传统光刻机难以突破，那我们就另辟蹊径，发展量子芯片！

美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸

01中国工信部宣布氟化氩193nm波长、8nm的套刻精度光刻机已进入推广目录,标志着国产光刻机取得重大突破。02尽管与国外先进光刻机存在较大代差,但28nm光刻机的突破意味着中国在众多工业化领域已实现自主。03由于国内对光刻机的需求极度迫切,产业前进速度往往比预想中快,光刻机突破打破芯片制造瓶颈指日可待。04...

光刻机唯一低估大龙头,研发出第一只国产ArF光刻胶,已被错杀80%

通过进一步分析翻译官还发现,目前这家公司已经成功研发出第一支国产ARF光刻胶,这也彰显了其在光刻机领域的强大竞争力。目前,国家集成电路产业基金不仅是其大股东,并且这家企业的客户还包括了中芯国际和京东方。近期,公司已经大幅回撤了80%,并于今天出现了放量的迹象。在本周一,这家企业的成交金额只有2.33亿元。

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

风险提示:1)光刻机研发进度不及预期的风险;2)下游需求复苏不及预期的风险;3)国际贸易规则变更的风险(www.e993.com)2024年12月19日。//正文//▌1.光刻技术经过历史多次迭代1.1光刻工艺对芯片结构与性能影响极大(1)光刻是决定集成电路线宽大小的关键环节,是决定芯片性能最关键的工艺之一。英特尔创始人之一的戈登·摩尔提出的著名的摩尔定...

光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索

光刻三剑客:光刻机+光刻胶+光掩膜光刻工艺是指集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻工艺可以理解为使用光刻技术进行某一类加工的一种工艺;而光刻技术是则指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(即:光刻胶)将掩膜...

国产光刻机取得重大突破 深市产业链公司迎来发展新机遇

国产光刻机迎来重大进展。近日,工业和信息化部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用装备目录下,集成电路设备方面包括氟化氩光刻机和氟化氪光刻机。氟化氪光刻机显示为分辨率≤110nm、套刻≤25nm

光刻机国产化持续突破 多家公司股票竞相涨停

民生证券在研报中亦认为,国产光刻机技术亦在持续突破,利好半导体设备自主可控的长期发展,继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。多家公司研发成果显著据了解,光刻机是生产芯片的核心装备。光刻机技术极为复杂,在所有半导体制造设备中技术含量最高,主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料...

国产光刻机解决0到1,更先进的光刻机有了希望,ASML慌了

媒体报道指国内的光刻机已取得了重大进展,两款较为先进的光刻机已投入使用,这代表着一直备受困扰的国产光刻机取得重大进展,国产光刻机替代ASML的光刻机有了很大的希望,如果失去中国这个市场,ASML将难以承受。公布的多款光刻机中,其中一款最先进的采用193纳米波长,分辨率小于65纳米,套刻精度小于8纳米;另一款光刻...