李渊回:国产光刻机获重大突破!华为麒麟芯片要涅槃归来?

第一：28纳米节点，国产设备全面突破。第二：这个机器不止可以做28纳米的芯片，还可以做14纳米的芯片，14纳米的话无非是良品率高低的问题。14纳米相当于什么水平呢？就是麒麟710的那个水平。这个芯片目前主要用在华为畅享系列手机上，之前华为的部分平板好像也曾用过这个芯片。第三：官方公布这个消息意味着28纳米设备...

荷兰“投降”,中方官宣国产光刻机,刚过15天,荷派人赴美摊牌

虽然28纳米的突破未能给美国和荷兰造成“心理阴影”，但全球顶级芯片正向7纳米、5纳米的制程迈进。中国的28纳米光刻机虽有所进展，但与ASML的EUV光刻机相比，仍显“低配”。2023年初，SMEE传来好消息，表示14纳米光刻机已经研发成功。这使得国内半导体公司十分欣喜，因为这意味着可以减少被“卡脖子”的情况，许多国...

国产半导体,逆袭中!

如上海微电子的国产28nm光刻机,已达到了第四代光源水准,这对于提升国内中端芯片制造能力具有重要意义。中国新能源汽车产销量目前在全球占比六成左右,96%以上都是28nm的成熟制程芯片。换言之,如果中国具备越来越强的成熟制程生产能力,包括新能源在内的一般家用消费品,可以全面国产。国产芯片在制程工艺方面取得了显著...

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

更让人兴奋的是，2024年9月的时候，工信部发布消息说，中国研制出了两台新光刻机呢。氟化氩光刻机里比较先进的那种，照明波长是193nm，分辨率最多是65nm，套刻最多是8nm。看这台光刻机的技术参数就能知道，我国的光刻机技术有重大突破了，它8纳米的套刻精度在全球都算比较高的。这款新的国产光刻机一问世，...

项立刚:光刻机这颗明珠很快要变成玻璃珠了!中国已拿下光刻机

可以说,中国自主研发的光刻机已在很多领域取得了重要突破,根据中国半导体行业协会的数据,在ArF和KrF光刻机领域,国产化率已经很高了。在28纳米及以上制程的I-line光刻机上,国产替代已初见成效;而在14纳米及以下先进制程,多家企业的技术路线图已渐趋清晰。

3年前ASML曾断言,中国将自产光刻机,如今三年到了,我国怎样了

不过,在高端EUV技术被ASML垄断的大背景下,上海微电子依旧靠自主研发成功实现了90纳米光刻机的自产自销,且还将继续向14纳米甚至7纳米的光刻机发起冲锋(www.e993.com)2024年11月2日。除去瓶颈处的EUV技术,我国在其他不同波长的光刻机技术上早已达成了预言,让大部分国家叹为观止望尘莫及。

国产半导体设备四巨头罕见对话,信息量爆棚!

尹志尧预测“到今年夏天左右,我们基本可以做到自主可控”,并谈到国产光刻机在离子注入和电子束领域仍存在短板,有待补齐。吕光泉和张国铭都认为,Chiplet和HBM(高带宽内存)等新技术方向或许能成为国产替代弯道超车的着力点。此外,虽然国产替代需要客户和产业链的信任和合作,但张国铭强调,不能因为是国产的,就降低设备的标...

希望来了!国产光刻机突破难关,将量产14纳米芯片

哈工大实验团队在国产DUV光刻机研发领域实现突破。成功解决了最后一个难关,现在能够自行建造光刻机的核心部件,这是一个重要的里程碑。此外,14纳米的光刻机,有望在今年内进行量产。这表明我国对于光刻机技术的研发一直在积极推动,并且取得了一定的成果。这对于我国的半导体产业和科技创新都具有重要意义。

概念追踪 | 14纳米先进工艺、光刻机等多项技术实现突破 国产化...

会上,上海市经信委主任吴金城透露,在集成电路领域,上海企业已经实现14纳米先进工艺规模量产,90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破;全市集成电路产业规模达到2500亿元,约占全国25%,集聚重点企业超过1000家,吸引了全国40%的集成电路人才。太平洋证券表示,海外对国内核心科技企业的技术...

中芯国际:全年销售收入成长和毛利率目标上调为约30%

据证券时报·e公司记者了解,中芯国际是全球领先的集成电路晶圆代工企业之一,也是中国大陆技术最先进、规模最大、配套服务最完善、跨国经营的专业晶圆代工企业,主要为客户提供0.35微米至14纳米多种技术节点、不同工艺平台的集成电路晶圆代工及配套服务。该公司集成电路晶圆代工业务系以8英寸或12英寸的晶圆为基础,运用数百...