光刻产业链是半导体“皇冠上的明珠”!这些光刻机概念股有望受益

光刻工艺是指集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻技术指在光照作用下，借助光致抗蚀剂(即:光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。典型的光刻工艺流程包括：衬底制备、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐...

...公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念股走强

9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Ii...

光刻胶(机)概念股整理

20芯碁微装(688630)光刻机和光刻胶概念都有2023年9月5日互动易:在制版光刻机领域,目前主流制程在100-400nm工艺区间,公司将尽快推出量产90nm节点制版需求的光刻设备以满足半导体掩膜版技术的更新迭代;公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主...

华为新题材!四重曝光技术概念股梳理(附:股票名单)

以下是A股华为四重曝光技术概念股梳理:华懋科技(28.550,-1.00,-3.38%):徐州博康是国内主要的产业化生产中高端光刻胶单体的企业,是国际上先进的EUV光刻胶单体发明者、生产者,单体产品覆盖全球90%以上客户群,下游客户包括Intel、JSR等。冠石科技(46.860,-2.19,-4.46%):公司的光掩膜版制造项目预计将分别于2025年...

华为又出新技术——四重曝光技术,未来极具潜力的三大概念股!

第一家:冠石科技;自对准四重图形涉及多重曝光、薄膜沉积工艺,需要用到更多掩膜版。公司拟布局以45-28nm产品为主掩膜板,明显高于目前市场第三方技术水平。第二家:国林科技;公司半导体产品下游应用领域主要包括半导体行业薄膜沉积,且SAQP多重曝光涉及大量光刻胶设备的清洗。

光刻胶概念爆火大涨5.66%,还能买?哪些光刻胶概念股最好?

截止今天收盘，光刻胶板块大涨，涨超5.66%，涉核心概念股普涨，蓝英装备大涨20%、容大感光20%涨停(www.e993.com)2024年11月19日。1、光刻胶到底是做啥的?光刻胶，也称为光致抗蚀剂（photoresist），是一种对光敏感的微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。它主要应用于电子工业领域，尤其是在集成电路、半导体分立器件、平板显示器、印刷...

3440亿的国家大基金成立!5家公司被两期大基金共同持有!

04目前,国内光刻胶市场仍有90%以上依赖进口,但未来国内光刻胶市场增速有望保持高于全球市场的增速。05A股中主要的光刻机、光刻胶概念股包括蓝英装备、容大感光、张江高科等。以上内容由腾讯混元大模型生成,仅供参考5月27日,A股芯片半导体板块大涨,其中光刻机(胶)方向领涨。蓝英装备、容大感光、张江高科等10...

...冠石科技董事长张建巍:预计2028年实现28纳米光掩膜版量产

◎冠石科技董事长张建巍表示,光掩膜版制造项目公司规划了60个月的建设周期,主要是因为有些尖端设备需要4年左右时间交付,预计在2028年实现28纳米光掩膜版的量产。◎“就生产能力而言,冠石科技的竞争对手仍是外国企业,国产化确实已经是当务之急。”总经理门芳芳说道。

冠石科技五连板后澄清与苹果相关传闻 拟募8亿加码光掩膜版仍存...

长江商报奔腾新闻记者注意到,5月31日晚间,冠石科技发布《2023年度向特定对象发行股票预案》,公司拟定增不超过2193万股股份,募资不超过8亿元用于建设光掩膜版制造项目。上述预案显示,通过实施本次募投项目,冠石科技将具备350-28nm成熟制程半导体光掩膜版的规模化生产能力(其中以45-28nm成熟制程为主)。

关勃:光刻胶之后,半导体细分的下一个机会!(附光掩膜概念股)

(附光掩膜概念股)关勃:今天接着要讲解的是一个细分领域--光掩膜,很多朋友可能没有听说过,但是光掩膜确实是非常重要,而且是国产代替中必须代替的部分。光刻胶的上涨已经给市场一个非常清晰的脉络,光刻胶的很多股票涨幅已经超过一倍,现在在关注光刻胶没有任何价值,光掩膜的炒作可能会接棒光刻胶,成为下一个热点...