半导体制造传来大消息,多股集体冲高!纳米压印概念股出炉

消息面上，10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，是最重要的半导体制造工艺。随着掩模技术的进一步改进，NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。据悉，纳米压印是一种微纳加工技术，采用传统机械模具微复型原理。纳米压印光刻造芯片通过将印有...

...半导体制造传来大消息,多股集体冲高!纳米压印概念股出炉

据科创板日报报道,纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”,担负着以低成本制成尖端微细电路的使命。日经新闻网此前称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量。纳米压印概念股出炉据证券时报·数据宝梳理,A股市场中,布局纳米压印相关业务...

不用光刻机,如何制造5nm芯片?

到时候,用纳米压印技术造DRAM、CPU等芯片自然也就不远了。在国内,纳米压印的市场也是发展得火热,不少高校像复旦、北大等都有相关的研究。前几天佳能官宣自家的纳米压印设备之后,还顺带拉动了国内相关概念股,汇创达盘中一度涨超14%。国内的一些上市企业,比如美迪凯、奥比中光、腾景科技等也都在纳米压印...

纳米压印进场搅局,是否重新洗牌光刻机市场?

直到去年12月，有消息传出佳能想给中国提供光刻机，宣称可以媲美EUV。那时正是佳能放出成功实现5nm制程这一消息的时间点。才1年不到，佳能宣布即日起(10月13日)，FPA-1200NZ2C全面接收订单，也是实现了5nm规模化量产的信号。佳能消息发出后，13日纳米压印概念股开盘随即拉升。汇创达曾涨超9%，美迪凯、晶方科...

明日主题前瞻|华为_新浪新闻

佳能的NIL技术使图案的最小线宽为14nm,随着掩模技术的进一步改进,NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm,这对应于2nm节点。市场分析指出,未来当光学光刻真正达到极限难以向前时,纳米压印技术或将是一条值得期待的路线,而那时,芯片制造或许也会迎来全新的范式,一切都会被颠覆。

【明日主题前瞻】产业链核心环节趋于成熟,工业部称2026年产业总体...

根据相关资讯,佳能等国际厂商拟试图通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产(www.e993.com)2024年11月20日。佳能的NIL技术使图案的最小线宽为14nm,随着掩模技术的进一步改进,NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm,这对应于2nm节点。市场分析指出,未来当光学光刻真正达到极限难以向前时,纳米压印技术或将是一条值得...

9月15日A股早盘策略:降准提前到来,指数怎么走?

纳米压印光刻机：佳能纳米压印光刻技术目前具备了5nm以下制程芯片的量产能力，能将制造成本降低四成，耗电量降低九成。纳米压印作为当今最具前景的纳米制造技术之一，很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。昨天苏大维格已经被资金认可了，今天如果继续走强，可以重点关注美凯迪，汇创达，秋田微的补涨机会。七彩...