这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关

王燕清凭借敏锐的市场洞察力,意识到了半导体ALD技术在光伏领域的应用潜力,他与黎微明、李翔一拍即合,决定利用公司在半导体领域积累的技术优势,将ALD技术率先引入光伏产业中。2016年,黎微明带领团队研发出批量型“夸父”原子层沉积设备,用于光伏电池片生产过程中的薄膜沉积环节,标志着中国自主创新的光伏核心装备取得重要突破...

韩国成功研发原子层沉积技术 可减少EUV工艺步骤

据韩国半导体公司周星工程最新研发出原子层沉积(ALD)技术,能够在生产先进工艺芯片中减少对极紫外光刻(EUV)工艺步骤的需求。EUV又称作超紫外线平版印刷术,是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前广泛应用于7纳米以下的先进制程。周星工程董事长ChulJooHwang表示当前DRAM和逻辑芯片的扩展已经达到了极限,因此需要像NAND...

默克通过开发原子层沉积(ALD)前驱体对应柔性OLED薄膜封装工艺

在柔性OLED的核心技术——薄膜封装(TFE)工艺中,默克导入了原子层沉积(ALD)方法,以替代传统的化学气相沉积(CVD)方法。根据韩媒Sisajournal报道,据显示行业8月27日消息,默克公司已成功开发了一种适用于ALD工艺的前驱体,并将其应用于柔性OLED的薄膜封装过程中。据悉,这种新方式实现了极高的异物检测精度,接近零检测率...

韩国半导体厂商研发 ALD 新技术,降低 EUV 工艺步骤需求

IT之家7月16日消息,韩媒TheElec报道,韩国半导体公司周星工程(JusungEngineering)最新研发出原子层沉积(ALD)技术,可以在生产先进工艺芯片中降低极紫外光刻(EUV)工艺步骤需求。IT之家注:极紫外光刻(EUV)又称作超紫外线平版印刷术,是一种使用极紫外光波长的光刻技术,目前用于7纳米以下的先进制程,于2...

【喜报】万业企业2023年上半年财报营收/利润双劲增; 安凯微上市首...

当记者问到合肥康芯威的上市规划时,王彪提到:科创板上市只是万里长征的第一步。合肥康芯威分别于2022年3月、2023年8月完成了两轮融资,公司即将进入上市辅导阶段。在后续的业务发展过程中,合肥康芯威将逐步从芯片设计企业成长为多元化的存储方案提供商,为国家存储产业的发展贡献力量。

如何让您的锂电池发挥更大效能?试试Forge Nano 原子层沉积(ALD...

图4则进一步提高了这一性能(www.e993.com)2024年11月1日。图4显示了未进行涂层包覆的电池在4.4V电压下循环时的放电容量,以及使用ForgeNanoALD技术进行电极涂层包覆的电池在4.5V电压下循环时的放电容量。更高的电压运行与受保护的电极相结合,电池的初始放电容量提高了18%。此外,更高的工作电压不会影响电池的使用寿命,这意味着...

一文了解原子层沉积(ALD)技术的原理与特点

Part01.原子层沉积技术基本原理一个完整的ALD生长循环可以分为四个步骤:1.脉冲第一种前驱体暴露于基片表面,同时在基片表面对第一种前驱体进行化学吸附2.惰性载气吹走剩余的没有反应的前驱体3.脉冲第二种前驱体在表面进行化学反应,得到需要的薄膜材料...

他,三年3篇Science,屡破纪录!_腾讯新闻

重点是SnOx电子传输层(ETL),它使用原子层沉积(ALD)沉积在钙钛矿活性层的顶部。选择这种方法是因为它可以精确控制厚度和成分,从而可以调节SnOx层中的氧空位以提高器件效率。作者测试了各种TDMASn剂量比和沉积周期,以实现最佳性能。图1B显示了X射线光电子能谱(XPS)结果,结果表明,50:20TDMASn的ALD比例产生了最佳效果...

下一个北方华创,微导纳米,ALD设备龙头,研发费率堪称逆天

就这个逻辑而言,未来ALD市场逐步扩大,在薄膜沉积设备市场中的占比逐步提升几乎是必然的。而微导纳米作为国产ALD设备龙头企业,也是首家成功将量产型High-k原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司,有望充分受益于这个过程。03两手都要抓两手都要硬...

中国科大在腈类化合物加氢选择性调控方面取得新进展

球差矫正透射电镜证明了Pd主要以单原子分散物种存在(图1b);同步辐射X-射线吸收谱证实了改变PdALD周期对Pd聚集体结构的精准调控,且通过Pd-Ni配位环境分析证实了Pd1NiSASA结构的形成(图1c)。在苯甲腈催化加氢反应中,获得的Pd1NiSASA催化剂(5Pd-Ni/SiO2)打破了传统的“金属-选择性”关联,相比Pd/SiO2催化剂,...