大事件!国产EUV光刻机最新进展来了!

要说国产半导体产业中最让人“牵肠挂肚”的无疑就是光刻机了；终于国产EUV光刻机的最新进展来了。9月10日国家专利网站公布了上海微电子一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，专利申请日期为2023年3月9日，申请号为CN202310226636.7。据了解，此项专利主要解决的是极紫外光刻过程中锡碎屑污染收...

一个零件6000万!国产光刻机核心部件终被攻破!外媒:第二个ASML

这一突破意味着我国的光刻机产业迎来了新的发展阶段，因为它标志着我们终于能够摆脱ASML公司的控制。在此之前，所有的光刻机生产厂家都不得不依赖ASML提供的光刻机零件，导致我们的光刻机始终无法与ASML的光刻机相媲美。然而如今，我们的光刻机终于可以独立拥有与ASML同等性能的光刻机零件。当前，国产光刻机的核心...

【电子】产业政策持续加码,国产光刻机任重道远——半导体行业跟踪...

上海微电子是大陆光刻机头部厂商,其自主研发的600系列光刻机可批量生产90nm工艺的芯片。但是在技术层面,上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大,国产光刻机任重道远。风险分析:国产光刻机产业链研发进展不及预期;客户导入进度不及预期;国际贸易摩擦加剧。发布日期:2024-11-18免责声明相关新闻机器...

国产EUV光刻机,有了新进展了?较ASML的技术,有改进?

目前的光刻机技术,已经是发展到第六代了,也就是EUV光刻机。如下图所示,这是六代光刻机的发展情况,以及其对应的光刻机分类,光源波长、能够制造的芯片最小制程等。打开网易新闻查看精彩图片目前国内光刻机技术,理论上来讲,还在第四代,也就是ArF光刻机,也称之为干式DUV光刻机,采用193nm的波长,理论最小...

国产光刻机取得重大进展!板块逆势爆发,波长光电、同飞股份双双...

9月18日,受到工信部发布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》消息的刺激,光刻机概念全线爆发,截止午市收盘,同飞股份、波长光电双双20CM涨停,张江高科、海立股份、京华激光、凯美特气等多股封板。涨停个股中,波长光电和同飞股份两家公司值得关注。

喜大普奔!国产高端DUV光刻机突然官宣!节后抢筹概念股?

上海微电子装备(集团)股份有限公司曾完成国内首台氟化氩(ArF)光刻机研制,并实现产品流片(www.e993.com)2024年12月20日。并且早在2023年初,市场就有传言上海微电子已经开始着手第二代浸没式光刻机的研发。近日,荷兰政府表示将扩大光刻机出口管制范围。荷兰将与美国的管制要求“对齐”,两款中端浸没式DUV光刻机要对外出口(NXT:1970i和NXT:1980...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

在海外不断修改半导体贸易规则的外部环境下,我国半导体产业要发展进步,光刻机不可或缺,光刻技术壁垒极高,长期不断积累才能构建企业长期核心竞争力,国产光刻机整机与零组件企业已经逐步形成一定规模,在自主可控势在必行的长期形势下,国产企业有望迎来较大市场机遇。建议关注:光刻机整机龙头厂商上海微电子(未上市)、...

28台,“中标”结果出炉!国产光刻设备又传来好消息

有消息传出,在本周杭州积海半导体新增设备招标89台、上海积塔新增设备招标7台以及华虹宏力、华虹半导体等企业的招标当中,中国光刻机制造企业累计中标了28台相关的设备,其中就包括了光刻机、蚀刻机以及一些其他的清洗设备、工艺检查设备等。国产光刻设备再度突破,新消息传出...

重大“芯”突破!国产DUV光刻机问世,相关概念股集体大涨

目前来说,光刻机共经历了五代的发展,从最早的436nm波长,再到第二代光刻机开始使用波长365nmi-line,第三代则是248nm的KrF激光,第四代就是193nm波长的ArF光刻机,属于干式DUV光刻机。根据信息,其中ArF(氟化氩)光刻机,光源为193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

01国产光刻机官宣后,国外网友沸腾,而美国荷兰却沉默,原因可能是国产光刻机技术突破尚未触及ASML的核心利益。02ASML在高端EUV光刻机上的护城河很深,28nm距离威胁到它的地位还很远。03然而,美荷可能还在等待华为Mate70的发布,以更好地看清国产光刻机的发展情况。