想要解决国产EUV光刻机卡脖子情况,必须要攻克两个核心难点

光刻机是一个复杂的工程项目，涉及多个系统，包括光学镜头、激光器、高精度加工、控制系统和配套软件等多个方面。单一企业无法同时触及这些技术领域。即使是ASML的光刻机，也是整合了多个西方国家企业的资源所开发而成的。要实现国产化的EUV光刻机，主要面临两大关键挑战：光源技术和供应链体系。目前我们在光源技术方面...

最具潜力的光刻机龙头股有哪些

2.上海微电子技术实力：上海微电子是中国第一家也是唯一一家光刻机巨头，出货量已占国内市场份额超过80%。其产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域，并具备90nm及以下的芯片制造能力。上海微电子在光刻机核心系统方面拥有一定的技术储备，是国内光刻机行业的重要力量。市场表现与潜力：随着国产光刻机技术的不断突破...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

你的光刻胶和它来不来反应?你的其它工艺流程能不能和它兼容?都是难题。都得摸索。摸索到今天,能让人效率稳定、成本可控地拿起的“光刀”,主要有2把:DUV和EUV。DUV,是一种光的名字:DeepUltra-Violet(深紫外光)。波长可以短到193nm。很多人认为,用这把“光刀”的光刻设备,基本只能刻出20nm以上制程...

光刻机:国产光刻机迎重大突破,光刻机核心龙头一览(名单)!

公司用于集成电路等离子蚀刻的高纯六氟乙烷是国内首家，用于光刻机的光刻气系列产品都是国内首家，市占率都大于50%。公司的光刻气产品包括A/F/Ne、G/e、Ar/Ne和K/任F/Ne混合气等，4种光刻气均为国内唯一供应商﹐通过全球最大的光刻机公司ASML产品认证。

没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?

浸润式技术让半导体制程可以继续使用同样的波长和光罩,只要把水放到镜头底部和晶圆之间就好。理论很简单但难点在于,例如浸液系统中的DIWater(去离子水)中的空气会产生气泡,必须完全清除,且要让水快速流动使之分布均匀,保证成像效果。我们了解过,ASML浸润式光刻机的Alpha机,仅浸液系统,在台积电南科专门跟林本坚团队一...

俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了

难点还有很多当然,芯片制造也不是说有了光刻机就行了(www.e993.com)2024年11月2日。《光刻技术六十年》中写道,在芯片制造的全流程中,整个过程涉及几十道光刻工艺,每一道光刻工艺之后紧接着是众多复杂的半导体IC平面加工工艺。这些工艺中的每一道又细分成多道工序,而每一道工序又由多个步骤组成,每一步骤都至关重要,不容有失。

大量采购ASML光刻机:国产光刻机正经历黎明前的黑暗

光刻机产业制造的难点主要在于,第一极紫外线光源,光刻机所要求的体系小,功率高且稳定的光源,这点美国一直掌握着成熟技术,其他国家都是向其采购的。第二反射镜面,只有用高精度和高光滑度的镜片才能聚焦和校准光线,从而光线才能精确无误的照射在硅片上来画出微小图案。目前能够达到光刻机要求的镜片标准的厂商也在...

走进科学 近距感受“光刻机”的神奇

联系生活实例,从华为手机切入话题,紧紧围绕“卡脖子的光刻机”,并运用声像资料,就什么是光刻机,什么是图形的对准,硅片上图形的获得和光刻机的作用,国内光刻机名称的来源探究,28nm光刻机制造的三大技术难点,我国的光刻机的状况,双重曝光技术等作了深入浅出的讲解,为到场的同学们揭开了光刻机在现代科技应用的神秘...

光刻机究竟有多难造?比原子弹还稀有,全球仅有两个国家掌握技术

第一个难点就是光刻机上的光源问题。现在主流的光刻机,都是使用紫外线将事先准备好的电路图形精准投射到晶圆上,从而制造出符合芯片需求的图形区域,达到制作芯片的需求。在这一过程中,紫外线的精度对于芯片大小的制作最为重要。如以前主流的DUV光刻机,它上面使用的紫外线就是193纳米的短紫外线,因为紫外线精度...

盛美上海获65家机构调研:公司在光刻机的购入方面并非优先选择先进...

问:公司在光刻机的型号选择方面存在哪些考量?答:公司在光刻机的购入方面并非优先选择先进的,KrF-line是公司首要的目标,但目前选定的最终型号还未定,国产的和国际的都可以。选KrF-line的原因主要是以下几点:1)KrF-lineTrack设备的市场最大,因为它的工艺步数最多,包含先进工艺和成熟工艺;2)国外某公司今年年底会推...