精度≤8nm!首台国产DUV光刻机面世,欧美集体“失守”
这份目录一经公布,很快就引起了国际科学界的高度重视。在套刻精度小于8nm的时候,大部分人都会以为8nm以下的制程,就可以制造出更高级的芯片了,但事实并非如此,套刻的精度是一种曝光误差,通常只占到1/3。这款氟化氩光刻机,可以用于制作28纳米以上的成熟芯片,是一种微型深紫外器件。虽然和ASML最顶尖的...
印度报道中国光刻机为20年前技术,瞬间被各国网友打脸嘲讽
光刻机的工作原理类似于“高科技印刷机”。它的主要任务是将电路图形“印”在芯片的硅晶片上,通过光的作用精细“雕刻”出电路。这种设备直接影响芯片的性能,其“雕刻”越精细,芯片性能越好。在半导体行业中,“制程”是关键术语,用纳米(nm)衡量光刻机的“雕刻”精度。数值越小,技术越先进。例如,早期的90nm...
官宣!投资50亿光刻机工厂落户浙江,ASML最不愿意看到的情况出现
芯片是通过光刻机在硅片上刻画出精细的图案制成的,光刻机的雕刻精度直接影响到芯片的尺寸和性能。EUV指的是极紫外光,其波长仅为5纳米。光的波长越短,雕刻的精度越高,芯片的处理速度越快,性能越强大。由于拥有这样的技术,EUV光刻机的价格自然不菲,其成本高达2亿美元,全球能负担得起的公司屈指可数。我国为了...
中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗
光刻机的技术复杂性在于,它需要极高的光学精度和纳米级的操作控制。为了让一束光能够在纳米尺度的范围内精确雕刻芯片线路,光刻机必须使用由多达几十枚顶级镜片组成的光学系统。此前,全球只有极少数国家的企业掌握了这种光学镜片的制造技术,而中国必须在完全封锁的环境中自行开发。从光源、镜片到机床的精度控制,每...
印度报道中国光刻机,20年前技术引热议,印网友遭全球嘲笑
这种设备决定了芯片的命运,光刻机的“雕刻”精度越高,芯片的性能就越好。在半导体行业,最关心的词汇之一是“制程”,它用纳米(nm)来描述光刻机的“雕刻”精度。简单来说,数字越小,技术水平越高。例如,早期的90nm制程相当于用“显微镜”观察世界。现在的5nm制程已经可以称之为将“蚂蚁的毛发”都刻画得淋漓...
新型国产光刻机问世,“正能量”谣言满天飞,结果仍然落后18年
套刻精度,顾名思义,是指光刻层之间的对准精度,它决定了芯片制造过程中各层之间的精确对齐程度,对于提高芯片制造的质量至关重要(www.e993.com)2024年10月20日。而芯片制程,则是指芯片上晶体管之间的最小距离,它决定了芯片的性能和功耗。因此,仅凭套刻精度,并不能判断一款光刻机的先进程度。
资深供应商落户无锡, 国产光刻机的“春天”来临!
众所周知光刻机对于芯片制造来说,就像是雕刻刀对于雕刻家一样重要。没有高精度的光刻机,就无法造出高性能的芯片。而从KMWE把工厂设在了无锡来看,这意味着是对中国半导体市场的一种认可。随着三星、英特尔、台积电这些半导体巨头在中国的布局,中国的半导体产业链正在逐渐完善。KMWE的加入,无疑会进一步提升整个产业...
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王_澎湃号·媒体_澎湃新闻-The Paper
不过,通过和芯片巨头们的交谈,他也发现了一个重要的信息:当时,芯片已经从大规模集成电路(LSI)发展到了超大规模集成电路(VLSI),芯片线路将缩小到1微米以下。如果按照摩尔定律,那么在两年之后,芯片的制造就要求能够实现0.7微米以下的成像,但包括尼康、佳能、CGA在内的所有光刻机当时都还不能达到这一精度。
冰刻技术在理论和技术上,能不能实现现在的EUV光刻机的精度?
冰刻技术完全可以实现与EUV光刻机相当的精度。只不过要实现这个精度,必须让电子束直写光刻机的的分辨率达到纳米级别才行。其实“冰胶+电子束”的效率是远远比不上“光刻胶+光刻机”的。因为要让水蒸气凝结在晶片上,还必须在零下140℃进行,此外使用的还是电子束刻机,要一点一点的进行雕刻那速度比较慢。从制造...
柔弱的雕刻大师——EUV光刻机
从第一代和第二代光刻机,其使用光源分别为436nm的g-line和365nm的i-line;到第三代扫描投影式光刻机,使用的248nm的KrF激光,光刻机实现了跨越式发展,将最小“雕刻精度”推进至180-130nm;而到了今天,人类已经开始使用波长为10-14nm的极紫外光,其“雕刻精度”也来到了5nm、甚至是3nm,而EUV光刻机也就因...