加强半导体基础能力建设 点亮半导体自立自强发展的“灯塔”

当前,绝大部分高端芯片都使用了相同的FinFET晶体管制造技术;在上万件FinFET晶体管专利中,相当大一部分核心专利来自半导体物理基础研究成果,而且这些成果不依赖EUV光刻机等最先进的半导体制造设备。通过大力加强半导体基础研究,围绕下一代晶体管的材料、器件、工艺等在欧洲和美国布局大量专利,就可以在芯片制造这个全球半导...

李江涛谈我国人工智能应用的现状、成果和前景分析

即便能够采购到的芯片也往往是经过阉割的版本,这直接制约了我国人工智能和大模型的发展。其次,华为在不断推动芯片创新和光刻机的国产自主化。由于我国在该领域起步较晚,通过现有的DUV光刻机,我们可以制造出7纳米的芯片。这表明,虽然我国在光刻机方面的进展相对较慢,但已经实现了从0到1的突破。经过多次工业迭代,...

经济学家警告:若外国光刻机持续供应,我们的发展将受阻

光刻机之争其实折射出的是整个半导体产业链的博弈，M国想要继续保持领先，中国则期盼打破束缚。然而，半导体产业的当今状况已然是高度全球化，彼此依存，是一场你中有我，我中有你的角力。ASML虽是荷兰公司，但其核心技术离不开M国的投入与支持。用压制来寻求完善，反而可能适得其反，损害自身的利益。对未来的设想...

源达:国内光刻机发展道阻且长,国产突破行则将至

目前光刻机国产化率几乎为零，仅上海微电子有90nm工艺节点的DUV光刻机产品。光刻机国产化曙光已现，65nm节点光刻机有望突破近日，工信部发布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中的电子专用装备目录下，集成电路设备方向披露一台氟化氩光刻机，属于DUV光刻机。光刻机分辨率≤65nm、套刻≤8nm。

国产光刻机取得重大突破 深市产业链公司迎来发展新机遇

????????民生证券表示,海外半导体设备供给持续高增满足短期扩产需求,国产光刻机技术亦在持续突破,利好半导体设备自主可控的长期发展,继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。

行业专题 | 中国光刻机崛起!

1.光刻机产业现状:市场格局:ASML独家供应EUV光刻机,KrF和i-line光刻机为主要需求类型(www.e993.com)2024年11月2日。需求增长:新建晶圆厂、产线扩产和下游需求推动光刻机需求增长,中国预计至2024年底建立50座大型晶圆厂。技术革新:产学研合作推动技术革新,ASML与上下游龙头公司紧密合作,Nikon和Canon也积极发展新技术。

牟林:中国半导体产业发展的艰辛与奋斗之路

(1)限制芯片及设备出口:美国不断扩大对华芯片出口管制范围,禁止美国企业向中国出口高端芯片以及用于制造高端芯片的设备。例如,限制向中国供应先进制程的光刻机、刻蚀机等关键半导体制造设备,这严重影响了中国半导体企业在高端芯片制造领域的发展。(2)扩大“外国直接产品规则”(FDPR)适用范围:美国通过修改FDPR,将更多使用...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

国产光刻机实力几何?据工信微报发文,此次指导目录是为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。具体来看,氟化氪光刻机晶圆直径为300mm(12英寸);照明波长为248mm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

光刻机产业链亟须发展东海证券称,根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核心设备,国产化率不足3%,核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大。

光刻机行业崛起,南大光电:机遇与挑战并存,未来发展值得期待

光刻机行业的崛起为南大光电等企业提供了前所未有的发展机遇同时也带来了诸多挑战。但正是这些机遇与挑战并存的环境激发了企业的创新活力和发展潜力。我们有理由相信在未来的发展中南大光电将继续保持其在光刻胶等核心材料领域的领先地位并为我国半导体产业的发展作出更大的贡献。而对于我们每一个普通老百姓来说关注和...