美国再次施压,荷兰停止维护中国光刻机!ASML:契约精神我说了算
比如,在芯片设计领域,华为海思、寒武纪等公司都取得了不小的成绩,在制造设备方面,中微公司的刻蚀机已经开始在一些领域替代进口产品。当然,我们也不能否认,在最尖端的技术上,中国确实还有不小的差距,特别是在EUV光刻机这种“卡脖子”技术上,短期内想要完全自主研发确实很难。但是,这并不意味着中国就没有出路了。
100%自主可控,中企再传喜讯,重要性不亚于EUV光刻机
刻蚀机的自主可控,其重要性不言而喻。它与光刻机并称为芯片制造的两大核心设备,任何一环的缺失都将严重制约整个产业链的发展。而中微半导体的这一突破,无疑为国产芯片产业链的建设又添上了浓墨重彩的一笔。但中微半导体的脚步并未停歇,他们又将目光投向了电子束检测设备这一新的领域。作为当前国内仅次于光刻...
大量采购ASML光刻机:国产光刻机正经历黎明前的黑暗
从目前来看,芯片设计之类的应用技术我们要追上并不难,但光刻机这种属于基础科学领域的东西,和西方差距确实非常大,这也源于过去某个阶段,被造不如买的思维误导,在上世纪70年代,中国首台高端光刻机还曾经赴法国参展,但后来停滞了数十年的研发时间,由此导致了今天的落后。中科院院士白春礼近期在接受财经专访时也直指...
100%自主可控,中企再传喜讯,重要性仅次于光刻机
而刻蚀机的自主可控,其重要性一点都不弱于光刻机的自主可控,另外,尹志尧还表示,将开始进入电子束检测设备的研发,因为,从目前的情况来看,我国在电子束检测设备领域也存在着短板,据悉,电子束检测设备是目前国内仅次于光刻机以外,短板最大的设备。虽然说,从技术角度来看,无论是刻蚀机还是电子束检测设备的实现...
3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?
图:EUV光刻机原理第三步:多重图案技术的必要性。尽管EUV光源能实现更小的特征尺寸,但有时单次曝光仍不足以达到需要的精度和密度。这时我们需要用到多重图案技术(Multi-Patterning)。这是一种通过多次曝光和刻蚀来实现更高分辨率的方法。图:双重曝光增加了器件密度...
30家光刻机概念上市公司18项核心发展指标大比拼!
同飞股份(300990)涨幅11.84%,公司液体恒温设备在半导体制造设备领域主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制;凯美特气(002549)涨幅10%,控股子公司凯美特电子特种稀有气体有限公司光刻气产品获得ASML子公司Cymer公司合格供应商认证(www.e993.com)2024年9月8日。东方嘉盛(002889)涨幅10%,公司上半年向深圳海关申请...
EUV光刻机,大结局?
从长远来看,一方面,有更高NA(比如NA提高到0.70)的EUV光刻机和波长为6.Xnm的BEUV(BeyondExtremeUltraviolet,超越极紫外)光刻机两种选择。后者的可能性更大一些,主要原因是同等分辨率下,波长为6.Xnm的BEUV光刻机比波长为13.5nm的EUV光刻机具有更大的焦深DoF,带来更大的工艺容忍度。
中微公司获103家机构调研:公司目前订单充足,预计2024年前三季度的...
未来由于光刻机的波长限制,更小的微观结构要靠等离子体刻蚀和薄膜的组合“二重模板”和“四重模板”工艺技术来加工,刻蚀机和薄膜设备的重要性不断提高。同时,我们也看到存储器件从2D至3D的转换的过程中,需要大量采用多层材料薄膜沉积和极高深宽比结构的刻蚀,等离子体刻蚀和薄膜制程成为最关键的步骤。因此,我们相信...
尼康半导体事业部总经理: 光刻机企业在中国的压力和机会
第一财经记者注意到,尼康计划2024年面向中国市场重点发布了两款光刻机产品,据展台工作人员介绍,其中一款名为NSR-2205iL1的i线步进式光刻机是尼康近年来发布的首款可对碳化硅材质晶圆进行刻蚀的光刻机。而类似面向碳化硅的光刻机产品在其竞争对手佳能的展台上也可看见。
光刻机带火半导体设备!龙头16天股价接近翻倍,上半年A股上市公司...
如上图所示,刻蚀机(20%)的价值量仅次于光刻机(30%),中微公司为刻蚀设备本土替代领军者,华鑫证券毛正等9月14日研报指出,中微公司上半年实现营收25.27亿元,同比增长28.13%。分产品来看,公司刻蚀设备在国内外的市占率不断提高,实现收入17.22亿元,同比增长约32.53%;MOCVD设备在蓝绿光LED生产线上继续保持绝对领先的地位...