Canalys:2024年Q3全球High-NA EUV光刻机市场竞争分析 英特尔独占...

尤其是随着ASMLHigh-NAEUV光刻机的问世,这一目前世界上最先进的芯片制造设备,显著提升了芯片的晶体管密度和性能,这对于实现2nm以下先进制程的大规模量产至关重要。在此形势下,英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂伺机而动,争相导入或宣布High-NAEUV光刻机市场进展,预示着半导体行业将迎来新一轮的技...

27亿一台!台积电大手笔购买最先进光刻机,目标直指1nm芯片!

而这台光刻机呢，它的精度和性能都达到了前所未有的高度。它能够制造出1纳米级别的芯片，这是目前世界上最先进的芯片工艺之一。想象一下，1纳米是多小啊！咱们平时用的头发丝直径都有好几十纳米呢！这光刻机得有多精密，才能制造出这么细小的芯片啊！四、台积电为啥剑指1nm芯片？再来说说台积电为啥剑指1nm芯片。

中国芯片制造技术突破,65纳米光刻机登场,国产化进程加速

这台光刻机的套刻精度达到了8纳米，意味着我们在制造芯片的精细程度上取得了重要进展。过去我们依赖进口设备，现在我们有了自己的技术，这对国内芯片产业是一个巨大的推动。当前，我们的光刻机是干式光刻机，未来的目标是研发浸润式光刻机，这种光刻机将芯片分辨率进一步提升，甚至可能达到36.5纳米。荷兰的ASML公司...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

我国自主研发的氟化氩光刻机,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平,且是全球首款完全依赖自主技术完成的产品。这不仅打破了荷兰的技术垄断,更是对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略的有力回击。荷兰的忧虑:失去我国市场的潜在危机在光刻机技术上,美国与荷兰的合作由来已久。作为全球半导体产业链的重...

终于破冰!氟化氩光刻机有多牛?8纳米工艺可以量产了?

科技自强的里程碑：氟化氩光刻机的诞生在荷兰宣布扩大光刻机出口管制范围后不久，中国工信部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，氟化氩光刻机的出现，无疑是中国芯片产业自主创新的又一里程碑。这款光刻机以其先进的深紫外光源技术，实现了对8纳米及以下芯片的制造能力，标志着中国在高端...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

尽管中国的65纳米光刻机尚未达到ASML最先进的7纳米机型的水准,但这一突破标志着中国已经具备了制造芯片关键设备的能力(www.e993.com)2024年11月23日。未来,随着国产光刻机技术的迭代更新,西方国家的技术垄断地位将受到更大的挑战。中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。

工信部首台套光刻机,到底是几纳米的

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-bd057bf496ed9791c9f2b4b2d7188495工信部首台套光刻机,到底是几纳米的2024-09-1607:00发布于北京|21万观看72664123517手机看雷哥聊工业粉丝1.3万|关注0+关注...

实话实说,国产光刻机虽有进步,但落后ASML还有20年

从光源、分辨率、套刻精度这三个指标,基本上可以确定,它与ASML旗下的TWINSCANXT:1460K应该是最为接近,1460K光刻机,其照明波长为193mm,分辨率≤65nm,不过在套刻精度上,1460K是≤5nm,实际上ASML的这一台相对还更先进一些。按照ASML在官网上的说法,这台光刻机,最高能制造57nm工艺的芯片,当然这个工艺是没...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

350纳米!俄罗斯发布国产光刻机,荷兰ASML最不愿看到的局面出现

事实上也确实如此,毕竟当前最先进的光刻机,已经可以生产5纳米制程的芯片。与俄罗斯的350纳米相比,领先了有70倍,远远地将俄罗斯甩在身后。当前,半导体领域正在向着更精密的方向发展,芯片也从7纳米演变到5纳米,如今更是进化到了3纳米。但这不代表着350纳米的制程就无用武之地,它其实非常重要。