国产光刻机里程碑式进展,外媒惊叹:大势已去,无法阻挡!

从2020年至今的四年间，虽然关于国产光刻机的消息不断传出，如光源技术的突破等，但此次两台整机的成功研发仍具有里程碑意义，彰显了中国在光刻机领域的显著进步。需要澄清的是，关于氟化氩光刻机（Arf）小于8nm的套刻精度，并不意味着它可以直接用于制造8nm芯片。套刻精度指的是前后两道光刻工序间图形对准的精...

中国首台芯片光刻机成功交付,振奋人心的重大进展!

2024年，中国芯片制造业迎来重大突破。首台28纳米大芯片光刻机研发成功，标志着我国在高端芯片制造领域取得了关键性进展。这一成就不仅体现了我国科技实力的飞跃，更为国产芯片产业链的发展注入了强劲动力。大家都知道，芯片是现代电子设备的核心部件，从手机到电脑，从汽车到家电，几乎无处不在。而在芯片制造过程中，...

国产光刻机取得重大进展 氟化氩光刻机套刻≤8nm

国产光刻机取得重大进展氟化氩光刻机套刻≤8nm9月15日消息,从工业和信息化部在官网公布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》来看,国产光刻机已取得重大突破,氟化氩光刻机套刻≤8nm。在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,也公布了氟化氩光刻机其他的核心技术指标,...

从光刻机讲起,半导体前道设备国产化进度揭秘

目前中微公司5nm刻蚀机已进入台积电产线,刻蚀机在能力上基本已解决国产替代的问题。从2023年的半导体前道设备上市公司营收角度来看,清洗设备和CMP设备的国产化率已经比较高,刻蚀设备和薄膜沉积设备的国产化率稍微高一点,预计在20-30%左右,其余的设备国产化率低于个位数,核心的光刻机国产化几乎为0。从工艺覆盖角...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。9月9日,工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的关于印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知文件,通知文件中的“电子专用装备”的第一项即“集成电路生产...

光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索

国科精密作为国家科技重大专项02专项支持的唯一高端光学技术研发单位,正在承担NA0.82、NA1.35等多种类型高端IC制造投影光刻机曝光光学系统的技术研发及产业化推进工作;华卓精科是上海微电子唯一的光刻机工件台供应商,作为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司,华卓精科成功推出第一台满足65nm光刻机需求...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

01工信部公开推广两款国产DUV光刻机,最小套刻≤8nm,多只光刻机概念股走强。02氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度,与ASML旗下TWINSCANXT:1460K性能相近。03目前光刻机国产化率仅为2.5%,核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大。

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

我们这里只是简单说下人家得出的结论。此次国产套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机,实际制程约为55nm,技术水平仅相当于ASML于2015年二季度出货的TWINSCANXT1460K,甚至部分关键指标不如ASML2006年推出的干式DUV光刻机XT1450,所以总体差距在15—20年。对标有失偏颇,曝出尼康NSR-S636E狠角色...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

01国产光刻机官宣后,国外网友沸腾,而美国荷兰却沉默,原因可能是国产光刻机技术突破尚未触及ASML的核心利益。02ASML在高端EUV光刻机上的护城河很深,28nm距离威胁到它的地位还很远。03然而,美荷可能还在等待华为Mate70的发布,以更好地看清国产光刻机的发展情况。

光刻机重大突破!国产替代主旋律下,三大关键领域或率先爆发!

9月18日光刻机概念股集体高开,人气龙头张江高科竞价涨停,同飞股份、海立股份、富乐德等涨超10%。消息面上,工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm)和氟化氩光刻机(65nm)的内容。