至纯科技获得外观设计专利授权:“带单片湿法清洗机操作图形用户...
证券之星消息,根据企查查数据显示至纯科技(603690)新获得一项外观设计专利授权,专利名为“带单片湿法清洗机操作图形用户界面的显示屏幕面板(12寸)”,专利申请号为CN202330015183.4,授权日为2024年5月31日。专利摘要:1.本外观设计产品的名称:带单片湿法清洗机操作图形用户界面的显示屏幕面板(12寸)。2.本外观设计...
PFA组合阀: 半导体湿法清洗机中的流体控制解决方案
压力调节:在半导体湿法清洗机中,清洗液的压力也是一个非常重要的参数。如果压力过高,可能会对半导体器件造成损伤;如果压力过低,则可能无法有效地去除污渍。组合阀可以通过其压力调节功能,实现对清洗液压力的精确控制,从而确保清洗过程的安全性和有效性。多路控制:半导体湿法清洗机通常需要同时处理多种不同的化学溶液,这...
等离子清洗机在亚克力板的应用,可提升UV印刷附着力?
环保性:等离子体清洗使用户能够远离有害溶剂对人体的危害,避免了湿法清洗中可能产生的有害物质。这种清洗方法不使用ODS有害溶剂,因此清洗后不会产生有害污染物,属于环保绿色清洗方法。2、等离子清洗机具有广适性,等离子清洗机对处理对象的基材类型没有限制,无论是金属、半导体、氧化物还是大多数高分子材料,都能得到...
为什么等离子清洗技术比传统湿法技术更有优势?
本文将为您介绍等离子清洗机的清洗为什么等离子清洗技术比传统湿法技术更有优势?一、清洗过程控制等离子清洗工艺过程更容易控制,其清洗时间对工艺较为灵敏,通过高频电源放电产生的等离子体,它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务,因此不需要过多考虑被清洗物体的形状。而传统湿法清洗通常受限于清洗液的性...
乳制品厂设计规范 GB50998-2014|建设部|乳制品厂|管道_新浪新闻
设备及管道、元件在原安装位置不用拆开或者移动条件下的清洗系统。3厂址选择及总平面布置3.1厂址选择3.1.1乳制品厂的厂址选择除应符合现行国家标准《工业企业总平面设计规范》GB50187的有关规定外,还应符合现行国家标准《工业企业卫生设计标准》GBZ1和《食品安全标准食品厂通用卫生规范》GB14881的有关规定。
...请问公司的半导体清洗用臭氧机是用于湿法半导体清洗还是干法...
您好!请问公司的半导体清洗用臭氧机是用于湿法半导体清洗还是干法半导体清洗?亦或是干法湿法都会用上公司产品?董秘回答(国林科技(11.650,-0.05,-0.43%)SZ300786):尊敬的投资者,您好(www.e993.com)2024年7月27日。根据清洗的介质不同,清洗技术可以分为湿法清洗和干法清洗两种,公司目前所研制的半导体清洗设备是采用湿法清洗技术。感谢您的关注。
北方华创:公司提供的清洗设备包括湿法清洗机和干法清洗机两类
同花顺金融研究中心7月12日讯,有投资者向北方华创提问,您好,请问贵公司的清洗机,是用在哪个环节。清洗机的清洗原理,用的哪种路线?公司回答表示,您好,清洗工艺是在芯片制造过程中去除上一道工序所遗留的残留物,为下工序提供更好的表面条件。北方华创提供的清洗设备包括湿法清洗机和干法清洗机两类,其中湿法...
投资者提问:公司的湿法设备目前主要是清洗机对吗?有无向去胶机和...
有无向去胶机和刻蚀机扩展的打算?清洗机能满足前道晶圆加工环节的多少nm的工艺制程?谢谢!董秘回答(至纯科技(20.900,-0.33,-1.55%)SH603690):尊敬的投资者您好,目前公司的湿法设备已可实现去胶和刻蚀的工艺,在技术储备上,公司可满足14nm的工艺制程,但需要客户提出相应的需求才会进行针对性的生产验证。
芯源微:拟发布前道单片式化学清洗机及全自动SiC划片裂片一体机
3月18日,芯源微发布公告称,公司拟于2024年3月19日在公司上海临港厂区竣工仪式现场发布前道单片式化学清洗机新品KSCM300,于3月20日至22日SEMICONChina2024上海国际半导体展会期间发布全自动SiC划片裂片一体机新品KS-S200-2S1B。据悉,该前道单片式化学清洗机由芯源微上海临港子公司自主研发,具有高工艺覆盖性、...
等离子清洗机可解决PECVD工艺石墨舟残留的氮化硅
最后,这些气态物质会被机械泵抽走,从而实现石墨舟表面的清洗。由于等离子体清洗是在干法环境下进行,因此可以避免湿法清洗带来的环境污染问题,同时清洗效率也大大提高。等离子清洗机对氮化硅的处理效果是十分显著的,在未处理前,石墨舟表面的氮化硅残质颜色清晰,与石墨舟本质具有明显的差别,且氮化硅残质遍布舟片内外;...