光刻胶:半导体技术壁垒最高的材料之一

从需求端来看,光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒最高。光刻胶技术壁垒光刻胶是半导体材料中技术壁垒最高的品种之一。光刻胶产品种类多、专用性强,是典型的技术密集型行业。不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能...

光刻胶配方全自主,在国内是个什么水平?

KrF光刻胶算是国际上比较常规且走量的一款光刻胶,其实我国在这个类目以前就有产品,不能算突破;要说具有“突破性”,太紫微光电提到的“能实现配方全自主设计”,确实值得侧目。02壁垒在原材料也在于配方业内之所以把光刻胶称为“化工行业皇冠”,是因为它研发和生产难度极高,“不仅仅是一款材料那么简单”。光...

光刻胶技术突破之路,中国企业能否打破国际巨头70%的市场份额?

光刻胶的种类丰富多样，包括PCB光刻胶、显示光刻胶和半导体光刻胶等。其中，半导体光刻胶的技术含量更为复杂，主要可分为五种技术类型：G线、I线、KrF、ArF和EUV。在国内，能够达到ArF级别的光刻胶对于我们这样起步不久的企业来说，EUV5光刻胶无疑是一个“卡脖子”的关键产品。然而，在半导体光刻胶的市场中，...

光刻胶深度:国产替代加速放量

根据应用领域不同，光刻胶在大类应用上可划分为PCB用光刻胶、LCD用光刻胶和半导体应用光刻胶，随应用领域的不同其技术门槛逐级提高。根据ExactitudeConsultancy全球光刻胶市场分析，2022年全球光刻胶市场接近50亿美元，其中半导体行业占据了全球光刻胶需求的70-80%，随后为显示面板（LCD和OLED）、印刷电...

年产5000吨LCD显示光刻胶专用纳米颜料分散液项目可行性研究报告

在下游LCD光刻胶的需求持续增长，更高精度以及更高性价比的光刻胶纳米颜料分散液迫切的国产替代需求的背景下，公司通过本次项目建设“年产5000吨LCD显示光刻胶专用纳米颜料分散液项目”，有利于公司进一步布局并抢占下游市场，推动LCD光刻胶产业加速升级及国产突破，对于光刻胶产业及国家产业链实现自主可控...

昇典半导体研发量子点光刻胶:实现小于 2μm 高精度 LED 颗粒,解决...

昇典半导体已开始小批量生产(www.e993.com)2024年11月29日。经测试,该产品的色纯度、色转换效率、可成膜厚度范围、光透率等性能均优于国内外同类产品,可实现小于2μm的高精度LED颗粒尺寸,拥有多项自主发明专利,可实现国产替代,解决“卡脖子”关键原料进口问题。光刻胶作为一种在微电子芯片制造过程中使用的光敏感物质,是芯片电路进行图案...

美日荷重压下,中国半导体的十字路口

从上图我们根据ASML的数据可以看出,最先进的DUVi光刻机可以做到7~5nm,从表中我们可以看出,193nm波长的DUV光源透过DIWater折射,数值孔径可以大于空气的1,达到1.35NA,但即便如此其分辨率也只是38nm,为什么做出来的芯片能达到5nm呢?答案就在多重曝光这项技术,随着工件台套刻精度的提升,我们可以利用SADP甚至...

行业领先水平!武汉光谷实验室研发出高性能量子点光刻胶

据中国光谷官微消息,近日,湖北光谷实验室、华中科技大学集成电路学院和光电子器件与三维集成团队的张建兵等人与广纳珈源(广州)科技有限公司合作,研发出高性能量子点光刻胶(QD-PR),其蓝光转换效率达到44.6%(绿色)和45.0%(红色),光刻精度达到1um,各项性能指标为行业领先水平。

源达研究报告:国内加快成熟制程扩产,光刻胶国产替代加速突破

光刻胶品类可根据配套使用的光刻胶划分。光刻机按照不同加工工艺节点可分为g/I线、KrF、ArF、ArFi和EUV,分别对应不同的加工精度。光刻胶可根据配套使用的光刻机类型划分为g/I线胶、KrF、ArF、ArFi和EUV。表1:不同精度的光刻机对光刻胶品类要求不同...

年产1.2亿㎡高端光刻胶项目拟投建

主要建设内容:年产1.2亿㎡高端感光线路干膜光刻胶项目,可用于半导体引线框架、半导体显示用基板、柔性PCB精密基板、手机通讯高密度基板等高精度市场。目前公司相关产品已通过部分客户的验证并实现小批量供货。随着电子技术的日益发达,电子芯片、电子线路板愈发精细,高精度感光干膜的应用比例不断增加,高精度、高感度、高...