有望打破EUV光刻机技术封锁,未来或改变芯片行业格局

但有了光子芯片技术，咱们就找到了一条新路，可以绕过这个技术封锁。这不仅是技术上的突破，更是在向全世界宣告中国有能力在没有EUV光刻机的情况下，也能造出牛逼的芯片。咱们也得实事求是。虽然光子芯片给咱们中国芯片产业带来了新希望，但现在就说完全不需要EUV光刻机，那还真有点言之过早。在7纳米以下的先进...

在美国的重重封锁下我国国产“芯”技术再突破,目标直指5nm

从官方消息来看,国产T150A光刻胶的分辨率已经达到了120nm,足以满足5nm及以下工艺芯片的生产需求。就目前国内市场的需求而言,国产T150A光刻胶已经完全能够满足我们的使用。从这当中我们还能看出,国产T150A光刻胶的出现,意味着我国国产芯片技术已经在朝着5nm工艺稳步迈进了。颇具戏剧性的是,尽管光...

成了!官方宣布国产DUV光刻机成功研发,打破封锁,砥砺前行!

成了!官方宣布国产DUV光刻机成功研发,打破封锁,砥砺前行!这一技术的成功,无疑是给美西方国家的重拳回击。他们对我国的压制、封锁,无非是我们前进的动力,在此表示万分“感谢”!这可是官方宣布,工信部发文!厉害了,我的国!具体请看下图网友也是按捺不住激动的心情,看看美西方还拿什么来限制我们!光刻机加工包含...

美欧封锁成为中国自主创新的催化剂 国产光刻机破局而出

然而,近期中国在光刻机技术上实现了突破,并完成了半导体产业链的闭环,成为全球首个拥有完整生产线的国家。面对封锁,中国并未屈服,反倒是将其转化为了技术飞跃的动力。今年9月,工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中,国产光刻机的身影赫然在目,包括110nm的氟化氪光刻机与65nm的氟化氩光刻机,...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

01国产光刻机官宣后,国外网友沸腾,而美国荷兰却沉默,原因可能是国产光刻机技术突破尚未触及ASML的核心利益。02ASML在高端EUV光刻机上的护城河很深,28nm距离威胁到它的地位还很远。03然而,美荷可能还在等待华为Mate70的发布,以更好地看清国产光刻机的发展情况。

国产首台DUV光刻机?工信部突然宣布,外媒:ASML彻底“破防”了

如今华为麒麟芯已经找到代工厂代工,强势回归,国产光刻机行业也迎来了重大突破,相信要不了几年我们就能彻底打破层层封锁,国产芯片和国产光刻机也必将强势崛起!认可的请点赞!

打破美封锁!中国国产光刻机官宣后,美国怒砸30亿赶超新能源汽车

毕竟，这次国产光刻机有了突破，这对我国半导体产业的发展意义重大。可现在呢，我国在高端光刻机这块儿，还是特别依赖从国外进口。美国封锁咱们国家那么久，可咱国家还是靠自己研制出了国产光刻机。这可让美国还有那些西方国家特别“没面子”，所以美国就想在新能源领域找中国的事儿，要向中国发起挑战呢！大家都知道...

突破封锁:国产光刻机官宣,是挑战还是机遇?

我国光刻机处于初期发展阶段,其设计与制造涉及多个产业及行业,技术门槛高且产业链复杂。然而随着国产光刻机技术的不断赶超,将逐渐打破国外技术垄断,提升我国半导体行业的自主可控能力,这一进程将覆盖光学元件、精密机械、电子材料等多个关键领域,带动相关产业的升级与创新。

大量采购ASML光刻机:国产光刻机正经历黎明前的黑暗

03然而,国内光刻机市场目前没有平替产品,大量进口ASML光刻机意味着国产光刻机距离真正突破还远。04中科院院士白春礼指出,过度依赖国外技术将使科研能力退化,中国人才济济,必能突破重重封锁,造出自己的光刻机。05另一方面,芯片封装技术似乎将成为中国在全球芯片竞争中的关键优势,国内对光刻机研发有很大的期待。

ASML可远程锁死光刻机,我国如何关上半导体制造“后门”

据业内人士透露,预计在2025年,俄半导体就能实现28nm光刻机量产,且争取在2030年就能突破10nm先进工艺,很显然,俄半导体并没有妥协,而是对标荷兰ASML公司,想要利用更多元的方式来实现技术突破,打破美西方的技术垄断。值得一提的是,俄半导体还放开了专利限制,由于美西方霸道的技术封锁,俄也不打算再遵循国际知识产权规则,...