传统光学透镜和菲涅尔透镜有什么不同?

-交通信号灯:菲涅尔透镜可以使信号灯的光线更加均匀地分布,提高可见性。五、优点对比1.传统光学透镜的优点-成像质量高,聚焦精度好。-透光率高,光损失小。-技术成熟,应用广泛。2.菲涅尔透镜的优点-轻薄便携,易于安装和使用。-成本较低,制造工艺相对简单。-视场角宽,适用于一些特殊的应用场景。综上所...

除了巨额投资外,发展晶圆制造产业还需要哪些条件?

需要指出的是,参考此数据请自觉忽略某国官方对我国企业的忽视,比如我国的龙头企业:北方华创,它已经在包括刻蚀、PVD、CVD、ALD、炉管、清洗、快速退火等核心工艺装备有了一席之地。此时静下心来细细分析参考就行了。我们可以发现上表中提供半导体相关设备主要来自美日荷德等西方国家(好吧,韩国企业semes也有,其实在...

亚克力透镜和玻璃透镜,哪个更好?

1.亚克力透镜:-亚克力材料易于加工和成型,可以通过注塑、挤出等工艺快速生产出各种形状和尺寸的透镜。这使得亚克力透镜在定制化需求较高的场合具有很大的灵活性。-可以通过染色等方式获得不同的颜色,满足特定的设计需求。2.玻璃透镜:-玻璃透镜的加工相对复杂,需要高精度的设备和工艺。通常采用研磨、抛光等方法来制...

尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机,预计2026财年发售

从光源发出的光经过SLM反射后,通过透镜光学组,最终在基板上成像。这一创新技术不仅提高了光刻机的生产效率,还大幅削减了后端工艺的成本和用时。尼康方面透露,这款光刻机的曝光过程无需掩膜,从而简化了生产工艺,降低了成本。同时,其1.0μm的分辨率也足以满足当前半导体封装工艺的需求,为芯片制造商提供了更加高效、可...

西安交通大学教授:微纳制造技术的发展趋势与发展建议

常见的工艺有光刻、刻蚀、电镀和激光加工等。纳制造则是在纳米(10-9m)尺度上进行制造,一般包括纳米电子器件、纳米材料、纳米药物载体和纳米传感器等的制造过程。常用的纳制造加工方法有纳米印刷、原子层沉积和纳米自组装技术等,能够控制材料实现原子和分子水平上的结构制备。微制造和纳制造技术是现代先进制造技术的重要...

水晶技术之微纳光学系列 | 光学领域的革命性突破——超透镜

超透镜的制造工艺需要达到纳米级别的精度,这对现有的工业加工技术提出了更高的要求(www.e993.com)2024年11月20日。4、效率提升提高超透镜的光学效率,尤其是在宽波段工作时,是当前研究的重点之一。随着材料科学和纳米制造技术的进步,通过在材料、结构、工艺等方面进行创新,上述的技术挑战终将会迎来解决办法。未来,我们有望看到超透镜在更多领域的...

热门赛道 | PVD(物理气相沉积),半导体关键前道工艺

原材料供应:上游产业主要包括PVD工艺所需的材料供应商,如金属靶材(钛、铬、铝等)、陶瓷靶材(氮化钛、氧化铝等)以及一些用于镀膜过程中的气体(如氮气、氩气、氢气等)。零部件供应:包括用于制造PVD设备的关键组件和材料,如真空泵、离子源、电源系统、气体控制系统和靶材冷却系统等。这些零部件的质量和性能直接...

赛微电子:为全球GKJ巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与...

有投资者在互动平台向赛微电子提问：您好！目前国内在想方设法研发高端光刻机，公司在此过程当中有无用武之地？能提供哪些零部件？谢谢！公司回答表示：公司一直为全球GKJ巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务，该类业务一直为公司工艺门槛极高的优势业务。本文源自：金融界AI电报作者：公告君...

【科普】芯片制造工艺:光刻(中)--新曝光方式之电子束、X射线...

电子束曝光可以直接在抗蚀层写出图形,不需要掩膜。电子束直写的灵活性和高分辨率使它成为当今微纳米科学研究与技术开发的重要工具。利用现代电子束曝光设备和特殊的抗蚀剂工艺已经能够制作小于5nm的精细结构。电子束曝光也是制作掩膜的主要工具之一,现在已经成了制作极紫外(EUV)曝光掩膜的唯一工具。

集成光子封装的双光子3d打印技术,打印微透镜耦合和光子引线键合

溶胶-凝胶对于陶瓷，已经研究了可以使用双光子工艺优先聚合的溶胶-凝胶模板用于陶瓷86。除了诱导光刻胶的局部聚合外，TPL还被用于成功地在三维空间中对其他材料系统进行图案化，最引人注目的是硫族化玻璃87-90和金属有机框架91,92。Wong等人使用As2S883制造了3D木桩光子晶体。硫族化物玻璃在高速和...