等离子刻蚀机 —— 表面处理的创新技术

而等离子刻蚀机只需要使用少量的气体,不会产生大量的废水和废气,对环境友好。同时,等离子刻蚀机的刻蚀效率高,可以在短时间内完成对材料的刻蚀。这对于提高生产效率和降低成本具有重要意义。三、等离子刻蚀机的应用领域1.半导体制造等离子刻蚀机是半导体制造中不可或缺的设备之一。它可以用于刻蚀硅片、绝缘体、金属...

华林科纳新一代槽式一体机——湿法刻蚀清洗一体机

以下为华林科纳湿法刻蚀清洗一体机的详细信息:一、工作原理湿法刻蚀:在将产品放入槽内后,槽盖密封关上,体内开始进行抽真空模式同时超声波开启,此方式利用超声波清洗在一定真空度下优质的空穴效应,增强化学蚀刻溶液与被蚀刻物体表面发生化学反应,排除工件表面和孔隙中的空气,从而有效的剥离或去除部分杂质或材料。DIW...

盛剑环境(603324.SH):公司完成了工艺废气处理设备、真空设备和...

半导体附属装备及核心零部件作为公司核心战略创新业务之一,目前公司围绕该领域逐步完成了工艺废气处理设备、真空设备和温控设备的国产化研制。上述设备共同作用于对半导体制程设备反应腔的辅助控制,可使反应腔满足刻蚀、离子注入、扩散及薄膜沉积等工艺所需的环境条件,是半导体制程附属装备中不可或缺的重要组成部分。公司通过...

先导芯光电子科技(武汉)有限公司高端化合物半导体材料及芯片器件...

2#厂房、3#厂房有机废气经沸石转轮+CO炉(催化燃烧)焚烧后由高度29m排气筒外排,2#厂房碱性废气经两级酸液洗涤后由高度29m排气筒外排,2#厂房台面刻蚀废气经本地POU(电热水洗)+两级碱液洗涤处理后通过29m排气筒排放,污水

盛剑环境2023年年度董事会经营评述

1)半导体工艺废气系统解决方案公司针对半导体生产工艺环节持续产生的复杂废气,依据这些废气的特性,提供系统解决方案。公司的工艺废气治理系统覆盖了客户的生产工艺过程,与其生产工艺同步进行废气收集、处理及排放,有力保障了客户的产能利用率、产品良率、员工职业健康及生态环境,是客户生产工艺不可分割的组成部分。工艺废气...

钧山:国内这家半导体专用设备企业,今天上市了!

以半导体温度控制设备来讲，和光刻机、刻蚀机、离子注入机、薄膜沉积设备等等全球知名的重点设备相比，它并不十分起眼，但在种类子类、工艺类型众多的半导体设备当中，这个设备领域也长期由国外厂商把控，造成卡脖子问题(www.e993.com)2024年11月20日。从京仪装备的三大设备产品来看，半导体专用温控设备的主要竞争对手是ATS、SMC，半导体专用工艺废气处理...

娄底市生态环境局关于湖南蓝芯微电子科技有限公司MLED显示芯片...

综上表所述,各废气均得到有效处置,废气产生的影响较小。3、噪声本项目噪声主要源于生产设备及动力设备运行,动力设备中冷却塔、风机等设置于室外,其余设备均位于室内。考虑到本项目属于精密加工行业,设备对环境微震动要求极高,故生产设备噪声较低(≤75dB(A));其余设备噪声值范围为80~90dB(A)。经预测,项目建成...

哈工大团队提出基于多酚的分子焊接策略,可用于废气处理和净化

首先，多酚水解呈酸性，可以作为刻蚀剂处理ZIF-8得到低传质阻力的中空结构；其次，多酚表面的酚羟基能够和ZIF-8表面的金属位点配位，从而改变ZIF-8表面的化学性质，进而和有机聚合物基质产生更好的相容性。而这种特殊黏附性是由其化学结构导致的，主要原因有三点：其一，氢键作用。酚羟基中的氢原子可以形成...

废气处理——半导体工艺有机溶剂(VOCs)尾气处理设备

半导体产业中的有机废气主要来源于清洗、均胶、去胶、刻蚀、显影工序,其中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,主要成分为异丙醇、光刻胶等有机物,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。挥发性有机气体(VolatileOrganicCompound),简称VOCs,由于VOCs具有渗透、脂溶...

从砂到芯:芯片的一生

以下,果壳硬科技将对光刻机、涂胶显影机、刻蚀机、薄膜沉积设备、热处理设备(氧化退火设备)、离子注入设备、化学机械平摊(CMP)设备、清洗设备、过程检测设备几类价值分量最高的九种设备进行详细剖析。光刻机光刻机是芯片制造中最庞大、最精密复杂、难度最大、价格最昂贵的设备,光刻成本占芯片总制造成本的三分之...