深耕24年,曾单款产品销售额近亿,这家企业掌握超细内窥镜核心技术
亚毫米级(直径小于1mm)光学镜片由于镜片设计尺寸过小,无法装夹,使用传统的镜片设计经验及生产方法无法进行加工。这就要求内窥镜厂商必须在结合现有加工工艺的基础上,对亚毫米光学镜片进行特殊设计,如曲率与直径比、边缘厚与中心厚比、曲率延伸预留量、光阑刻蚀、零间隙定位和材料选择等。经过二十余年积淀,飞秒医疗已经攻...
计算级3D超景深显微系统-徕科光学-新品
LENS物镜成像要求:显微镜物镜分辨率是显微成像的根本保证,本系统采用的数值孔径N.A值从0.015---0.9(空气介质)在正确照明下,能够得到边缘犀利,细节丰富的高分辨显微图像。APO复消色差技术的镜头:APO复消色差技术,有效的解决了镜头的色差、色散以及二级光谱,并进一步提升了成像质量,将光学分辨率提升接近理论极限。LDM长...
芯片内部为什么能这么小?100多亿个晶体管是怎么装进去的?
光刻成像系统中的投影物镜的数值孔径越大,分辨能力就越优越。具体操作是设计浸润式光刻机,即在晶圆和投影物镜最后一面镜头之间填充高折射率的介质。·缩短波长光刻过程的光波长已经经历了G线(432nm)、I线(365nm)、KrF(248nm)以及ArF(193nm)的深紫外波段的发展历程,目前13.5nm波长的极紫外光刻机(EUV)...
公司前线|永新光学题材要点调整更新
通过自主研发及产学合作研发,公司掌握了超分辨显微系统的大数值孔径物镜,高性能荧光滤光片等核心部件设计与制备技术,完成FSED超分辨显微系统制造等技术,攻克了NCF950激光共聚焦系统的关键技术,并实现产业化。曾先后承担“嫦娥二,三,四号”星载光学监控镜头的制造,承制国内首台“太空显微实验仪”,为空间站航天医...
芯片内部为什么能这么小?电路城市的打造和精进
光刻成像系统中的投影物镜的数值孔径越大,分辨能力就越优越。具体操作是设计浸润式光刻机,即在晶圆和投影物镜最后一面镜头之间填充高折射率的介质。缩短波长光刻过程的光波长已经经历了G线(432nm)、I线(365nm)、KrF(248nm)以及ArF(193nm)的深紫外波段的发展历程,目前13.5nm波长的极紫外光刻机(EUV)已经投入使...
High-NA EUV光刻机入场,究竟有多强?
此外,EUV光刻机不仅调整了波长参数,还具备光源系统、光学镜头、双工作台系统等核心技术,这些技术的结合使得EUV光刻机能够实现高效的投影光刻,无损伤地处理任意图形(www.e993.com)2024年9月9日。EUV向High-NAEUV迈进ASML目前的EUV工具的数值孔径为0.33,可实现13.5nm左右的分辨率,透过单次曝光,可以产生26nm的最小金属间距和25-30nm尖端到尖端...
技术前沿:半导体光刻
具体而言二者关系公式是:公式中R代表分辨率;λ代表光源波长;k1是工艺相关参数,一般多在0.25到0.4之间;NA(NumericalAperture)被称作数值孔径,是光学镜头的一个重要指标,一般光刻机设备都会明确标注该指标的数值。所以我们在研究和了解光刻机性能的时候,一定要确认该值。在光源波长不变的情况下,NA的大小直接决定和光刻...
事关下一代EUV光刻机,ASML宣布
NA代表数值孔径,表示光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高,聚光能力越好,高NAEUV设备的NA从0.33提高到0.55。这基本上意味着设备可以绘制更精细的电路图案。为了赢得客户,英特尔比竞争对手更快地采用高数值孔径EUV。该公司于2021年重新进入代工市场,但去年该业务亏损70亿美元。
提高数值孔径是EUV光刻技术目标之一
由于聚焦镜头在光刻中起到了决定性作用,当前的技术发展一个主要的目标就是提高EUV光刻机的数值孔径(NA)。根据瑞利公式,将数值孔径从0.33增加到0.55,可以成比例地提高可实现的临界尺寸——从0.33NA系统的13nm提升到0.55NA系统的8nm。估计在2023年会有第一个0.55NAEUV系统完成研制,该系统将具有一个变形镜头系统,在...
无缘芯片代工三巨头,华为麒麟代工难寻,光学镜头成为重要突破口
回到我国光刻机镜头这里。目前能够代表我国最高光学镜头工艺的是长春国科精密,其在2018年生产的光学镜头,数值孔径为0.75NA,对标制程为65到220纳米。蔡司的EUV光学镜头为0.33SMTNA,对标制程为5到14纳米。补充一点:长春国科精密的光学镜头是干刻机、蔡司的光学镜头是EUV。上海微电子的90纳米光刻机采用的镜头...