国产光刻机突围!上海国产光刻机在国内产线上实际应用情况

最近，一条新闻引爆了科技圈：由上海微电子制造的600系列光刻机已经在国内实现了90nm工艺的批量生产，这意味着我国的光刻机技术终于取得了一个“里程碑”式的进步。要知道，90nm工艺这个节点并不简单，它标志着中国光刻机从落后多年的状态中猛然迎头赶上，打破了国际技术的天花板。不仅仅是上海微电子，工信部发布的...

国产光刻机唯一龙头,背靠中字头央企,打破技术垄断,有望追赶阿麦斯

苏大维格:公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商,在关键器件方面,公司向上海微电子提供了其半导体领域投影式光刻机用的定位光栅尺部件。南大光电:公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证,成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。并开始小批量生产,大族激光:公司生产的接近式光刻机已投入市场,...

国产替代加速:光刻机产业链国内厂商梳理

茂莱光学:公司在光刻机领域提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜,以及用于工件{w5u2}{377cp}台位移测量系统的棱镜组件。腾景科技:公司合分束器应用于光刻机光学系统,多波段合分束器已进入微电子供应链。5.3整机厂商张江高科:持有上海微电子10.78%股份。

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

g线和i线是紫外光中能量较高的谱线,365nm的i-ine可将最高分辨率推动至220nm;80年代中期,IBM/Cymer等公司开始研发深紫外(DUV)准分子激光,最高分辨率降低至KrF(110nm)和ArF(65nm)采用ArF光源的第四代光刻机是目前应用最广泛的一代。

光刻机+华为芯片最强黑马,华为联合长光所爆买1811万股,潜力远超...

第一家是奥普光电,公司的实际控制人为长光所。第二家更具翻倍潜力,它是A股唯一一家同时被长光所和华为共同控股的企业,持仓量达1811万股。该公司在高功率半导体激光芯片领域国内市场占有率第一,还填补了第三代半导体氮化镓的多项技术空白,更是华为的核心供应商之一。关键是公司股价正处于历史最低点,距离高...

稳了,国内193nm的DUV光刻机,也能制造5nm芯片

不过大家也都清楚,目前我们买不到EUV光刻机,国内所拥有的只有波长为193nm的ArFi光刻机,也就是浸润式DUV光刻机(www.e993.com)2024年11月13日。按照ASML的说法,这种光刻机,最多也就支持到7nm,且制造7nm芯片时,还要经过多重曝光才行,导致成本上升,良率下降。那么没有EUV光刻机,是不是意味着我们的芯片工艺,就只能锁死在7nm,再也无法前进...

华卓精科IPO被终止:曾拟募资10亿 要做国内光刻机第一股

华卓精科主营业务为光刻机双工件台、超精密测控装备整机以及关键部件等衍生产品的研发、生产以及销售和技术服务。华卓精科专注于纳米级超精密测控技术,是集成电路制造装备及其核心部件、精密/超精密运动系统及相关技术供应商,致力于在实现超精密机械与测控技术成果产业化的基础上成为中国乃至全球卓越的精密科技公司。

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂

据悉,本次交付入厂的国内首台大芯片先进封装专用光刻机由星空科技自主研制,可以为Chiplet和2.5D/3D大芯片的集成制造提供光刻加工工艺,为助力国产人工智能大芯片集各种功能芯片之大成提供了有力的技术支撑。随着各方嘉宾来到越海集成生产车间参观,增城区领导、兴橙集团和广东工研院领导、星空科技和越海集成创业团队以及...

光刻机行业国产化挑战与机遇:ASML领先,国内市场规模超200亿元

在技术路线方面,当前半导体制造工艺节点已缩小至5nm及以下,曝光波长逐渐缩短至13.5nm。尽管如此,国内光刻机仍明显落后于ASML。此外,美国对中国先进制程设备和技术的围追堵截,使得光刻机产业面临核心“卡脖子”的困境。在国产替代趋势下,高端光刻机的发展有望获得推动,国内产业链相关企业有望受益。对于市场瞩目的行业...