最新,国产光刻胶通过验证!

近期，据徐州博康信息化学品有限公司博康光刻胶事业部总经理杜光宇披露，徐州博康已成功开发ArF/KrF单体及光刻胶、I线光刻胶、封装光刻胶、电子束光刻胶等系列产品。具备干法ArF及湿法ArF光刻胶的技术能力，干法ArF可应用于90nm/65nm/55nm节点。湿法ArF可应用于40nm/28nm节点，在现有技术产品基础上积极开发14nm及以...

西安交通大学教授:微纳制造技术的发展趋势与发展建议

微纳加工技术是一种精密制造技术,主要通过光刻、离子束刻蚀、电子束刻蚀、金属溅射沉积、化学/物理气相沉积、电镀、电化学腐蚀等工艺实现微米至纳米级别的精细加工。该项技术涉及亚毫米、微米和纳米尺度元件的优化设计、加工、组装、系统集成与应用,在半导体、光电子、通信、硅基微电子、仪器设备、生物医药、航空航天和...

泽攸科技自主研制的电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

近日,据知情人士透露,国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室,在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展。他们成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。业内人士表示,电子束光刻机是当前推动新材料、前沿物...

双光束超分辨光刻技术的发展和未来

第3代扫描投影式光刻机(KrF)是一种基于投影方式的光刻机,采用248nm的KrF准分子激光光源,工作原理是使用一个透镜将掩模上的微观图案投射到光刻胶上,通过对光的控制和透镜的移动,可以形成所需的微观结构。第3代扫描投影式光刻机相对于第2代接近式光刻机,可以使用更高质量的透镜和更精细的光控制技术,把光刻技...

光刻技术的过去、现在与未来

20世纪末和21世纪初,随着科技的进步和需求的提高,光刻技术在微电子工业中的重要性更加凸显。极紫外光刻等先进技术的出现推动了芯片制造技术的前沿,实现了更高精度和更小尺寸的微细结构制造。20世纪光刻技术的里程碑事件,从最初的实验研究到工业化应用,为现代半导体工业的发展奠定了坚实的基础。这些重要突破推动了光...

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

04除此之外,纳米压印技术和电子束光刻技术也被认为是未来半导体制造的核心技术,它们具有成本低、精度高等优势(www.e993.com)2024年11月29日。05目前,多家公司/研究机构已公布了其研究进展,未来光刻技术将为半导体行业带来哪些惊喜,值得期待。以上内容由腾讯混元大模型生成,仅供参考??光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝...

光刻技术,有了新选择_腾讯新闻

04除此之外,纳米压印技术和电子束光刻技术也被认为是未来半导体制造的核心技术,它们具有成本低、精度高等优势。05目前,多家公司/研究机构已公布了其研究进展,未来光刻技术将为半导体行业带来哪些惊喜,值得期待。以上内容由腾讯混元大模型生成,仅供参考??光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝...

光刻技术的新里程碑

半导体行业的增长继续受到令人兴奋的新应用的推动，先进的光刻技术推动了无尽的创新。与此同时，人工智能和边缘计算等市场正在飞速增长，其中的推动因素包括专用硅片和先进封装，制造商的首要任务是快速学习周期和经济高效、无缝过渡到生产，以加快上市时间。对于这些新兴市场，MB平台提供了互补的光刻解决方案。凭借强大的...

光刻技术,有了新选择

近日,电子束光刻技术的主要参与者Multibeam推出了MBPlatform,——全球首创的多柱电子束光刻(MEBL:MulticolumnE-BeamLithography)。据介绍,其新光刻系统是专为大规模生产而打造的系统。全自动精密图案化技术将用于快速成型、先进封装、高混合生产、芯片ID、复合半导体和其他应用。Multibeam表示,公司刚发布的平...

新型光刻技术,迎来高光时刻。

近日,电子束光刻技术的主要参与者Multibeam推出了MBPlatform,——全球首创的多柱电子束光刻(MEBL:MulticolumnE-BeamLithography)。据介绍,其新光刻系统是专为大规模生产而打造的系统。全自动精密图案化技术将用于快速成型、先进封装、高混合生产、芯片ID、复合半导体和其他应用。Multibeam表示,公司刚发布的平...