天津工业大学 天津工业大学电子束热蒸发镀膜仪等设备购置项目...
一、项目基本情况项目编号:TJBD-2024-A-120项目名称:天津工业大学电子束热蒸发镀膜仪等设备购置项目预算金额:167.3万元最高限价:167.3万元采购需求:合同履行期限:自合同签订之日起30日内货到并完成所有设备产品的安装调试(特殊情况以合同为准)。本项目不接受联合体参与,本项目不接受进口产品二、申请人的...
镀膜机品牌及价格推荐 2024年7月镀膜机热度排名
4、电子束蒸发镀膜机(E-beamEvaporator)报价:??50万-80万品牌:型号:VS4,SEE-5S产地:欧洲厂商:载德半导体技术有限公司查看仪器详情5、全自动涂布机Slotdie狭缝式薄膜涂布机报价:??10万-30万品牌:型号:V3产地:中国大陆厂商:上海埃飞电子科技有限公司查看仪器详情6、博远微纳VPI高真...
宝来利蒸发镀膜和溅射镀膜分析
电子束蒸发,利用高速电子束加热使材料汽化蒸发,在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2,可达到3000℃以上,可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。电子束蒸发的主要原理:高真空环境下,通过电子枪发出的高能电子,在电场和磁场作用下,电子轰击靶材表面使动能转化为热能...
宝来利真空镀膜机AF膜制备原理
蒸发AF通常有两种方法,一种是石墨坩埚,一种是蒸发舟。对于石墨坩埚,度恩官方曾给出了石墨坩埚电子束蒸发时的注意事项,详见下图所示。6.须注意电子束轰击位置,并控制束流,束流一般在50mA左右,过大的束流或位置不对很容易造成AF受热分解,导致镀膜失效。除此外,还要注意以下事项。a.真空镀膜设备AF药丸拆开包装后...
薄膜沉积工艺和设备|金属|金刚石|cvd|超导材料_网易订阅
电子束蒸镀机是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等;可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜;可镀各种高熔点材料。高真空电阻热蒸发镀膜机采用电阻热蒸发技术,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积...
6.11亿,华南师范大学大批仪器采购意向
需满足的要求:供应商负责研发并提供钨吸收体生产工艺方案、研究报告及样品;样品验收合格后,批量生产至少42件钨吸收体,确保技术指标达标,质保两年(www.e993.com)2024年10月26日。150教师口语实训空间系统标的名称:教师口语实训空间系统标的数量:1主要功能或目标:考试机1、中央处理器:≥6核且≥3.0GHz;2、内存:≥16GDDR4;3、显卡:...
MEMS代工|光刻电镀刻蚀镀膜电子束直写
电子束曝光、激光直写、台式接触式光刻机、桌面式光刻机等·薄膜沉积设备ICP-PECVD、LPCVD、磁控溅射、电子束蒸发镀膜、PE-ALD、DLC薄膜沉积等、电镀(Au、Ag、Cu、Ni、Sn等)·刻蚀设备ICP—RIE、RIE、IBE、DRIE深硅刻蚀、XeF2表硅刻蚀机、HF气相刻蚀等干法刻蚀设备和满足体硅、介质膜、金属氧化物、金属...
电子束加热蒸发源研制
电子束加热蒸发源研制导读:该电子束加热蒸发源采用超高真空兼容设计(CF35法兰),具有水冷、水冷温度检测、手动挡板、线性进样、高压接口、束流检测等功能。该蒸发源可以对棒状导电材料直接进行加热蒸发,也可采用多种材料的坩埚,对粉末、半导体以及绝缘体材料进行热蒸发。
光刻机发展要另辟蹊径?
三、使用能量回收型直线加速器(ERL)的FEL(自由电子激光)方案,这种光源的极限功率也很高,最高可达10kW。根据日本高能加速器研究机构给出的数据,FEL可以做到近LPP方案七分之一的耗电成本。不过,这种光源存在不少需要突破的技术难点,而且造价高昂。四、基于稳态微聚束(Steady-statemicrobunching,SSMB)技术的粒子加速器...
深耕PVD镀膜材料二十载,阿石创:技术延伸,PET铜箔业务有望崛起
公司现具备真空镀膜机、烧结系统、等离子喷涂设备、电子束焊机等主要生产设备250余台(套),GDMS质谱仪、扫描电镜、光谱仪、真空镀膜机等研发和检测设备100多台(套);公司设立研发中心,集研发、检测为一体。目前,公司已累计获得授权专利百余项,获得国家级高新技术企业、工信部“专精特新”小巨人企业等荣誉。