华林科纳新一代槽式一体机——湿法刻蚀清洗一体机
华林科纳综合以上因素,新推出了一款一体机,它有多种叫法,如“一体槽半自动腐蚀机”、“槽式真空刻蚀清洗系统”、“湿法刻蚀清洗工作站”等,以下称呼“湿法刻蚀清洗一体机”!湿法刻蚀清洗一体机是一种集真空湿法刻蚀与清洗功能于一体的设备,可以满足各实验室或工厂在湿制程中的需求,克服了市场上湿制程中的设备体型...
华海清科:目前公司湿法设备包含清洗设备及供液系统,其中清洗设备...
华海清科:目前公司湿法设备包含清洗设备及供液系统,其中清洗设备已批量用于公司晶圆再生生产,2023年,首台12英寸单片终端清洗机HSC-F3400机台出机发往国内大硅片龙头企业进行验证(原标题:华海清科:目前公司湿法设备包含清洗设备及供液系统,其中清洗设备已批量用于公司晶圆再生生产,2023年,首台12英寸单片终端清洗机HSC...
至纯科技:公司主要以湿法清洗设备的生产销售为主,向外延扩展至...
至纯科技(603690.SH)7月22日在投资者互动平台表示,公司主要以湿法清洗设备的生产销售为主,向外延扩展至涂胶显影设备,主要聚焦于6/8寸线领域,目前尚未量产,相关进展请关注公司后续公告。(记者蔡鼎)
芯源微:二季度新签订单情况良好 快速推进化学清洗机商业化进程
芯源微主营产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备,可广泛应用于前道晶圆制造、后道先进封装、化合物半导体等领域。此外,公司也在持续拓展前道清洗领域,自主研发的单片式物理清洗机已成长为细分赛道龙头,单片式化学清洗机已获国内重要客户验证订单,waferdemo数据市场获多家客户高度评价。“公司生产的前道涂...
为什么等离子清洗技术比传统湿法技术更有优势?
作为一种先进的清洗设备,等离子清洗机已广泛应用于许多行业,其独特的清洗方法和高效的清洗效果备受好评。本文将为您介绍等离子清洗机的清洗为什么等离子清洗技术比传统湿法技术更有优势?一、清洗过程控制等离子清洗工艺过程更容易控制,其清洗时间对工艺较为灵敏,通过高频电源放电产生的等离子体,它可以深入到物体的微细孔...
等离子清洗机可解决PECVD工艺石墨舟残留的氮化硅
等离子清洗机处理石墨舟氮化硅残质具有以下优势:1.高效去除:等离子清洗机能够利用高能离子束有效地去除石墨舟表面的氮化硅薄膜(www.e993.com)2024年10月18日。与传统的湿法清洗相比,等离子清洗的去除效率更高,可以显著缩短清洗时间。2.不损伤表面:等离子清洗过程是一个物理和化学相结合的过程,可以精确控制对石墨舟表面的作用力度,因此不会对石墨舟...
《2024版中国兆声波清洗机行业市场分析研究报告》—智研咨询发布
为确保兆声波清洗机行业数据精准性以及内容的可参考价值,智研咨询研究团队通过上市公司年报、厂家调研、经销商座谈、专家验证等多渠道开展数据采集工作,并对数据进行多维度分析,以求深度剖析行业各个领域,使从业者能够从多种维度、多个侧面综合了解2023年兆声波清洗机行业的发展态势,以及创新前沿热点,进而赋能兆声波...
芯源微跌2.60%,该股筹码平均交易成本为75.07元,近期该股有吸筹...
1、公司前道SCRUBBER清洗机产品已于2019年5月通过中芯国际(深圳厂)工艺验证并实现销售,且已取得中芯国际(绍兴厂)两台小批量订单。2、产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。3、根据公司2022年报介绍:公司后道先进封装领域用涂胶显影设备、...
芯源微(688037.SH):公司生产的前道物理清洗机、后道湿法类设备已...
芯源微(688037.SH)回复称,"公司已掌握清洗领域多项核心技术,在晶圆正反面颗粒清洗、化学药品精确供给及回收、内部微环境精确控制等技术方面已达到国际先进水平。近年来公司生产的前道物理清洗机、后道湿法类设备已成为国内主流产品,公司后续也将推出化学清洗机产品,进一步丰富产品线。感谢您提供的宝贵建议!"...
...家机构调研:日本对半导体设备的限制措施中,其中对湿法清洗设备...
答:日本对半导体设备的限制措施中,其中对湿法清洗设备的限制对公司无影响,甚至有可能会加速国内下游厂商采购国产化设备的步伐,对除湿法清洗设备外的其他设备的限制可能会对公司业务产生间接影响,目前尚不确定。公司设备类部分零部件从日韩进口,公司已在国内寻找并培养可替代的国产零部件供应商,今年国产二供的比例争取进一...