重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

尽管中国28纳米光刻机的研发成功令人欢欣鼓舞，但我们也要保持清醒的头脑，认识到当前全球最先进的EUV技术仍被欧美国家“掌控”。然而，这并不意味着我们没有机会。正如古语所云：“行百里者半九十。”中国的光刻机之路，尽管充满挑战，但我们已经在这条征途上迈出了“坚实的步伐”。未来，中国的光刻机研发不仅要...

科技突破:中国成功研发氟化氩光刻机,西方优势不再

这种精度的光刻机虽然还不能用于制造最先进的手机芯片，但在军事领域完全够用，因此它绝非没有实际意义。更重要的是，这台光刻机给了西方一个强烈的信号：别以为封锁了中国的技术，中国就会认输。现在我们已经掌握了独立的光刻机技术，实现了从到1的突破，未来的追赶只是时间问题。这种突破，堪称是给某些国家来了个...

美荷网友同时发声,对中国独立研发的光刻机技术给予强烈批评!

根据官方给出的数据来看,中国的这一款光刻机最小分辨率为65nm,最小套刻精度是8nm,和荷兰ASML的XT1460K差不多,也就是相当于欧美2020年的技术水平。客观来说,这个精度并不算太先进,想要赶超荷兰目前的水平还是很难的,因此也有人唱衰这款光刻机。研究出来了但远远不如别人,不还是被会被别人卡脖子吗?就连...

荷兰光刻机巨头CEO:美对华出口限制将推动中国成功研发自己的技术

环球网报道记者祁玥据彭博社报道,荷兰光刻机巨头阿斯麦公司首席执行官温宁克当地时间25日在荷兰维尔德霍芬的公司总部接受采访时表示,美国主导的针对中国的半导体出口管制措施,最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术。彭博社报道称,温宁克表示,中国的半导体公司“必须参与全球竞争”,所以他们才...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

中国光刻机的未来:从艰难起步到技术腾飞尽管中国的光刻机技术起步较晚,但其发展速度令人惊叹。此次推出的65纳米光刻机,虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距,但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域,28纳米及以上的芯片需求庞大,而中国自主研发的光刻机正好填补了这一...

美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸

从“氟化氩光刻机”的参数来看,其分辨率≤65nm,套刻≤8nm(www.e993.com)2024年11月11日。按套刻精度与量产工艺1:3的关系,这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片,虽然与国外先进的光刻机存在比较大的代差,但这是一个不小的进展。这个消息传出,美国论坛乱了,美国网友惊讶表示:“未获美国首肯,中国怎敢擅自研发DUV光刻机?”...

美梦惊醒!中国国产光刻机官宣后,美国砸30亿投入研发新能源汽车

这确实是很大的进步，可7nm以下工艺的芯片目前还只能靠ASML的高端光刻机来生产呢。但这也表明我国的潜力是无穷的呀，我相信随着技术不断发展，我国肯定能达成在半导体行业领先世界的心愿。我国除了在半导体领域表现突出外，其他先进技术更是让美国破防，美智库的报告就表明美国已经有危机感了。美智库的报告在10个...

中国自主研发光刻机:将突破5nm,找回中国半导体产业失去的30年

机关算尽一场空。美国人万万没想到,其在半导体行业,针对我国数年的科技封锁、贸易限制等一系列“卡脖子”战略,非但没有让我们屈服,反而激发中国科技自主研发进程。光刻机技术迅速崛起,7nm胜利在望,5nm也将获得突破,我们落后于世界半导体行业发展的30年,亦将一一补齐。

中国光刻机晚事:研发比ASML早20年,却落后这么久呢?

由此可见,中国起步虽然比ASML早20年,但中间其实又耽搁了20来年,再加上各种原因,比如后来美国的打压限制,以及机遇,ASML设的坎等等,最终造成了当前这种现象。但不管怎么样,研发光刻机,我们没有退路,再难也得研发出来,否则就会一直被人卡住脖子,先进工艺的芯片就会受限,这是我们不能接受的。

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

目前光刻机国产化率仅为2.5%,整机技术与海外差距较大,短期5-10年内一方面重点发展90、28nm光刻机的研发量产较为关键,一方面重点布局国内半导体零组件发展。根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核...