...1510nm - 1575nm 波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺专利,提高...
金融界2024年10月17日消息,国家知识产权局信息显示,江苏先导微电子科技有限公司申请一项名为“1510nm-1575nm波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺”的专利,公开号CN118773546A,申请日期为2024年6月。专利摘要显示,一种1510nm??1575nm波段大角度减反射膜的光学镀膜工艺包括步骤:S1,将基...
江苏徐州工业园区-PVD真空磁控溅射镀膜项目可行性研究报告
(在密闭空间内使用真空镀膜机,采用磁控溅射技术,将SiO2靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并最终在衬底上沉积成SiO2保护膜)。⑦ITO镀膜:对半成品进行ITO镀膜。(在密闭空间内使用真空镀膜机,釆用直流电磁控溅射技术,以ITO(氧化铟锡)靶材为阴极,通入氧气、氧气并在电场作用下,诱使离化气体轰击ITO(...
溅射镀膜技术的前世今生你到底知多少?
LCD用的ITO玻璃的结构有三层(玻璃/SiO2/ITO),目前成熟的ITO膜玻璃的镀制技术为:采用SiO2靶,用射频溅射法制备SiO2膜;ITO膜采用缺氧的ITO把,采用通氧反应磁控溅射法制备。小编本科毕设所做课题与太阳能光热吸收薄膜有关,制备方式中就涉及到了溅射技术。红外反射层铜膜采用直流磁控溅射铜靶的方式实现;氮氧化物双吸...
复合集流体行业研究报告:从0到1,当前设备更受益
首先使用蒸镀设备使固态铝转为气态铝,同时通入氧气,是氧气与率分子反应生成氧化铝,沉积在基膜上进行打底,形成5-15nm的铝氧化层;然后不通氧气,再利用率蒸镀设备对打底层加厚到1000nm,整个镀敷过程在真空室内进行,且膜面背面紧贴通入-20℃至-30℃冷却液的钢棍,使膜在受热的同时可以进行急速降温,使分子...
MEMS结构科普:氧传感器知识研究
其中:A是质量作用常数,是和氧空位浓度有关的系数;σ是TiO2的电导率;μn是电子迁移率;P为氧分压;随着离子缺陷的本质及电离情况,x的值在4~6之间变化。交流磁控溅射镀膜法是在磁场的控制下,利用高压电场使惰性气体辉光放电产生电离,电离产生的正离子高速轰击靶材,使靶材上的钛原子溅射出来,溅射出的钛原子...
TOPCon设备专题报告:规模量产,PECVD成为主流工艺
而LPCVD法是指:硅烷SiH4与氧气O2,约450-600℃高温下,反应生成SiO2(www.e993.com)2024年10月27日。2)等离子体辅助N2O氧化法(PECVD):在PECVD中等离子体电子的能量驱动下,N2O(笑气)会发生电离或分解作用,进而产生的游离O作用在硅片表面,发生氧化反应;3)ALD法也被用来制备SiO2,反应机理:氯化硅Si2Cl6在O3/O2...
芯片制造过程中的化学反应|显影|涂敷|光刻胶_网易订阅
4、镀膜切割后得到晶片基片,在基片表面形成一层SiO2薄膜,并在SiO2薄膜中进行N型、P型掺杂。SiO2薄膜的形成可以通过氧化、化学气相沉积等方法进行,掺杂方法有热扩散掺杂、离子注入掺杂等。4.1氧化制膜将晶片放人高温炉中加热,氧气或水蒸气在硅表面起化学作用,形成均匀的二氧化硅薄膜层。