一个零件6000万!国产光刻机核心部件终被攻破!外媒:第二个ASML

在此之前，所有的光刻机生产厂家都不得不依赖ASML提供的光刻机零件，导致我们的光刻机始终无法与ASML的光刻机相媲美。然而如今，我们的光刻机终于可以独立拥有与ASML同等性能的光刻机零件。当前，国产光刻机的核心零件已经过了五个产品的认证，具备了与ASML光刻机相同的技术水平。国产光刻机已经开始步入成熟阶段，...

想要解决国产EUV光刻机卡脖子情况,必须要攻克两个核心难点

光刻机的镜头完全被德国蔡司垄断，目前暂时没有合适的供应商可替代，这也是国产高端光刻机面临的最大瓶颈。如果能够解决镜头的供应问题，我们在开发EUV光刻机时将会顺利许多。

中国自研光刻机亮相!三大厂商慌忙下调预期

国产光刻机突破进展不过，对ASML来说，这恐怕就是最后的狂欢了。因为接下来中国可能不需要疯狂采购ASML的光刻机了。最近，国产光刻机曝光了，分辨率小于等于65纳米，套刻精度小于等于8纳米。据业内人士分析，这台光刻机能制造28纳米甚至更高级别的芯片。而且，这台光刻机已经达到了非浸润式光刻机的技术极限，再...

国产光刻机取得重大进展

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-25a1c427316cb8f9203a5445aa26ab7e国产光刻机取得重大进展2024-09-1817:01发布于北京|5万观看22083421手机看BT财经粉丝1.9万|关注2+关注作者最新视频3021|01:13李佳琦出尔反尔。官宣14-15号发5亿;助播...

国产光刻机取得重大进展

8评论2024-11-131.3万|02:38对中国实施严厉芯片禁令,拜登即将下台,欧洲制造商终于硬气了1评论2024-11-133.4万|02:28限制中国光刻机,荷兰公司48小时内损失5000多亿3评论2024-10-247046|04:17台积电市值破万亿美元,一家代工厂是如何站上世界之巅的?2024-11-12没有更多了...

国产光刻机取得重大进展 氟化氩光刻机套刻≤8nm

TechWeb9月14日消息,从工业和信息化部在官网公布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》来看,国产光刻机已取得重大突破,氟化氩光刻机套刻≤8nm(www.e993.com)2024年11月26日。在《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,也公布了氟化氩光刻机其他的核心技术指标,晶圆直径300mm,照明波长193nm,分辨率≤...

盘中必读|国产光刻机取得重大进展!板块逆势爆发,波长光电、同飞...

盘中必读|国产光刻机取得重大进展!板块逆势爆发,波长光电、同飞股份双双20CM涨停9月18日,光刻机概念股集体高走,同飞股份(300990)、张江高科(600895)、海立股份(600619)竞价涨停,京华激光(603607)、波长光电(301421)、凯美特气(002549),富乐德(301297)、蓝英装备(300293)涨超10%,东方嘉盛(002889)、国林科技(...

港媒:国产光刻机公布重大技术突破,但半导体自给之路仍任重道远

近日,中国政府宣布两款国产芯片光刻机取得“重大技术突破”,彰显了中国在半导体领域追求科技自给自足的努力。这两款光刻机据称已经实现了关键技术突破,并拥有自主知识产权。尽管尚未正式投入市场,但其研发进展无疑为中国半导体产业带来了新的希望。据工业和信息化部(MIIT)透露,其中一款深紫外线(DUV)光刻机的工作...

国产光刻机崛起:美国制裁下的中国半导体新机遇

国产光刻机崛起的技术突破在美国主导的芯片禁令下,中国半导体产业正面临前所未有的压力。然而,这种压力也成为了推动国产化进程的催化剂。近期,国产先进制程用光刻胶取得了显著进展。在g/I线和KrF光刻胶领域,国产替代已经实现了一定程度的突破。更令人鼓舞的是,ArF光刻胶技术也逐步取得核心突破,为国产光刻机崛起奠...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

第二个问题:为什么我会说这台光刻机可能不是大家想象当中的那台设备?从工信部公布文件的参数来看,这台光刻机的最小分辨率是65nm,最小套刻精度是8nm。在国产光刻机工件台唯一供应商华卓精科的招股书中有这么一段话,公司研发的DWS系列纳米精度运动及测控系统主要适用于「干式步进式扫描光刻机」,可用于65nm及以上...