哈工大(深圳)顶刊:二维集成电路领域取得重要研究进展!

在二维晶体管器件结构中,通常采用薄膜沉积技术(如原子层沉积,ALD)在沟道表面沉积具有高介电常数的氧化物(如HfO2、Al2O3等)作为电介质层,但该方法会引入较高的缺陷密度和较差的界面质量,导致晶体管漏电流增加和沟道载流子散射等问题,进而影响晶体管性能。将单晶栅介质与二维沟道半导体进行范德华(vdW)异质集成是提高...

科学家打造新型半导体薄膜晶体管,能在垂直方向实现接近无限制的堆叠

在这一技术的帮助之下,他们打造出一个10层的金属氧化物半导体薄膜晶体管,让晶体管的密度和效率实现了最大化,并能降低互联散热的问题。通过此,他们开发出一种低温金属氧化物3D薄膜晶体管堆叠技术,为电子技术的发展奠定了一定基础。(来源:NatureElectronics)预计这一成果将能用于以下领域:其一,能用于移动...

全球及中国氧化物薄膜晶体管行业布局分析及投资潜力研究报告

6.3全球当前及未来对氧化物薄膜晶体管需求量最大的下游领域6.4中国当前及未来对氧化物薄膜晶体管需求量最大的下游领域6.5国内销售渠道分析及建议6.5.1当前的主要销售模式及销售渠道6.5.2国内市场氧化物薄膜晶体管未来销售模式及销售渠道发展趋势6.6企业海外销售渠道分析及建议6.6.1...

中国科学院微电子所刘明&李泠团队:薄膜晶体管技术发展规律,共性...

以金属氧化物半导体为代表的新型薄膜晶体管器件由于漏电极低,便于三维堆叠集成的优势,逐渐成为学术界和产业界关注的前沿领域之一,特别是近年来提出的基于2T0C和CAA结构的DRAM使得薄膜晶体管技术有望成为3DDRAM的未来方向之一。

【复材资讯】研究前沿:Nature Electronics-薄膜晶体管

相比于互补金属氧化物半导体complementarymetal–oxide–semiconductor(CMOS)晶体管，薄膜晶体管以更低的加工温度和成本，实现了大面积（在玻璃或柔性基板上）的均匀制造。这些薄膜晶体管，用于平板显示器和X射线探测器等诸多应用，并在一系列新兴应用中，也具有潜在用途。中国科学院微电子研究所DiGeng,KaiWang，...

7/25 南浔|上海交通大学郭小军:电子纸薄膜晶体管背板技术(附完整...

大会将邀请专家和企业代表,就技术创新和终端应用进行专业分析与深度解读,推动低碳显示在智慧交通、智慧教育、智慧医疗等领域应用的进一步拓展,促进行业间的交流与合作,共同助力经济社会的绿色转型升级(www.e993.com)2024年11月20日。演讲嘉宾上海交通大学集成电路学院常务副院长郭小军演讲主题:《电子纸薄膜晶体管背板技术》...

半导体专题:一文看懂薄膜生长

总体而言,薄膜生长在现代科技和工业中扮演着关键角色,为各种应用领域提供了新的材料和性能。1.2薄膜在科技和工业中的应用薄膜在科技和工业中有广泛的应用,涵盖了多个领域。以下是一些薄膜在不同应用中的具体用途:(1)半导体和电子器件制造:-薄膜晶体管(TFT):用于液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)等平面...

基鳄三点半:聚焦发布,洞察消费电子板块未来

晶圆厂前期的资本开支差不多有80%要投入到设备领域,设备领域的光刻机、刻蚀机等设备大约占到20%的市场规模。虽然说国内光刻机的国产替代能力比较薄弱,但是刻蚀机和薄膜沉积的设备基本上进入到了全球比较领先的地位,能够做到国产替代,从这个角度上来看国内相关的头部厂商基本面或者业绩的韧性也会比较强,兑现性也会比较...

一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻

刻蚀工艺通过去除特定区域的材料,形成微观结构和电路图形,这些结构决定了半导体器件的性能和功能。刻蚀工艺能够实现纳米级别的精度,这是制造高密度、高性能集成电路(IC)的基础。例如,现代微处理器的晶体管尺寸已经缩小到纳米级别,这需要刻蚀工艺能够精确地去除材料,形成极其微小的结构。

【媒体报道集锦】华理团队研发通用晶体生长技术获媒体关注

以胸透成像为例,基于此晶片的器件比常规医疗诊断所需的辐射强度低100倍。“预计在一年内,在一个结晶周期内单晶薄膜尺寸可达3~4厘米,可以进一步往产业化进行推进。”侯宇教授表示,未来的攻关主要包括十英寸级晶圆可控制备、薄膜晶体管耦联技术和开发动态高分辨成像技术这3个方向。