...种新的量子传感范式 ?? 为十纳米以下芯片的缺陷检测提供技术...

光明日报我科学家提出一种新的量子传感范式??为十纳米以下芯片的缺陷检测提供技术支撑科技前沿本报合肥1月9日电(记者丁一鸣)日前,中国科学技术大学中国科学院微观磁共振重点实验室杜江峰院士、王亚教授等人在量子精密测量领域取得重要进展,提出基于信号关联的新量子传感范式,实现对金刚石内点缺陷的高精度...

撕下自由竞争面具,遏制中国技术发展,美“芯片法案”藏着多少...

首先,对中国封锁28纳米以下的技术和设备及材料。集微咨询总经理韩晓敏对记者表示,芯片法案的限制主要体现在两方面:一是持续禁止先进制造相关的设备、材料等供应链资源给到中国本土企业,压制中国企业在先进制造领域的研发进度;二是要求获得芯片法案支持的芯片企业不得在中国大陆进行先进工艺的投资,继续割裂中国市场和全球供...

制程进入2纳米时代,半导体行业的计量与检测如何应对?

白光干涉法(WLI)是一种常用于混合键合前的检测技术,它能够对晶圆边缘的CMP(化学机械抛光)滚落进行表征,并测量键合前铜垫的凹陷深度。而AFM(原子力显微镜)则提供了氧化物和铜之间的精确偏移,通过结合WLI和AFM的优势,可以更全面地检测和表征混合键合过程中可能存在的缺陷。在前沿工艺中,尤其是纳米片晶体管和CFET等...

16.1%!国产存储芯片“iPhone时刻”正在来临!

二、长鑫存储技术追上主流与此同时,长鑫存储在技术上也在快速提升,长鑫存储2023年19纳米约占产量的90%,但在一年内通过快速工艺转型将其提高到目前的17纳米,并宣布明年量产16纳米。这与完成第六代10纳米级开发的三星电子和SK海力士相比,虽然还存在3代左右的差距;但技术水平已经逐步拉近,DRAM存储产品性能已经基本达到...

国产DUV光刻机再上台阶:打破技术封锁,7纳米芯片不再是个梦

氟化氩与氟化氪光刻机的技术突破氟化氩光刻机和氟化氪光刻机是当前半导体制造中不可或缺的关键设备。光刻机在芯片生产中用于将电路图案精确地转移到硅片上，是半导体制造过程中最复杂、最关键的设备之一。氟化氩光刻机使用的是193纳米的光源，分辨率可达65纳米，其套刻精度低至8纳米，这意味着它能制造28纳米及更...

纳米材料治肿瘤、非侵入监测微生物……专家展望生物医药前沿

9月27日下午，2024年第二十三届浦江学科交叉论坛在上海生物医药前沿产业创新中心举办(www.e993.com)2024年11月3日。本届论坛以“智绘医药科创未来”为主题，汇聚党内外专家智慧建言献策。从纳米材料到智能生物芯片，生物医药前沿技术彼此对话。论坛现场本文图片均为主办方供图纳米医学肿瘤治疗主论坛上，中国科学院上海硅酸盐研究所研究员、博士生...

孙奋勇教授:分子诊断创新技术研究前沿

该技术仅用两个环状StapleRNA,能够保留mRNA的大部分活性区域,从而确保其翻译效率;实现了Smad4mRNA靶向递送至结直肠癌细胞和胞内Smad4蛋白翻译表达,有效抑制了结直肠癌的生长进程。该研究发表在NatureCommunications(IF:14.7)。传统核酸折纸技术以数百个线性寡核苷酸作为主体,折叠形成紧密的双链结构,用于mRNA纳米化,但...

中国纳米级别的芯片背后技术积累和产业布局?国科院研究中心

芯片制造技术是一个复杂而精密的过程,涵盖了从设计、掩膜制作、半导体制造到封装测试等多个环节。其中,光刻技术是实现图案转移的关键步骤,随着芯片特征尺寸的不断缩小,对光刻技术的要求也越来越高。目前,国际领先的芯片制造厂商如台积电、三星等已经能够量产5纳米甚至更先进工艺的芯片,并持续向3纳米、2纳米乃至更细线...

媒体曝国产DUV光刻机成功研发,这意味着什么

氟化氩光刻机虽然无法立即生产目前全球最先进的5纳米或更小制程的芯片,但它能够支持7纳米及以上制程节点的芯片生产。通过这一设备,华为可以加速推动自主芯片的制造和供应链的本地化,从而减少对国外先进光刻设备和晶圆代工厂的依赖。此外,虽然氟化氩光刻机尚未达到极紫外光刻技术的精度,但我国科技企业可以通过多重曝光...

好消息!真正中国芯,全球首颗车规级5纳米芯片成功量产

蔚来的技术革新蔚来汽车最新推出的芯片被命名为“神玑NX9031”。这款芯片采用了尖端的5纳米制造工艺，将其推向了车规级芯片技术的前沿。相较于市场上大多数仍采用7纳米甚至16纳米工艺的其他车规级芯片，蔚来的这款芯片显著领先。它内部集成了超过500亿晶体管，实现了在极小的芯片空间内部的高密度晶体管布局，其...