把中国光刻机变“废铁”?我国光刻机成功维修,或将改变世界格局

修复只是一个开始，真正让世界震撼的是，中国的科研人员还自主研发了一台28纳米制程的光刻机。有人可能说，这离欧美的尖端技术还有差距，当前最先进的芯片制程已经达到了7纳米，甚至5纳米的量产能力了。但别急，这台28纳米光刻机，已经能覆盖大部分芯片制造所需的工艺。要知道，市面上使用的很多电子产品，比如手机...

官宣!中国光刻机重大突破,已成为全球唯一生产线完整的国家!

就在各方争论不休之际，一个惊人的消息传来中国自主研发的光刻机已成功应用于7纳米芯片的量产！这一突破性进展彻底颠覆了外界的预期，也给质疑者当头一棒。要知道，7纳米工艺可是当前全球最先进的芯片制造技术之一，能够在这一领域实现突破，无疑证明了中国光刻机技术已经达到世界一流水平。这一消息一经公布，立即...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

此次推出的65纳米光刻机,虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距,但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域,28纳米及以上的芯片需求庞大,而中国自主研发的光刻机正好填补了这一市场空白。更重要的是,随着国产光刻机的不断改进,中国芯片产业逐步摆脱了对外技术的依赖。这不...

牟林:中国半导体产业发展的艰辛与奋斗之路

比如在高端芯片制造工艺上,国际先进水平已经达到3纳米甚至更小的制程,而中国在7纳米及以下制程的技术仍面临诸多难题。在半导体设备方面,光刻机等关键设备被国外少数企业垄断,中国的自主研发进展缓慢。此观点的影响,这种言论可能会打击行业信心,让一些投资者和企业对半导体产业的发展前景产生疑虑,从而减少对产业的...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

光刻是半导体生产过程中最重要的步骤之一,典型的光刻工艺流程包括8个步骤,分别是底膜准备、涂胶、软烘、对准曝光、曝光后烘、显影、坚膜、显影检测。在光刻机的发展历史中,光刻技术经历了接触/接近式光刻机、扫描投影光刻机、步进重复式光刻机到现在的步进扫描光刻机的发展历程,现阶段主流技术为步进扫描光刻机,...

2025-2030年中国光刻机行业投资规划及前景预测报告

我国拥有光刻机独立生产技术的公司只有五家(www.e993.com)2024年11月2日。其中,上海微电子是国内光刻机龙头,承担多项国家重大科技专项和02专项光刻机科研任务,2022年2月7日,上海微电子举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式,这标志着中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户。2022年11月15日,国家知识产权局公布了华为的一项新专利“...

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

5月22日,据俄罗斯媒体报道,俄罗斯企业成功造出了能够生产350纳米级芯片的光刻机,这个重大进步提升了俄罗斯在微电子领域的实力与竞争力,更为科技发展注入了新的活力。很多人都知道光刻机是少数中国还未彻底攻克的“工业明珠”,不然美国也不会动不动要求荷兰停止向中国出口光刻机。现在看到俄罗斯造出光刻机了,第一...

中国芯片加速5纳米量产,以现有设备实现先进工艺的突破

据了解北京一家企业正在研发一种利用现有光刻机生产5纳米工艺的技术,预计很快就能实现量产,该工艺的核心技术是自对准四重图案化(SAQP)技术,类似技术曾被台积电用于7纳米,Intel也曾试图利用该项技术。Intel是最早考虑多重曝光技术的,2014年它就已量产14纳米工艺,2016年ASML还没量产EUV光刻机,Intel就试图利用DUV光刻...

不堵车的高速公路!科学家成功制成新型薄膜半导体:电子迁移速度约...

科学家利用成功研制出一种新型超薄晶体薄膜半导体,其电子迁移速度约为传统半导体的7倍。因此,从半导体产业链上看,该技术处于产业链的上游环节。宏观市场观察——全球半导体产业迁移情况全球半导体产业共经历三次产业迁移:20世纪80年代,由美国本土向日本迁移,成就东芝、松下、日立等;20世纪90年代末期到21世纪初,由美...

...企业总营收突破10000亿元 商务部回应美方干扰荷兰对华出口光刻机

商务部新闻发言人束珏婷表示,我们高度关注美方直接介入、干扰荷兰企业对华出口光刻机问题。美方将出口管制问题工具化、武器化,甚至对其他国家企业间的正常贸易横加干涉,中方对此坚决反对。我们敦促荷方尊重契约精神,支持企业开展合规贸易,维护自由、开放、公正、非歧视的国际贸易环境。中方将密切关注事态动向和影响,采取必...