胜利精密:公司磁控溅射技术是氩气电离后在电场作用下不断轰击靶材...
公司回答表示,您好,公司磁控溅射技术是氩气电离后在电场作用下不断轰击靶材,将靶材以原子状态溅射沉积在工件表面,形成致密的镀膜层,是一种高精密的真空镀膜加工工艺。相关技术已应用在公司玻璃镀膜和复合集流体等产品上。感谢您的关注!
胜利精密:磁控溅射技术已应用在公司玻璃镀膜和复合集流体等产品上
公司回答表示:公司磁控溅射技术是氩气电离后在电场作用下不断轰击靶材,将靶材以原子状态溅射沉积在工件表面,形成致密的镀膜层,是一种高精密的真空镀膜加工工艺。相关技术已应用在公司玻璃镀膜和复合集流体等产品上。本文源自:金融界
博远微纳高真空双靶磁控溅射镀膜机VPI博远微朗-博远微纳-新品
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场...
宝来利蒸发镀膜和溅射镀膜分析
发真空镀膜设备这三种蒸发镀膜技术虽然原理都是一样,都是通过高温蒸发材质汽化的方式镀膜,但是所应用的环境却不一样,镀的膜材和基材也有不同的要求。高频感应加热蒸发是将装有镀膜材料的坩埚放置在高频螺旋线圈的中心,使镀膜材料在高频电磁场的感应下产生强大的涡流电流和磁滞效应,致使膜层升温,直至气化蒸发。蒸发源一...
一种磁控溅射制备的太阳选择性吸收涂层的 开发与应用研究
该技术的原理是在镀膜机内设置立式单圆柱铝靶的磁控溅射系统,而立式单圆柱铝靶位于中心位置,在氩气中非反应溅射沉积铝底层,再注入流量可控的氮气,制备多层铝-氮复合薄膜材料作为太阳选择性吸收涂层。这种涂层的太阳吸收比可达0.93,发射比约为0.05(80℃)。采用全玻璃真空太阳集热管作为集热元件的真空管型...
汽车窗膜工艺对比:蒸镀 VS 磁控溅射
磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程(www.e993.com)2024年10月23日。原理:将基材送入设有磁控阴极和溅射气体(氩气)的真空室内,阴极加负电压,在真空室内辉光放电,产生等离子体,由于金属靶材带负电,等离子体中带正电的气体离子被加速,并以相当于靶极位降U的能量撞击靶面,将金属靶的原子轰出来,使之沉淀在基材表面上而形成金属膜。
复合集流体行业专题报告:进入加速落地阶段,设备最受益
真空磁控溅射与蒸发镀膜均属于物理气相沉积(PVD),也被称为“干法”工艺;3)水电镀膜为典型的“湿法”工艺,利用电沉积原理,将待加工的镀件接通阴极放入电解质溶液中,直流电的作用下金属铜进入镀液,并不断迁移到阴极表面发生还原反应,逐步形成金属铜镀层。但PET等高分子材料不导电,无法直接进行化学电镀,需要...
新能源新材料系列研究:复合集流体行业简析
采用真空磁控溅射技术镀膜是制作复合铜箔的首个步骤,可分为真空磁控溅射活化及真空磁控溅射镀铜两个环节。真空磁控溅射活化是采用高分子材料作为基膜,通过PVD的方法,控制设备本体进入真空状态,再通入纯净的氩气(一般纯度大于99.99%),电子在真空条件下,在飞跃过程中与氩离子发生碰撞,使其电离出氩正离子和新的电子。受...
21私募投融资周报(6.26-7.2):百明信康完成逾11亿元C轮融资 长飞...
6月29日消息,复合集流体设备厂商——无锡光润真空科技有限公司(下称“光润真空”)完成天使轮融资,本轮融资由无锡市天使基金独家完成。本轮融资资金将主要用于推进复合集流体专用磁控溅射镀膜设备的研发生产,加速新一代产品迭代落地。光润真空成立于2016年,是国内较早从事柔性复合集流体真空磁控溅射镀膜的设备企业,并曾...
复合铜箔行业研究:设备工艺逐步成熟,复合集流体量产进入倒计时
磁控溅射原理是低压气体中的辉光放电现象,在1870年开始应用镀膜技术,1930年之后由于沉积效率提升而逐步开始应用于工业生产。磁控溅射设备是一个腔体,内部包含阴阳两极,其工作原理是,在阴极放置靶材、阳极放置基膜,在工作过程中将腔体内抽真空并通入氩气,在阴极和阳极中间施加千伏电压,Ar+在辉光放电的作用下飞...