...质蜡的加氢工艺专利,减少生物油脂中杂质对固体催化剂的刻蚀作用
本发明开发了二段加氢工艺,采用液体催化剂和固体催化剂联用,减少生物油脂中杂质对固体催化剂的刻蚀作用,具有原料适应性强、工艺流程简单易操作和生产成本低等特点。本文源自:金融界作者:情报员
一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻
刻蚀工艺作为半导体工艺中的核心环节,直接决定了器件的结构和特性,刻蚀工艺用于精确地去除或调整半导体表面的材料,以形成所需的结构和电路图案。#01刻蚀工艺的发展历程如图展示了半导体产品的发展与刻蚀和沉积技术的关系,揭示了技术进步的重要节点和趋势。半导体产品从早期的4-bitDRAM发展到更复杂的MLC3DNAND...
盛美上海新品发布!推出Ultra C bev-p面板级边缘刻蚀设备
UltraCbev-p设备采用专为边缘刻蚀和铜残留清除而设计的湿法刻蚀工艺,在扇出型面板级封装技术中起到至关重要的作用。该工艺对于有效避免电气短路、最大限度降低污染风险、保持后续工艺步骤的完整性至关重要,有助于确保器件经久耐用。该设备的高效性主要得益于盛美上海的专利技术,以应对方形面板衬底所带来的独特挑战。
等离子体刻蚀在半导体图案化中工艺流程
此时,将通过物理作用得到的阳离子和化学作用得到的自由基结合进行物理化学刻蚀,与单独进行阳离子刻蚀或自由基刻蚀的情况相比,刻蚀速率(EtchRate,一定时间内刻蚀程度)增加了10倍。这种方法不但能够增加各向异性向下刻蚀的刻蚀速率,同时也能够解决刻蚀后聚合物残留的问题。这种方法被称为反应离子刻蚀(RIE)法。RIE刻蚀法成...
光刻技术的过去、现在与未来
光刻技术的崛起对现代芯片制造起到了至关重要的作用。它的高精度、高效率和可控性,使得它成为了制造先进微电子器件的关键工艺之一。光刻技术在芯片制造中的广泛应用,促进了半导体工业的快速发展,并为现代科技的进步奠定了坚实的基础。2.光刻技术的关键原理与工作流程...
盘前有料|国办印发意见推动服务贸易高质量发展……重要消息还有这些
创世威纳拥有15年微米纳米镀膜与刻蚀经验,其推出的系列镀膜机、刻蚀机及其他真空设备可以满足市面上多种膜系、刻蚀形貌的工艺要求(www.e993.com)2024年9月8日。本次股权投资事项有助于丰富公司在科研及先进制造领域的产品和服务,并加强在半导体、光电器件、航空航天等领域的布局。锋尚文化:参股公司北特圣迪股东拟回购45%股权锋尚文化(300860)...
国产半导体设备四巨头罕见对话,信息量爆棚!
4位嘉宾都认为,芯片从二维到三维的结构变化会带来很大的市场机遇。尹志尧称,集成电路发展到这一阶段,光刻机的关键作用在减弱,而刻蚀、薄膜和其它设备的关键作用在增强。深层结构不是靠光刻,而是薄膜等其它设备的综合作战,这对国内企业来说是很大的机会。
中金公司:半导体真空零部件国产替代有望加速
清洁工艺:包括量测、光刻工艺,也包括中等工艺、苛刻工艺设备的装载腔室和传输腔室,对于真空泵的要求通常为高可靠性、低成本、能够实现快速抽气、体积小等特点;中等工艺:包括PVD、干法去胶、介电刻蚀、硅刻蚀、离子注入等,其对于真空泵的要求通常为快速抽真空、低功耗、高性能等特点。
琴键开关的技术创新与应用案例:探索智能化交互的未来
2.新工艺的突破:激光刻蚀技术传统的制造琴键开关的工艺通常采用注塑成型或冲压成型,但这些工艺存在着一定的局限性。近年来,激光刻蚀技术的发展为琴键开关的制造带来了新的突破。激光刻蚀技术可以实现对微小结构的精确加工,从而实现更加精细化、个性化的琴键开关设计。
技术前沿:半导体光刻
主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上,为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3,耗费时间约占整个硅片工艺的40~60%。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。1、硅片清洗烘干(CleaningandPre-...